一種濕法刻蝕裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種濕法刻蝕裝置，所述裝置至少包括：腐蝕槽以及至少兩個過濾器；所述腐蝕槽與每個過濾器通過第一、第二管道連接；所述第一、第二管道上分別對應設有第一、第二閥門；所述第一閥門與所述過濾器之間設有與所述第一管道相通的進液管；所述第二閥門與所述過濾器之間設有與所述第二管道相通的出液管。本實用新型的濕法刻蝕裝置通過增加連接在腐蝕槽上的過濾器使得濕法清洗過程與清洗過濾器的過程互不影響，清洗過濾器時不會對腐蝕槽造成侵蝕，延長腐蝕槽的使用壽命；同時不用拆卸清洗裝置即可將過濾器中的雜質清除，提高過濾器清洗效率,從而降低腐蝕槽內雜質含量。
【專利說明】一種濕法刻蝕裝置

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種半導體制程設備，特別是涉及一種濕法刻蝕裝置。

【背景技術】
[0002]在半導體制程中，濕法刻蝕通常是將帶有二氧化硅以及氮化硅的晶圓置于腐蝕槽中對晶圓進行腐蝕；如圖1所示，圖1表示的是現有技術中的濕法刻蝕裝置；其中腐蝕槽10中常常承載有磷酸溶液，為了提高氮化硅薄膜對二氧化硅的刻蝕選擇比，磷酸被廣泛地應用于氮化硅薄膜的刻蝕。由于腐蝕過程中，二氧化硅與磷酸溶液中的水反應生成的硅化物會形成不溶于磷酸的沉淀顆粒，而這些顆粒一方面可以導致浸泡在磷酸溶液中的晶圓16由于粘附硅化物顆粒而產生缺陷；為了使得磷酸溶液中的硅化物顆粒盡量少并且盡可能減小對晶圓造成的缺陷；與所述腐蝕槽10相通并相互連接的過濾器11用于在濕法清洗過程中過濾磷酸溶液中的硅化物沉淀。
[0003]在濕法刻蝕裝置中，磷酸溶液通過位于所述腐蝕槽底面的若干進液口 101進入腐蝕槽中，磷酸溶液充分與晶圓表面接觸腐蝕后，通過與腐蝕槽10連接的第一管道12進去過濾器11中，然后磷酸溶液中的硅化物被過濾器過濾后又經過第二管道13進入腐蝕槽中，如此循環(huán)若干次待腐蝕完成后，腐蝕槽中的廢液通過位于腐蝕槽10底部的若干排液口 102排出。
[0004]而在現有的濕法刻蝕裝置中，由于過濾器中長期積累雜質可能將過濾器堵塞；在過濾進行若干次后，技術人員需要對過濾器進行清洗或者更換新的過濾器，其中一種清洗方法是清將過濾器拆卸下來對過濾器進行清洗，而該過程復雜繁瑣，延長待機時間，使得生產不得不停止且費時費力；另一種清洗方式是將濕法刻蝕過程中的磷酸替換為氫氟酸溶液對來溶液過濾器中的雜質，現有的腐蝕槽材料一般是石英，而氫氟酸對石英會造成腐蝕，使得腐蝕槽的使用壽命大大減小。
[0005]因此，有必要提出一種新的濕法刻蝕裝置來解決上述問題。
實用新型內容
[0006]鑒于以上所述現有技術的缺點，本實用新型的目的在于提供一種濕法刻蝕裝置，用于解決現有技術中清洗過濾器過程中需要拆卸機臺延長停機時間以及直接清洗時對腐蝕槽造成腐蝕而減小腐蝕槽使用壽命的問題。
[0007]為實現上述目的及其他相關目的，本實用新型提供一種濕法刻蝕裝置，所述裝置至少包括:腐蝕槽以及至少兩個過濾器；所述腐蝕槽與每個過濾器通過第一、第二管道連接；所述第一、第二管道上分別對應設有第一、第二閥門；所述第一閥門與所述過濾器之間設有與所述第一管道相通的進液管；所述第二閥門與所述過濾器之間設有與所述第二管道相通的出液管。
[0008]作為本實用新型的濕法刻蝕裝置的一種優(yōu)選方案，所述腐蝕槽為長方體槽；該腐蝕槽的底部還設置有分別緊密排列的若干進液口和若干排液口。
[0009]作為本實用新型的濕法刻蝕裝置的一種優(yōu)選方案，所述清洗裝置包括兩個所述過濾器:第一、第二過濾器；所述第一、第二過濾器分別位于所述腐蝕槽的兩側。
[0010]作為本實用新型的濕法刻蝕裝置的一種優(yōu)選方案，與所述第一過濾器連接的第一、第二管道連接于所述腐蝕槽的一側；與所述第二過濾器連接的第一、第二管道連接于所述腐蝕槽的另一側。
[0011]作為本實用新型的濕法刻蝕裝置的一種優(yōu)選方案，所述腐蝕槽為長方體槽；所述清洗裝置中包括四個過濾器:第一至第四過濾器；所述第一、第二過濾器位于所述腐蝕槽的一側；所述第三、第四過濾器位于所述腐蝕槽的另一側。
[0012]作為本實用新型的濕法刻蝕裝置的一種優(yōu)選方案，分別與所述第一、第二過濾器連接的第一、第二管道連接于所述腐蝕槽的一側；分別與所述第三、第四過濾器連接的第一、第二管道連接于所述腐蝕槽的另一側。
[0013]作為本實用新型的濕法刻蝕裝置的一種優(yōu)選方案，所述進液管連接有進水泵；所述出液管連接有抽水泵。
[0014]作為本實用新型的濕法刻蝕裝置的一種優(yōu)選方案，所述腐蝕槽中承載有若干晶圓和磷酸溶液。
[0015]如上所述，本實用新型的濕法刻蝕裝置，具有以下有益效果:本實用新型的濕法刻蝕裝置通過增加連接在腐蝕槽上的過濾器使得濕法清洗過程與清洗過濾器的過程互不影響，清洗過濾器時不會對腐蝕槽造成侵蝕，延長腐蝕槽的使用壽命；同時不用拆卸清洗裝置即可將過濾器中的雜質清除，提高濕法清洗效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1為現有技術中的濕法刻蝕裝置示意圖。
[0017]圖2為本實用新型中的一種濕法刻蝕裝置示意圖。
[0018]圖3為本實用新型中的另一中濕法刻蝕裝置示意圖。
[0019]元件標號說明
[0020]10腐蝕槽
[0021]111第一過濾器
[0022]112第二過濾器
[0023]113第三過濾器
[0024]114第四過濾器
[0025]12第一管道
[0026]13第二管道
[0027]121第一閥門
[0028]131第二閥門
[0029]14進液管
[0030]15出液管
[0031]101進液口
[0032]102排液口
[0033]141進水泵
[0034]151抽水泵
[0035]16晶圓

【具體實施方式】
[0036]以下通過特定的具體實例說明本發(fā)明的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所揭露的內容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點與功效。本發(fā)明還可以通過另外不同的【具體實施方式】加以實施或應用，本說明書中的各項細節(jié)也可以基于不同觀點與應用，在沒有背離本發(fā)明的精神下進行各種修飾或改變。
[0037]請參閱圖2至圖3。需要說明的是，本實施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本發(fā)明的基本構想，遂圖式中僅顯示與本發(fā)明中有關的組件而非按照實際實施時的組件數目、形狀及尺寸繪制，其實際實施時各組件的型態(tài)、數量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復雜。
[0038]實施例一
[0039]如圖2所示，本實用新型提供一種濕法刻蝕裝置，所述濕法刻蝕裝置包括:腐蝕槽10以及分別與所述腐蝕槽10連接的第一過濾器111和第二過濾器112 ;所述腐蝕槽在本實施例中為長方體槽；所述第一過濾器和第二過濾器與所述腐蝕槽的連接方式可以是同時位于所述腐蝕槽的一側，也可是分別位于所述腐蝕槽的兩側；本實施中所述第一過濾器111位于所述腐蝕槽10的一側；所述第二過濾器112位于所述腐蝕槽10的另一側；亦即所述兩個過濾器分別位于所述腐蝕槽的兩側。
[0040]本實施例中，如圖2所示，所述腐蝕槽10的底部還設置有分別緊密排列的若干進液口 101和若干排液口 102。也就是說所述若干進液口 101緊密排列于所述腐蝕槽底部的某個區(qū)域；所述若干排液口 102緊密排列于所述腐蝕槽底部的另一處區(qū)域，該排布方式有助于所述腐蝕槽中溶液的進出。
[0041]本實用新型中所述腐蝕槽與每個過濾器相互連接，因此，如圖2所示，所述腐蝕槽10與所述第一過濾器111通過第一管道12和第二管道13相互連接；同時該腐蝕槽10與所述第二過濾器112也通過第一管道12和第二管道13相互連接。本實施例中由于所述第一過濾器和第二過濾器分別位于所述長方體的腐蝕槽10的兩側，為了使得所述第一、第二過濾器分別與所述腐蝕槽的連接簡單化，因此，優(yōu)選地，如圖2所示，與所述第一過濾器111連接的第一管道12和第二管道13連接于所述腐蝕槽的一側；與所述第二過濾器112連接的第一管道12和第二管道13連接于所述腐蝕槽的另一側。
[0042]本實用新型的所述濕法刻蝕裝置中還包括:設置于所述第一管道12上的第一閥門121 ;設置于所述第二管道13上的第二閥門131 ;同時，如圖2所示，在所述第一閥門121與所述第一過濾器111之間的所述第一管道12上設有進液管14，所述進液管14與所述第一管道12相通；所述第一管道12和與其連接的過濾器以及所述腐蝕槽10相通；對于所述第一過濾器111來說，所述第一過濾器111通過所述第一管道12與所述腐蝕槽10相通；而所述第一閥門121設置于所述第一管道上，開啟所述第一閥門時，所述第一過濾器與所述腐蝕槽相通,所述腐蝕槽中的液體與所述第一過濾器中的液體可以自由進出。
[0043]同時，由于所述第二過濾器112位于所述腐蝕槽10的另一側，對于所述第二過濾器來說，與所述第一過濾器相同的是，所述第二過濾器112通過所述第一管道12與所述腐蝕槽10相通；而所述第一閥門121設置于所述第一管道12上，開啟所述第一閥門121時，所述第二過濾器112與所述腐蝕槽10相通，所述腐蝕槽中的液體與所述第二過濾器112中的液體可以自由進出。
[0044]如圖2所示，本實施例中，所述第一閥門12與所述第一過濾器之間設有與所述第一管道12相通的進液管14 ;所述第二閥門與所述第一過濾器之間設有與所述第二管道13相通的出液管15。同樣，對于所述第二過濾器來說，所述第一閥門12與所述第二過濾器之間設有與所述第一管道12相通的進液管14 ;所述第二閥門與所述第二過濾器之間設有與所述第二管道13相通的出液管15。所述進液管14用于將清洗所述第一或第二過濾器的液體輸送入所述第一或第二過濾器中，所述出液管15用于將所述第一或第二過濾器中的液體排出所述第一或第二過濾器。通常，所述進液管14所述出液管15都設有閥門方便開啟或關閉。本實施例中，優(yōu)選地，所述進液管連接有進水泵141 ;所述出液管連接有抽水泵151。所述進水泵141提供用于清洗所述第一或第二過濾器的液體；所述抽水泵151用于將所述第一或第二過濾器中的液體抽出。
[0045]本實施例中所述的濕法刻蝕裝置的工作原理為:
[0046](一 )刻蝕過程:當使用所述濕法刻蝕裝置對晶圓進行刻蝕時，所述腐蝕槽10中承載有若干晶圓16 ;開啟如圖2中左側的所述第一過濾器附近的所述進液管14上的閥門，并且開啟與所述第一過濾器111連接的第一管道12上的第一閥門121 ;并且同時開啟與該進液管14連接的進水泵141，所述進水泵141將液體注入所述進液管14中，通常用于刻蝕所述晶圓上的氮化硅以及二氧化硅的腐蝕液為磷酸，因此，所述進水泵141注入所述進液管14中的液體為磷酸溶液；磷酸溶液流入所述第一過濾器中，這時，所述第二管道13上的第二閥門131處于開啟狀態(tài)，與所述第二管道13連接的所述出液管15處于關閉狀態(tài)，因此，經過所述第一過濾器的磷酸再經過所述第二管道13流入所述腐蝕槽中，所述腐蝕槽中的磷酸與所述晶圓充分反應，所述腐蝕槽中的磷酸再經過所述第一管道12流入所述第一過濾器，磷酸溶液中水與晶圓上的氮化硅反應生成的硅化物沉淀隨著磷酸一起進入所述第一過濾器，不斷循環(huán)進入所述第一過濾器的結果是絕大部分的硅化物沉淀被所述第一過濾器過濾掉，而所述腐蝕槽中磷酸溶液中的硅化物則越來越少，因此，減小了晶圓粘附雜質顆粒的機會。待刻蝕一定數量晶片后，所述廢液從位于所述腐蝕槽底部的排液口 102排出。
[0047](二)過濾器清洗過程:在進行上述刻蝕的過程中，位于所述腐蝕槽另一側的所述第二過濾器122可以是處于工作狀態(tài)，也可以為停止工作的狀態(tài)。所述工作狀態(tài)指的是所述第二過濾器的清洗過程。本實用新型的所述每個過濾器既可以進行如上所述的刻蝕過程，也可以單獨進行自身的清洗過程，當其中一個所述過濾器進行刻蝕過程的時候，其他過濾器關閉刻蝕過程，但是其他過濾器可同時進行自身的清洗過程，也就是說，例如使用所述第一過濾器進行上述刻蝕過程時，所述第二過濾器關閉使用或進行自身清洗；當進行下次的刻蝕過程時，可以使用已經清洗好的第二過濾器進行刻蝕過程，同時所述第一過濾器進行自身清洗過程。本實施例的所述第一和第二過濾器交替進行刻蝕過程，在所述刻蝕過程中，未進行刻蝕過程的所述過濾器可進行自身清洗過程。
[0048]所述自身清洗過程如下:例如所述第二過濾器進行自身清洗，通常所述清洗液為氫氟酸，氫氟酸用于清除堵塞在所述過濾器中的硅化物；而氫氟酸對石英材質的腐蝕槽會形成腐蝕。因此，首先關閉與所述第二過濾器連接的第一管道12上的第一閥門121以及與所述第二過濾器連接的第二管道13上的第二閥門131，避免清洗液進入所述腐蝕槽中。接著，如圖2所示，開啟位于所述腐蝕槽右側的所述第二過濾器112附近的所述進液管14和出液管15上的閥門，同時啟動與該進液管14連接的進水泵141，使的清洗液(氫氟酸)沿所述進液管14經過與其連接的第一管道12進入所述第二過濾器112中，所述過濾器112中的氫氟酸充分溶解硅化物后，廢液經過與所述第二過濾器連接的第二管道13以及與所述第二管道13連接的出液管15后排出。優(yōu)選地，當清洗接近結束時，開啟與該出液管15連接的出水泵151，使得所述第二過濾器中的液體被完全抽干，避免遺留氫氟酸使得下次刻蝕時氫氟酸進入所述腐蝕槽。、
[0049]實施例二
[0050]如圖3所示，本實用新型提供一種濕法刻蝕裝置，所述濕法刻蝕裝置包括:腐蝕槽10以及分別與所述腐蝕槽10連接的第一過濾器111、第二過濾器112、第三過濾器113、第四過濾器114 ;本實施中，如圖3所示，所述第一過濾器111、第二過濾器112同時位于所述腐蝕槽10的一側；所述第三過濾器113、第四過濾器114同時位于所述腐蝕槽10的另一側。
[0051]本實施例中，如圖3所示，所述腐蝕槽10的底部還設置有分別緊密排列的若干進液口 101和若干排液口 102。也就是說所述若干進液口 101緊密排列于所述腐蝕槽底部的某個區(qū)域；所述若干排液口 102緊密排列于所述腐蝕槽底部的另一處區(qū)域，該排布方式有助于所述腐蝕槽中溶液的進出。
[0052]本實用新型中所述腐蝕槽與每個過濾器相互連接，因此，如圖3所示，所述腐蝕槽10與所述第一過濾器111通過第一管道12和第二管道13相互連接；同時該腐蝕槽10與所述第二過濾器112也通過第一管道12和第二管道13相互連接。所述第二和第四過濾器與所述腐蝕槽的連接亦如此。本實施例中由于所述第一過濾器和第二過濾器分別位于所述長方體的腐蝕槽10的同一側，為了使得所述第一、第二過濾器分別與所述腐蝕槽的連接簡單化，因此，優(yōu)選地，如圖3所示，分別與所述第一、第二過濾器連接的第一、第二管道連接于所述腐蝕槽的一側；分別與所述第三、第四過濾器連接的第一、第二管道連接于所述腐蝕槽的另一側。
[0053]本實用新型的所述濕法刻蝕裝置中還包括:設置于所述第一管道12上的第一閥門121 ;設置于所述第二管道13上的第二閥門131 ;同時，如圖3所示，在所述第一閥門121與所述第一過濾器111之間的所述第一管道12上設有進液管14，所述進液管14與所述第一管道12相通；所述第一管道12和與其連接的過濾器以及所述腐蝕槽10相通；對于所述第一過濾器111來說，所述第一過濾器111通過所述第一管道12與所述腐蝕槽10相通；而所述第一閥門121設置于所述第一管道上，開啟所述第一閥門時，所述第一過濾器與所述腐蝕槽相通,所述腐蝕槽中的液體與所述第一過濾器中的液體可以自由進出。
[0054]同時，對于所述第二至第四過濾器來說，與所述第一過濾器相同的是，所述第二至第四過濾器通過所述第一管道12與所述腐蝕槽10相通；而所述第一閥門121設置于所述第一管道12上，開啟所述第一閥門121時，所述第二過濾器112與所述腐蝕槽10相通，所述腐蝕槽中的液體與所述第二過濾器112中的液體可以自由進出。
[0055]如圖3所示，本實施例中，所述第一閥門12與所述第一過濾器之間設有與所述第一管道12相通的進液管14 ;所述第二閥門與所述第一過濾器之間設有與所述第二管道13相通的出液管15。同樣，對于所述第二至第四過濾器來說，所述第一閥門12與所述第二至第四過濾器之間設有與所述第一管道12相通的進液管14 ;所述第二閥門與所述第二至第四過濾器之間設有與所述第二管道13相通的出液管15。所述進液管14用于將清洗所述過濾器的液體輸送入所述過濾器中，所述出液管15用于將所述過濾器中的液體排出所述過濾器。通常，所述進液管14所述出液管15都設有閥門方便開啟或關閉。本實施例中，優(yōu)選地，所述進液管連接有進水泵141 ;所述出液管連接有抽水泵151。所述進水泵141提供用于清洗所述過濾器的液體；所述抽水泵151用于將所述過濾器中的液體抽出。
[0056]本實施例中所述的濕法刻蝕裝置的工作原理為:
[0057](一 )刻蝕過程:當使用所述濕法刻蝕裝置對晶圓進行刻蝕時，所述腐蝕槽10中承載有若干晶圓16 ;開啟如圖3中左側的所述第一過濾器附近的所述進液管14上的閥門，并且開啟與所述第一過濾器111連接的第一管道12上的第一閥門121 ;并且同時開啟與該進液管14連接的進水泵141，所述進水泵141將液體注入所述進液管14中，通常用于刻蝕所述晶圓上的氮化硅以及二氧化硅的腐蝕液為磷酸，因此，所述進水泵141注入所述進液管14中的液體為磷酸溶液；磷酸溶液流入所述第一過濾器中，這時，所述第二管道13上的第二閥門131處于開啟狀態(tài)，與所述第二管道13連接的所述出液管15處于關閉狀態(tài)，因此，經過所述第一過濾器的磷酸再經過所述第二管道13流入所述腐蝕槽中，所述腐蝕槽中的磷酸與所述晶圓充分反應，所述腐蝕槽中的磷酸再經過所述第一管道12流入所述第一過濾器，磷酸溶液中水與晶圓上的氮化硅反應生成的硅化物沉淀隨著磷酸一起進入所述第一過濾器，不斷循環(huán)進入所述第一過濾器的結果是絕大部分的硅化物沉淀被所述第一過濾器過濾掉，而所述腐蝕槽中磷酸溶液中的硅化物則越來越少，因此，減小了晶圓粘附雜質顆粒的機會。待刻蝕完成后，所述廢液從位于所述腐蝕槽底部的排液口 102排出。
[0058](二)過濾器清洗過程:在進行上述刻蝕的過程中，所述第二至第四過濾器可以是處于工作狀態(tài)，也可以為停止工作的狀態(tài)。所述工作狀態(tài)指的是所述第二至第四過濾器的清洗過程。本實用新型的所述每個過濾器既可以進行如上所述的刻蝕過程，也可以單獨進行自身的清洗過程，當其中一個所述過濾器進行刻蝕過程的時候，其他過濾器關閉刻蝕過程，但是其他過濾器可同時進行自身的清洗過程，也就是說，例如使用所述第一過濾器進行上述刻蝕過程時，所述第二至第四過濾器關閉使用或進行自身清洗；當進行下次的刻蝕過程時，可以使用已經清洗好的第二至第四過濾器中的一個進行刻蝕過程，同時所述其他過濾器進行自身清洗過程。本實施例的所述四個過濾器交替進行刻蝕過程，在所述刻蝕過程中，未進行刻蝕過程的其他過濾器可進行自身清洗過程。
[0059]所述自身清洗過程如下:例如所述第二過濾器進行自身清洗，通常所述清洗液為氫氟酸，氫氟酸用于清除堵塞在所述過濾器中的硅化物；而氫氟酸對石英材質的腐蝕槽會形成腐蝕。因此，首先關閉與所述第二過濾器連接的第一管道12上的第一閥門121以及與所述第二過濾器連接的第二管道13上的第二閥門131，避免清洗液進入所述腐蝕槽中。接著，如圖2所示，開啟位于所述腐蝕槽右側的所述第二過濾器112附近的所述進液管14和出液管15上的閥門，同時啟動與該進液管14連接的進水泵141，使的清洗液(氫氟酸)沿所述進液管14經過與其連接的第一管道12進入所述第二過濾器112中，所述過濾器112中的氫氟酸充分溶解硅化物后，廢液經過與所述第二過濾器連接的第二管道13以及與所述第二管道13連接的出液管15后排出。優(yōu)選地，當清洗接近結束時，開啟與該出液管15連接的出水泵151，使得所述第二過濾器中的液體被完全抽干，避免遺留氫氟酸使得下次刻蝕時氫氟酸進入所述腐蝕槽。
[0060]本實用新型的所述濕法刻蝕裝置中除上述兩個實施例中包含兩個或四個所述過濾器之外，還可根據具體過濾器的使用頻率以及所述過濾器的性能調整所述濕法刻蝕裝置中過濾器的個數。
[0061]綜上所述，本實用新型的濕法刻蝕裝置通過增加連接在腐蝕槽上的過濾器使得濕法清洗過程與清洗過濾器的過程互不影響，清洗過濾器時不會對腐蝕槽造成侵蝕，延長腐蝕槽的使用壽命；同時不用拆卸清洗裝置即可將過濾器中的雜質清除，提高濕法清洗效率。所以，本實用新型有效克服了現有技術中的種種缺點而具高度產業(yè)利用價值。
[0062]上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬【技術領域】中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應由本實用新型的權利要求所涵蓋。
【權利要求】
1.一種濕法刻蝕裝置，其特征在于，所述裝置至少包括: 腐蝕槽以及至少兩個過濾器；所述腐蝕槽與每個過濾器通過第一、第二管道連接； 所述第一、第二管道上分別對應設有第一、第二閥門； 所述第一閥門與所述過濾器之間設有與所述第一管道相通的進液管；所述第二閥門與所述過濾器之間設有與所述第二管道相通的出液管。
2.根據權利要求1所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于:所述腐蝕槽為長方體槽；該腐蝕槽的底部還設置有分別緊密排列的若干進液口和若干排液口。
3.根據權利要求2所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于:所述清洗裝置包括兩個所述過濾器:第一、第二過濾器；所述第一、第二過濾器分別位于所述腐蝕槽的兩側。
4.根據權利要求3所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于:與所述第一過濾器連接的第一、第二管道連接于所述腐蝕槽的一側；與所述第二過濾器連接的第一、第二管道連接于所述腐蝕槽的另一側。
5.根據權利要求2所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于:所述腐蝕槽為長方體槽；所述清洗裝置中包括四個過濾器:第一至第四過濾器；所述第一、第二過濾器位于所述腐蝕槽的一側；所述第三、第四過濾器位于所述腐蝕槽的另一側。
6.根據權利要求5所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于:分別與所述第一、第二過濾器連接的第一、第二管道連接于所述腐蝕槽的一側；分別與所述第三、第四過濾器連接的第一、第二管道連接于所述腐蝕槽的另一側。
7.根據權利要求4或6所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于:所述進液管連接有進水泵；所述出液管連接有抽水泵。
8.根據權利要求1所述的濕法刻蝕裝置，其特征在于:所述腐蝕槽中承載有若干晶圓和磷酸溶液。
【文檔編號】C30B33/10GK204138821SQ201420593668
【公開日】2015年2月4日 申請日期:2014年10月14日 優(yōu)先權日:2014年10月14日
【發(fā)明者】胡春周 申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司