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      層疊體及包含該層疊體的顯示裝置、以及粘合劑層的制作方法

      文檔序號(hào):39619379發(fā)布日期:2024-10-11 13:35閱讀:59來(lái)源:國(guó)知局
      層疊體及包含該層疊體的顯示裝置、以及粘合劑層的制作方法

      本發(fā)明涉及層疊體及包含該層疊體的顯示裝置、以及柔性顯示裝置用的粘合劑層。


      背景技術(shù):

      1、專利文獻(xiàn)1中,記載有依次包含前面板、第1粘合劑層、偏振片層、第2粘合劑層和背面板的層疊體。

      2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

      3、專利文獻(xiàn)

      4、專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2020-154308號(hào)公報(bào)


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、發(fā)明所要解決的課題

      2、像專利文獻(xiàn)1中記載的那樣的以往的層疊體具有良好的彎曲性。然而,以往的層疊體的熱沖擊彎曲性及低溫彎曲性不一定充分,有改善的余地。

      3、另外,層疊體根據(jù)用途的不同有時(shí)以前面板側(cè)為內(nèi)側(cè)的方式彎曲。在此種用途中,對(duì)層疊體要求以前面板側(cè)為內(nèi)側(cè)的方式彎曲時(shí)的熱沖擊彎曲性及低溫彎曲性的改善。

      4、因而,本發(fā)明的目的在于,提供一種以前面板側(cè)為內(nèi)側(cè)的方式彎曲時(shí)的熱沖擊彎曲性及低溫彎曲性優(yōu)異的層疊體及包含該層疊體的顯示裝置、以及柔性顯示裝置用的粘合劑層。

      5、用于解決課題的手段

      6、本發(fā)明提供以下的層疊體、顯示裝置及粘合劑層。

      7、[1]一種層疊體,其依次包含前面板、第1粘合劑層、偏振片層、第2粘合劑層和背面板,上述第1粘合劑層的利用下述式(1)求出的應(yīng)力減少率為40%以上且70%以下,上述第1粘合劑層的應(yīng)力減少率r1與上述第2粘合劑層的應(yīng)力減少率r2滿足下述式(2)的關(guān)系。

      8、應(yīng)力減少率=100-{(rb/ra)×100}...(1)

      9、r1≤r2...(2)

      10、[式(1)中,ra表示形變反復(fù)施加試驗(yàn)開(kāi)始后對(duì)粘合劑層最初在-20℃施加400%的形變時(shí)的應(yīng)力(單位:pa),rb表示在形變反復(fù)施加試驗(yàn)的第10個(gè)循環(huán)中最后在60℃施加400%的形變時(shí)的應(yīng)力(單位:pa)。]

      11、[形變反復(fù)施加試驗(yàn)]

      12、形變反復(fù)施加試驗(yàn)通過(guò)如下操作來(lái)進(jìn)行,即,使調(diào)整為厚度150μm的粘合劑層與粘彈性測(cè)定裝置的測(cè)定芯片粘接,在無(wú)法向力(normal?force?free)、頻率1hz的條件下反復(fù)施加0%的形變和400%的形變的同時(shí),作為溫度條件在-20℃保持2分鐘,然后以10℃/分鐘的升溫速度升溫到60℃并保持2分鐘,將該操作設(shè)為1個(gè)循環(huán),將該操作反復(fù)進(jìn)行共計(jì)10個(gè)循環(huán)。

      13、[2]根據(jù)上述[1]中記載的層疊體,其中,上述層疊體的溫度-20℃時(shí)的彎曲剛度為1000gf·m以上且2000gf·m以下。

      14、[3]根據(jù)上述[1]或[2]中記載的層疊體,其中,上述第1粘合劑層及上述第2粘合劑層的厚度均為10μm以上且100μm以下。

      15、[4]根據(jù)上述[1]~[3]中任一項(xiàng)記載的層疊體,其中,上述第1粘合劑層及上述第2粘合劑層均為由包含(甲基)丙烯酸系聚合物的粘合劑組合物形成的層。

      16、[5]根據(jù)上述[4]中記載的層疊體,其中,上述(甲基)丙烯酸系聚合物中以結(jié)構(gòu)單元總量為基準(zhǔn),包含20質(zhì)量%以上且30質(zhì)量%以下的來(lái)自含氮原子單體的結(jié)構(gòu)單元。

      17、[6]根據(jù)上述[1]~[5]中任一項(xiàng)記載的層疊體,其中,上述第1粘合劑層是由包含含氟原子化合物的第1粘合劑組合物形成的層,上述含氟原子化合物的含量以上述第1粘合劑組合物的固體成分總量為基準(zhǔn)為5質(zhì)量%以下。

      18、[7]根據(jù)上述[1]~[6]中任一項(xiàng)記載的層疊體,其中,上述第1粘合劑層的應(yīng)力減少率r1與上述第2粘合劑層的應(yīng)力減少率r2滿足下述式(3)的關(guān)系。

      19、0pa≤(r2-r1)≤20pa...(3)

      20、[8]根據(jù)上述[1]~[7]中任一項(xiàng)記載的層疊體,其中,上述第2粘合劑層的應(yīng)力減少率為40%以上且70%以下。

      21、[9]根據(jù)上述[1]~[8]中任一項(xiàng)記載的層疊體,其中,上述第1粘合劑層的厚度t1與上述第2粘合劑層的厚度t2滿足下述式(4)的關(guān)系。

      22、0.1≤(t1/t2)≤4...(4)

      23、[10]一種顯示裝置,其包含上述[1]~[9]中任一項(xiàng)記載的層疊體。

      24、[11]一種粘合劑層,其配置于柔性顯示裝置的前面板與偏振片層之間,利用下述式(1)求出的應(yīng)力減少率為40%以上且70%以下。

      25、應(yīng)力減少率=100-{(rb/ra)×100}...(1)

      26、[式(1)中,ra表示形變反復(fù)施加試驗(yàn)開(kāi)始后對(duì)粘合劑層最初在-20℃施加400%的形變時(shí)的應(yīng)力(單位:pa),rb表示在形變反復(fù)施加試驗(yàn)的第10個(gè)循環(huán)中最后在60℃施加400%的形變時(shí)的應(yīng)力(單位:pa)。]

      27、[形變反復(fù)施加試驗(yàn)]

      28、形變反復(fù)施加試驗(yàn)通過(guò)如下操作來(lái)進(jìn)行,即,使調(diào)整為厚度150μm的粘合劑層與粘彈性測(cè)定裝置的測(cè)定芯片粘接,在無(wú)法向力(normal?force?free)、頻率1hz的條件下反復(fù)施加0%的形變和400%的形變的同時(shí),作為溫度條件在-20℃保持2分鐘,然后以10℃/分鐘的升溫速度升溫到60℃并保持2分鐘,將該操作設(shè)為1個(gè)循環(huán),將該操作反復(fù)進(jìn)行共計(jì)10個(gè)循環(huán)。

      29、發(fā)明效果

      30、根據(jù)本發(fā)明,可以提供以前面板側(cè)為內(nèi)側(cè)的方式彎曲時(shí)的熱沖擊彎曲性及低溫彎曲性優(yōu)異的層疊體及包含該層疊體的顯示裝置、以及柔性顯示裝置用的粘合劑層。



      技術(shù)特征:

      1.一種層疊體,依次包含前面板、第1粘合劑層、偏振片層、第2粘合劑層和背面板,

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體,其中,

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體,其中,

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體,其中,

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的層疊體,其中,

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體,其中,

      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體,其中,

      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體,其中,

      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的層疊體,其中,

      10.一種顯示裝置,其包含權(quán)利要求1~9中任一項(xiàng)所述的層疊體。

      11.一種粘合劑層,其配置于柔性顯示裝置的前面板與偏振片層之間,


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明提供一種以前面板側(cè)為內(nèi)側(cè)的方式彎曲時(shí)的熱沖擊彎曲性及低溫彎曲性優(yōu)異的層疊體。本發(fā)明的層疊體依次包含前面板、第1粘合劑層、偏振片層、第2粘合劑層和背面板,第1粘合劑層的利用下述式(1)求出的應(yīng)力減少率為40%以上且70%以下,第1粘合劑層的應(yīng)力減少率R1與第2粘合劑層的應(yīng)力減少率R2滿足下述式(2)的關(guān)系。應(yīng)力減少率=100?{(RB/RA)×100}…(1)R1≤R2…(2)[式(1)中,RA表示形變反復(fù)施加試驗(yàn)開(kāi)始后對(duì)粘合劑層最初在?20℃施加400%的形變時(shí)的應(yīng)力(單位:Pa),RB表示在形變反復(fù)施加試驗(yàn)的第10個(gè)循環(huán)中最后在60℃施加400%的形變時(shí)的應(yīng)力(單位:Pa)]。

      技術(shù)研發(fā)人員:李昇祐,西上由紀(jì),坂口哲生
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:住友化學(xué)株式會(huì)社
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/10/10
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