一種局部對流加熱的電磁線盤及電磁烹飪器具的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種局部對流加熱的電磁線盤及電磁烹飪器具，涉及廚房烹飪【技術領域】，解決了局部對流加熱線圈電磁線圈的電控成本較高的問題。本實用新型實施例一種局部對流加熱的電磁線盤，包括線盤支架、線圈盤和磁條，線圈盤包括繞裝在線盤支架上的內環(huán)線圈和外環(huán)線圈，所述線圈盤還包括繞裝在外環(huán)線圈處的對流加熱線圈，對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間層疊設置，并且對流加熱線圈按陣列間隔分布在內環(huán)線圈外側。本實用新型實施例主要用于電磁爐，可以是平面加熱時的電磁爐，也可以是具有凹面加熱的電磁爐。
【專利說明】一種局部對流加熱的電磁線盤及電磁烹飪器具
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及廚房烹飪【技術領域】，尤其涉及一種局部對流加熱的電磁線盤及電磁烹飪器具。
【背景技術】
[0002]電磁爐是廚房烹飪中一種重要產(chǎn)品，采用無明火的電磁加熱原理，為了達到較好的烹飪效果，電磁爐產(chǎn)品的設計一直希望能夠模擬傳統(tǒng)明火加熱效果。明火加熱的一個重要細節(jié)就是內圈火焰和外圈火焰的加熱熱量不同，并且外圈火焰在不同位置的加熱熱量也存在差異，尤其是使用傳統(tǒng)的燒柴生火中體現(xiàn)的更為明顯，這種明火烹飪能夠使得加熱過程中在烹飪鍋具中產(chǎn)生局部對流。
[0003]中國專利申請CN201110363062.5中公開了一種環(huán)火加熱的方案，通過環(huán)形分布的線圈繞組模擬內圈火焰和外圈火焰。中國專利申請CN201180043899.X中公開了一種模擬明火加熱效果的電磁線盤，將電磁線盤上具有內環(huán)線圈和外環(huán)線圈，以便模擬明火加熱的內圈火焰和外圈火焰；并且現(xiàn)有電磁線盤還將外環(huán)線圈設計為呈圓周排列的多個小線圈，通過多個小線圈使得外環(huán)線圈實現(xiàn)不同位置的加熱熱量差異。
[0004]在實現(xiàn)和使用上述電磁線盤過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術中至少存在如下問題:
[0005]第一、中國專利申請CN201110363062.5提供的方案僅僅能夠實現(xiàn)內外環(huán)加熱，不能實現(xiàn)局部的對流加熱，無法真正意義上模擬明火烹飪。
[0006]第二、中國專利申請CN201180043899.X所采用的方案，為了保證加熱功率，需要增加小線圈繞制圈數(shù)，如增加小線圈的繞制層數(shù)、增加小線圈每層的繞制圈數(shù)等。經(jīng)過實用新型人多次試驗發(fā)現(xiàn)，采用這種多個小線圈的方案，在保證加熱功率的情況下，在電磁線圈中會產(chǎn)生較大的電流，導致控制電磁線圈工作的IGBT會產(chǎn)生過大電流，導致IGBT溫升太高，不能滿足設計要求，而現(xiàn)有技術中的解決方案一般是為每個小線圈配備相應的IGBTji每個小線圈進行單獨控制，這必將增加電控方案的成本。
實用新型內容
[0007]本實用新型所要解決的技術問題在于克服現(xiàn)有技術的不足而提供一種局部對流加熱的電磁線盤及電磁烹飪器具，能夠以較低成本模擬傳統(tǒng)的明火加熱效果，使得烹飪過程中產(chǎn)生局部對流。
[0008]為達到上述目的，本實用新型采用如下技術方案:
[0009]一種局部對流加熱的電磁線盤，包括線盤支架、線圈盤和磁條，線圈盤包括繞裝在線盤支架上的內環(huán)線圈和外環(huán)線圈，其特征在于，所述線圈盤還包括繞裝在外環(huán)線圈處的對流加熱線圈，對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間層疊設置，并且對流加熱線圈按陣列間隔分布在內環(huán)線圈外側，所述電磁線盤的額定功率為300W?3000W。
[0010]所述對流加熱線圈位于外環(huán)線圈上方，或者外環(huán)線圈位于對流加熱線圈上方。
[0011]所述對流加熱線圈在內環(huán)線圈外側按圓周陣列且均勻間隔分布。[0012]所述線盤支架上設有繞裝對流加熱線圈的對流繞線架。
[0013]所述繞線支架上還設有繞裝外環(huán)線圈的外環(huán)繞線架，對流繞線架與外環(huán)繞線架一體成型。
[0014]所述對流繞線架的上部朝圓周方向設有限位凸起，限位凸起對對流加熱線圈進行限位。
[0015]所述對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間設有絕緣片。
[0016]所述對流加熱線圈的面積與其所對應外環(huán)線圈的面積比為:0.4?0.85。
[0017]所述對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間相互串聯(lián)。
[0018]一種局部對流加熱的電磁烹飪器具，包括器具本體和安裝在本體上的電磁線盤，所述電磁線盤為上述電磁線盤。
[0019]本實用新型提供的局部對流加熱的電磁線盤及電磁烹飪器具，采用內環(huán)線圈和外環(huán)線圈進行環(huán)火加熱，實現(xiàn)內外環(huán)對流加熱，并且在外環(huán)線圈上設置了對流加熱線圈，具有對流加熱線圈和外環(huán)線圈能夠使得外環(huán)的局部加熱功率較高，能夠實現(xiàn)局部對流加熱。而在外環(huán)同時采用外環(huán)線圈和對流加熱線圈則可以較好地提高外環(huán)加熱功率，不需要如現(xiàn)有技術中的方案設置過多的對流加熱線圈，在保證加熱功率的情況下可以適當降低線圈中的電流，可以有效防止控制電磁線圈工作的IGBT會產(chǎn)生過大電流，降低IGBT的溫升，不需要對每個周邊線圈進行單獨控制，采用現(xiàn)有的電控系統(tǒng)即可實現(xiàn)外環(huán)局部對流加熱。
[0020]故而采用本實用新型實施例提供的電磁線盤方案，可以在減少IGBT數(shù)量且減少電控系統(tǒng)修改的情況下，能夠更好地模擬傳統(tǒng)的明火加熱效果，降低了局部對流加熱方案的電控成本。
[0021]現(xiàn)有技術CN201110363062.5提供的方案雖然能夠實現(xiàn)多環(huán)加熱，但是依然不能實現(xiàn)局部對流加熱，我本實用新型提供的方案是不僅能夠實現(xiàn)局部對流加熱，而且比現(xiàn)有技術CN201180043899.X所提供方案中的線圈電流低，本實用新型實施例通過在外環(huán)線圈上層疊設置對流加熱線圈，使得既能降低線圈電流又能實現(xiàn)局部對流加熱，可以采用較低成本的電控方案模擬明火烹飪效果。本領域技術人員在CN201110363062.5和CN201180043899.X的結合下難以得出在外環(huán)線圈上層疊設置對流加熱線圈的方案，本實用新型是實用新型人在經(jīng)過創(chuàng)造性勞動得出的創(chuàng)造性成果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0023]圖1為本實用新型實施例中電磁線盤的底部示意圖；
[0024]圖2為本實用新型實施例中電磁線盤的頂部示意圖；
[0025]圖3為本實用新型實施例中電磁線盤中設有絕緣片的示意圖。
[0026]附圖標記:10_線盤支架，11-對流繞線架，12-限位凸起；20_線圈盤，21-內環(huán)線圈，22-外環(huán)線圈，23-對流加熱線圈，24-絕緣片；30_磁條?！揪唧w實施方式】
[0027]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0028]本實用新型實施例提供一種局部對流加熱的電磁線盤，如圖1所示，該電磁線盤包括線盤支架10、線圈盤20和磁條30，其中磁條可以采用彈性卡扣扣裝在線盤支架上，并且可以多根磁條并排安裝。為了能夠實現(xiàn)內外環(huán)火加熱，本實用新型實施例中的線圈盤20包括繞裝在線盤支架上的內環(huán)線圈21和外環(huán)線圈22，通過內環(huán)線圈21和外環(huán)線圈22實現(xiàn)內外環(huán)火以模擬明火加熱的效果，這里的內環(huán)線圈21是指位于線盤中心的主加熱線圈，而外環(huán)線圈22是指位于內環(huán)線圈外側的線圈，本領域技術人員可以根據(jù)需要增加外環(huán)線圈的環(huán)數(shù)，如外環(huán)采用一環(huán)線圈，則實現(xiàn)內外雙環(huán)加熱，如果外環(huán)采用兩環(huán)線圈，則可以實現(xiàn)三環(huán)火加熱。
[0029]下面以外環(huán)線圈為一環(huán)線圈為例進行本實用新型實施例的進一步說明，外環(huán)線圈一般繞制多層，為了能夠實現(xiàn)局部對流加熱，如圖2所示，本實用新型實施例中的線圈盤還包括繞裝在外環(huán)線圈22處的對流加熱線圈23，其中外環(huán)線圈22與內環(huán)線圈21同心繞裝在線盤支架上，采用繞線盤中心的方式繞制，而對流加熱線圈23與外環(huán)線圈22層疊設置，對流加熱線圈23 —般是多個，并且按陣列間隔分布在內環(huán)線圈21的外側，使得每個對流加熱線圈23不是繞線盤中心繞制，而是在內環(huán)線圈21外側繞某一點繞制，具體每個對流加熱線圈23的形狀可以是圓形、橢圓形，或者對流加熱線圈23盡量與內環(huán)線圈外形貼近形成腰形。
[0030]本實用新型中電磁線盤的額定功率為300W?3000W，如果該電磁線盤運用于電飯煲、電壓力煲等，其額定功率一般選擇800W、1000W、1200W、1400W ;如果該電磁線盤運用于電磁爐,其額定功率一般選擇 1400W、1600W、1800W、2000W、2100W、2200W 等。
[0031]為了更清楚地體現(xiàn)對流加熱線圈23的形狀，圖3中的外環(huán)線圈被絕緣片遮擋，僅僅將線盤支架上的對流加熱線圈23顯示出，可以明顯地看到對流加熱線圈23在線盤支架10上的繞制方式。
[0032]具有對流加熱線圈和外環(huán)線圈能夠使得外環(huán)部分局部加熱功率較高，能夠實現(xiàn)局部對流加熱，并且可以較好地提高外環(huán)線圈的加熱功率，不需要設置過多的對流加熱線圈，在保證加熱功率的情況下可以適當降低線圈中的電流，可以有效防止控制電磁線圈工作的IGBT會產(chǎn)生過大電流，降低IGBT的溫升，不需要對每個對流加熱線圈23進行單獨控制，采用現(xiàn)有的電控系統(tǒng)即可實現(xiàn)局部對流加熱。
[0033]故而采用本實用新型實施例提供的電磁線盤方案，可以在減少IGBT數(shù)量且減少電控系統(tǒng)修改的情況下，能夠更好地模擬傳統(tǒng)的明火加熱效果，降低了局部對流加熱方案的電控成本。
[0034]本實用新型實施例所述的按陣列分布可以是按照不規(guī)則的陣列分布，也可以是按照規(guī)則的陣列分布，一般情況下，本領域技術人員優(yōu)先選擇如下兩種分布方式:第一、如圖2和3所示，該方案中的對流加熱線圈23在內環(huán)線圈21外側按圓周陣列且均勻間隔分布，此處對流加熱線圈23之間需要保留一定間隔，使得外圈線圈對應部分的加熱效率存在差異，以便模擬明火加熱效果；第二、本方案中的對流加熱線圈在內環(huán)線圈外側按矩形陣列且均勻間隔分布，矩形排列可以適用于特殊鍋具形狀，如方形煎鍋等。
[0035]為了保證對流加熱線圈不會造成線圈中電流過大，本實用新型實施例中的對流加熱線圈需要限制層數(shù)，一般情況下最多將對流加熱線圈做到兩層，而本實用新型實施例中優(yōu)先采用一層對流加熱線圈的方案，以便能夠盡量降低線圈中的電流，有效防止控制電磁線圈工作的IGBT會產(chǎn)生過大電流，降低IGBT的溫升，使得通過較少的IGBT進行電磁線盤的加熱控制，降低成本。同時為了保證加熱功率，本實用新型實施例中的外環(huán)線圈的層數(shù)一般選擇一層至四層，如采用一層外環(huán)線圈或采用四層外環(huán)線圈都可以，優(yōu)選方案是采用兩層或三層外環(huán)線圈，以便在保持加熱功率的同時能夠適當降低電磁線盤的厚度。
[0036]本實用新型實施例中對流加熱線圈23和外環(huán)線圈22之間可以采用但不限于如下設置方式:
[0037]第一、對流加熱線圈23與外環(huán)線圈22之間相互交錯層疊，在具有多層的情況下，可以每隔一層對流加熱線圈繞制一層外環(huán)線圈，使得外環(huán)線圈之間形成較大空隙，有利于電磁線盤的散熱。
[0038]第二、如圖2所示，將對流加熱線圈23繞制在外環(huán)線圈22上方，這里的上方是指電磁爐在位于正常工作狀態(tài)下的上部方位，采用該方案可以使得對流加熱線圈23更接近被加熱鍋具，較好地體現(xiàn)對流加熱線圈23的局部加熱效果。
[0039]第三、將外環(huán)線圈22繞制在對流加熱線圈23上方，可以使得遠離被加熱鍋具的線圈數(shù)量較少，而離被加熱鍋具的線圈數(shù)量較多，增加電感衰減，從而降低IGBT的反壓。
[0040]如圖3所示，本實用新型實施例還可以在對流加熱線圈23與外環(huán)線圈22之間設有絕緣片24，以使得繞制對流加熱線圈時不受外環(huán)線圈干擾，并且能夠防止對流加熱線圈23與外環(huán)線圈之間形成短路。
[0041]線盤支架10上一般設置相應的繞線隔板，繞線隔板之間形成繞線槽，線圈盤可以繞設在繞線槽內，為了能夠繞制周邊線圈，如圖2和圖3所示，本實用新型實施例在線盤支架上設有繞裝對流加熱線圈的對流繞線架11。
[0042]所述繞線支架上還設有繞裝外環(huán)線圈的外環(huán)繞線架，對流繞線架11與外環(huán)繞線架一體成型。具體而言就是在繞線支架上設有多組呈輻條狀分布的外環(huán)隔板，這種呈輻條狀分布的外環(huán)隔板一般是對應磁條安裝槽設置的，本實用新型實施例中的外環(huán)線圈繞制在相鄰外環(huán)隔板之間，并且每組外環(huán)隔板上方可以分別繞設有一個對流加熱線圈，從而形成按陣列分布的對流加熱線圈。一般一組外環(huán)隔板形成一個幾何圖形，對流加熱線圈可以從該幾何圖形的外圍往中部繞制，也可以從該幾何圖形的中部往外圍繞制。
[0043]為了能夠更好地固定周邊線圈，如圖3所示，本實用新型實施例在對流繞線架11的上部朝圓周方向設有限位凸起12，限位凸起12對對流加熱線圈23進行限位，也就是對流加熱線圈23所采用的漆包線沿著對流繞線架形成的槽繞制到槽的末端時，將漆包線反向繞回的情況下，通過該限位凸起12對掉頭的漆包線進行限位，防止對流加熱線圈23脫落。
[0044]為了平衡加熱功率和對流加熱效果，本實用新型實施例中對流加熱線圈的面積與其所對應外環(huán)線圈的面積比為=0.4?0.85，該面積比例優(yōu)選采用0.5,0.6,0.65等。
[0045]本實用新型實施例中的多個對流加熱線圈之間相互串聯(lián)，使得通過一個IGBT就能夠控制對流加熱線圈。并且本實用新型實施例中的多個對流加熱線圈的串聯(lián)連接順序與內環(huán)線圈的繞裝方向相同，具體如圖2所示，采用該方案可以能夠提高電磁線盤產(chǎn)生的磁場強度。
[0046]為了方便繞制外環(huán)線圈，本實用新型實施例中對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間相互串聯(lián)，并且最好采用一股漆包線繞制對流加熱線圈和外環(huán)線圈。
[0047]本實用新型實施例中的內環(huán)線圈和外環(huán)線圈之間可以并聯(lián)連接，也可以串聯(lián)連接，采用并聯(lián)連接的方案可以實現(xiàn)內外環(huán)分別加熱，更好地實現(xiàn)內外環(huán)對流。
[0048]以上實施例中主要針對外環(huán)線圈具有一環(huán)線圈的情況進行說明，在實際運用時，外環(huán)線圈還可以包括至少兩環(huán)線圈，并且外環(huán)線圈中的至少一環(huán)處設有所述對流加熱線圈，假設外環(huán)線圈具有兩環(huán)，本實用新型實施例可以在內側一環(huán)處設置對流加熱線圈，也可在外側一環(huán)處設置對流加熱線圈，也可以在內外側的兩環(huán)處均設置對流加熱線圈，并且具體設置對流加熱線圈的方式與上述實施例完全相同，此處不再贅述。
[0049]本實用新型實施例提供一種局部對流加熱的電磁烹飪器具，該器具本體和安裝在本體上的電磁線盤，并且所述電磁線盤為上述實施例提供的具有對流加熱線圈的電磁線盤，本實用新型中的電磁烹飪器具可以是各種采用電磁加熱的廚房電器，如電磁爐、電磁加熱電壓力鍋、電磁加熱電飯煲等等。
[0050]本實用新型實施例主要用于電磁爐，可以是平面加熱時的電磁爐，也可以是具有凹面加熱的電磁爐，平面加熱的電磁爐對應的線盤支架為平面狀，凹面加熱的電磁爐對應的線盤支架為凹面狀。
[0051]以上所述，僅為本實用新型的【具體實施方式】，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術領域】的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。因此，本實用新型的保護范圍應以權利要求的保護范圍為準。
【權利要求】
1.一種局部對流加熱的電磁線盤，包括線盤支架、線圈盤和磁條，線圈盤包括繞裝在線盤支架上的內環(huán)線圈和外環(huán)線圈，其特征在于，所述線圈盤還包括繞裝在外環(huán)線圈處的對流加熱線圈，對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間層疊設置，并且對流加熱線圈按陣列間隔分布在內環(huán)線圈外側，所述電磁線盤的額定功率為300W?3000W。
2.根據(jù)權利要求1所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流加熱線圈位于外環(huán)線圈上方，或者外環(huán)線圈位于對流加熱線圈上方。
3.根據(jù)權利要求1所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流加熱線圈在內環(huán)線圈外側按圓周陣列且均勻間隔分布。
4.根據(jù)權利要求1所述的電磁線盤，其特征在于，所述線盤支架上設有繞裝對流加熱線圈的對流繞線架。
5.根據(jù)權利要求4所述的電磁線盤，其特征在于，所述繞線支架上還設有繞裝外環(huán)線圈的外環(huán)繞線架，對流繞線架與外環(huán)繞線架一體成型。
6.根據(jù)權利要求4所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流繞線架的上部朝圓周方向設有限位凸起，限位凸起對對流加熱線圈進行限位。
7.根據(jù)權利要求1所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間設有絕緣片。
8.根據(jù)權利要求1至7中任意一項所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流加熱線圈的面積與其所對應外環(huán)線圈的面積比為:0.4?0.85。
9.根據(jù)權利要求1至7中任意一項所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間相互串聯(lián)。
10.一種局部對流加熱的電磁烹飪器具，包括器具本體和安裝在本體上的電磁線盤，其特征在于，所述電磁線盤為權利要求1至9中任意一項所述的電磁線盤。
【文檔編號】H05B6/44GK203827543SQ201420096323
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2014年3月4日 優(yōu)先權日:2013年6月18日
【發(fā)明者】朱澤春, 田海峰, 王濤, 喬中義 申請人:九陽股份有限公司