本發(fā)明是有關(guān)于一種具有高深寬比微結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜的制造方法，具有高深寬比微結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜應(yīng)用于防窺膜，以提供良好的側(cè)視角防窺效果。

背景技術(shù)：

由于行動裝置的普及，人們對于在公共場所使用行動裝置時的隱私需求亦隨之增加。現(xiàn)行普遍采用外貼防窺膜的形式，以使任一行動裝置具有防窺效果。為了達(dá)到良好的防窺性，防窺膜常采用的做法為在膜材上形成許多具有一定深度的遮光微結(jié)構(gòu)。請參考圖1所示，其為示例性地以習(xí)知壓印制程制作防窺膜1的方法，步驟100至103由括弧內(nèi)的參考數(shù)字表示。在習(xí)知壓印制程中，例如可藉由于透明基材2上涂布未固化的樹脂3(步驟100)，并以具有微結(jié)構(gòu)的壓印模具4壓印樹脂3(步驟101)，經(jīng)過脫模以及固化形成復(fù)數(shù)個溝槽結(jié)構(gòu)3a后(步驟102)，再填入遮光材料5而形成防窺膜1(步驟103)。為了達(dá)到側(cè)視角良好的防窺效果，復(fù)數(shù)個溝槽結(jié)構(gòu)3a需具有較大的深寬比，但于壓印制程中，為使壓印模具4于壓印后便于脫模，所形成的復(fù)數(shù)個溝槽結(jié)構(gòu)3a的深度無法過大，以避免脫模過程，尚未固化的復(fù)數(shù)個溝槽結(jié)構(gòu)3a容易被破壞。因此，利用圖1所示的習(xí)知壓印制程所制作的防窺膜1，常因深度不足而造成側(cè)視防窺效果不佳。若為使復(fù)數(shù)個溝槽結(jié)構(gòu)3a達(dá)到足夠深度，則須相應(yīng)增加復(fù)數(shù)個溝槽結(jié)構(gòu)3a的寬度，但此設(shè)計(jì)也將一并降低該防窺膜1垂直方向的正視角穿透度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于上述習(xí)知技藝防窺膜的微結(jié)構(gòu)的深寬比不足的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種新穎的高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法，以期克服現(xiàn)有產(chǎn)品的難點(diǎn)。故本發(fā)明提出一種應(yīng)用于防窺膜的高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法，其不需如習(xí)知壓印模具般，壓印后還須具備脫模步驟，故可形成具有高深寬比的微結(jié)構(gòu)，且以此微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜所制作的防窺膜具有良好的防窺性與透光度。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供一種具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法，制造方法的步驟包含：提供具有凹部表面的弧形底座；設(shè)置撓性基材于該弧形底座的凹部表面，并涂布可固化的聚合物層于該撓性基材表面，以形成復(fù)合膜；預(yù)固化該聚合物層；形成復(fù)數(shù)個凹槽結(jié)構(gòu)于該聚合物層上，并完全固化該聚合物層；自該弧形底座移除該復(fù)合膜，以及平坦化該復(fù)合膜，使該復(fù)數(shù)個凹槽結(jié)構(gòu)朝向該聚合物層的厚度方向分裂而形成復(fù)數(shù)個高深寬比微結(jié)構(gòu)。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，該撓性基材之?dāng)嗔焉扉L率為5％至20％。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，該聚合物層之?dāng)嗔焉扉L率為0至2％。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜之制造方法中，該高深寬比微結(jié)構(gòu)的深寬比為5至100。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，形成復(fù)數(shù)個凹槽結(jié)構(gòu)于該聚合物層的方式包含使用模具或雕刻輪壓印。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，固化該聚合物層的方式包含光固化或熱固化。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，該撓性基材選自聚碳酸酯、醋酸纖維素、聚烯烴或聚對苯二甲酸乙二酯。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，該聚合物層選自酚醛樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚苯乙烯。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，該弧形底座進(jìn)一步具有粘著性表面，使該撓性基材貼附于該弧形底座的凹部表面。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，該弧形底座進(jìn)一步包含復(fù)數(shù)個氣體通道，該復(fù)數(shù)個氣體通道與該凹部表面相通，該復(fù)數(shù)個氣體通道用以傳導(dǎo)負(fù)壓吸附該撓性基材，及傳導(dǎo)正壓以移除該復(fù)合膜。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明中通過平坦化具有復(fù)數(shù)凹槽結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜以形成具有復(fù)數(shù)個高深寬比微結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜，其中，藉由復(fù)數(shù)個凹槽結(jié)構(gòu)朝向聚合物層的厚度方向分裂形成復(fù)數(shù)個高深寬比微結(jié)構(gòu)的方式，不易產(chǎn)生壓印后脫模不良的問題。

附圖說明

圖1為習(xí)知一種壓印制程制作防窺膜的示意圖。

圖2為本發(fā)明一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜的制造方法一實(shí)施例的示意圖。

圖3a至圖3b為本發(fā)明的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜的制作方法中，用以控制所形成微結(jié)構(gòu)的深寬比的計(jì)算方式的示意圖。

圖4為本發(fā)明另一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜的制造方法中，所采用的弧形底座的示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明的發(fā)明特征、內(nèi)容與優(yōu)點(diǎn)及其所能達(dá)成的功效更易了解，茲將本發(fā)明配合附圖，并以實(shí)施例的表達(dá)形式詳細(xì)說明如下，而其中所使用的圖式，其主旨僅為示意及輔助說明書的用，未必為本發(fā)明實(shí)施后的真實(shí)比例與精準(zhǔn)配置，故不應(yīng)就所附的圖式的比例與配置關(guān)系解讀、局限本發(fā)明于實(shí)際實(shí)施上的權(quán)利范圍，合先敘明。

以下將參照相關(guān)圖式，說明依本發(fā)明的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法的實(shí)施例，為使便于理解，下述實(shí)施例中的相同元件以相同的符號標(biāo)示來說明。

請參考圖2，在一較佳實(shí)施方式中，本發(fā)明提供一種具有高深寬比微結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜21的制造方法。步驟200至205由括弧內(nèi)的參考數(shù)字表示，這些步驟包含：提供具有凹部表面20a的弧形底座20(步驟200)；設(shè)置撓性基材22于弧形底座20的凹部表面20a，并涂布可固化的聚合物層23于撓性基材22表面，以形成復(fù)合膜21a(步驟201)；預(yù)固化聚合物層23(步驟202)，例如可依聚合物23種類，采用可放射光能或熱能的固化裝置24，預(yù)固化聚合物層23；采用表面具有微結(jié)構(gòu)的雕刻輪25或壓印模板形成復(fù)數(shù)個凹槽結(jié)構(gòu)26于聚合物層23上(步驟203)；并再次以固化裝置24完全固化聚合物層23(步驟204)；自弧形底座20移除復(fù)合膜21a，以及平坦化復(fù)合膜21a(步驟205)，使復(fù)數(shù)個凹槽結(jié)構(gòu)26朝向聚合物層23的厚度方向分裂形成復(fù)數(shù)個高深寬比微結(jié)構(gòu)23a，而獲得具有高深寬比微結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜21。

請參考圖3a和圖3b，其為本發(fā)明的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜的制作方法中，用以控制所形成高深寬比微結(jié)構(gòu)23a的深寬比的計(jì)算方式的示意圖。高深寬比微結(jié)構(gòu)23a的深寬比A滿足式一：A＝d1/G，其中d1為聚合物層23的厚度，G為所形成高深寬比微結(jié)構(gòu)23a的寬度。又當(dāng)凹槽結(jié)構(gòu)26的總數(shù)量為N時，所形成的復(fù)數(shù)個高深寬比微結(jié)構(gòu)23a的總數(shù)量為亦為N，故復(fù)數(shù)個高深寬比微結(jié)構(gòu)23a的寬度總合為N×G，且其總合為聚合物層23平坦化前的外弧長L2與內(nèi)弧長L1的差值，故每一高深寬比微結(jié)構(gòu)23a的寬度G滿足式二：G＝(L2-L1)/N＝((2π(R+d1)-2πR)×θ/360°)/N＝(2πd1×θ/360°)/N，其中，R為弧形底座所賦予聚合物層23的曲率半徑，θ為聚合物層23的弧長所對應(yīng)的圓心角。再將式二代入式一，即可得式三：A＝(360°/θ)×(N/2π)。因此，只要藉由控制弧形底座20的圓心角θ，及欲形成的高深寬比微結(jié)構(gòu)23a的總數(shù)量N，即可估算復(fù)數(shù)個高深寬比微結(jié)構(gòu)23a的深寬比A。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，撓性基材22的斷裂伸長率為5％至20％，舉例而言，撓性基材22包括但不限于聚碳酸酯、醋酸纖維素、聚烯烴或聚對苯二甲酸乙二酯等，以提供一定可撓性與強(qiáng)韌度而不易斷裂。而聚合物層23的斷裂伸長率為0至2％，屬于較硬而脆的材質(zhì)，例如包括酚醛樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚苯乙烯等。因此，當(dāng)平坦化聚合物層23時，復(fù)數(shù)個凹槽結(jié)構(gòu)26提供了應(yīng)力的缺口，使得聚合物層23的厚度方向受力時可分裂形成復(fù)數(shù)個高深寬比微結(jié)構(gòu)23a，且對于形成復(fù)數(shù)個凹槽結(jié)構(gòu)26時，因復(fù)數(shù)個凹槽結(jié)構(gòu)26的功能僅用于提供應(yīng)力的缺口，其深寬比例如可僅為0.5至5，因此不易產(chǎn)生壓印后脫模不良的問題。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，高深寬比微結(jié)構(gòu)23a的深寬比為5至100。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，形成復(fù)數(shù)個凹槽結(jié)構(gòu)26于該聚合物層23的方式包含使用表面具有微結(jié)構(gòu)的模具或雕刻輪壓印。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，固化該聚合物層23的方式包含光固化或熱固化。

在本發(fā)明的一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，弧形底座20的凹部表面20a為粘著性表面，使撓性基材22貼附于弧形底座20的凹部表面20a。

在本發(fā)明另一實(shí)施例的具有高深寬比微結(jié)構(gòu)復(fù)合膜的制造方法中，如圖4所示，弧形底座20進(jìn)一步包含復(fù)數(shù)個氣體通道20b，復(fù)數(shù)個氣體通道20b與凹部表面20a相通，復(fù)數(shù)個氣體通道20b用以傳導(dǎo)負(fù)壓吸附撓性基材22，及傳導(dǎo)正壓以移除復(fù)合膜21a。

以上所述的實(shí)施例僅為說明本發(fā)明的技術(shù)思想及特點(diǎn)，其目的在使熟習(xí)此項(xiàng)技藝的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，當(dāng)不能以之限定本發(fā)明食物專利范圍，即大凡依本發(fā)明所揭示的精神所作的均等變化或修飾，仍應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的專利范圍內(nèi)。