專利名稱:帶有固定支架的醫(yī)用同位素屏蔽罐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及醫(yī)用的容器技術(shù)領(lǐng)域：
，具體地說(shuō)，涉及一種放置醫(yī)用同位素 藥劑的屏蔽裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中，生產(chǎn)同位素藥劑的廠家把有放射性的藥劑先裝入西林瓶?jī)?nèi)， 然后再將裝有放射性藥劑的西林瓶移入鉛材料制作的屏蔽罐內(nèi)，由人工提拿 運(yùn)輸?shù)结t(yī)院然后醫(yī)務(wù)人員打開(kāi)屏蔽罐后，用注射器抽取罐內(nèi)西林瓶?jī)?nèi)的藥 劑給病人服務(wù)。由于傳統(tǒng)的屏蔽罐并無(wú)與之匹配的固定支架，故在抽取藥液 時(shí)，將屏蔽罐放置于桌面上，無(wú)法根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)的情況，調(diào)節(jié)高度和角度，從而 無(wú)形中延長(zhǎng)了抽取的時(shí)間，而使受輻射的幾率大為增加。眾所周知，輻射對(duì) 人體的照射方式分為外照射和內(nèi)照射兩種。外照射是輻射源在人體外部釋放 出粒子、光子作用于人體的照射。而外照射的防護(hù)通常可以采用三個(gè)基本手 段，即三種手段中的一種或它們的綜合盡量縮短受照射的時(shí)間；盡量增大 與放射源的距離；在人和輻射源之間設(shè)置屏蔽物。為此本發(fā)明人針對(duì)現(xiàn)有技 術(shù)的不足，專門設(shè)計(jì)了帶有配套固定支架的醫(yī)用同位素屏蔽罐。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種能有效克服上述缺陷，根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)需求可調(diào) 節(jié)高度和角度的，從而便于打開(kāi)抽取藥液，從而降低醫(yī)生輻射量的醫(yī)用同位 素屏蔽罐。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案 一種帶有固定支架的醫(yī)用 同位素屏蔽罐，主要是由罐體和罐蓋組成，罐體上設(shè)有固定環(huán)，其特征在于 罐體的固定環(huán)連有一固定支架。
由于采用上述方案，不難得出如下結(jié)論本發(fā)明結(jié)構(gòu)合理，構(gòu)思巧妙， 既利用磁性材料的吸合力，減少了操作時(shí)間，又可據(jù)現(xiàn)場(chǎng)需求可調(diào)節(jié)高度和 角度的，從而便于打開(kāi)抽取藥液，從而降低醫(yī)生的輻射量，達(dá)到了外照射防護(hù)的盡量縮短受照射的時(shí)間和在人和輻射源之間設(shè)置屏蔽物的條件，體現(xiàn)了 以人為本的精神，極具推廣價(jià)值。


下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。 附圖是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
參見(jiàn)附圖， 一種醫(yī)用同位素屏蔽罐，主要是由罐體10和罐蓋20組成， 其特征在于罐體10和罐蓋20的連接部位，設(shè)置有相反極性的磁體30。罐 體10設(shè)有固定環(huán)40，固定環(huán)40連有一固定支架50。本發(fā)明利用磁性材料的 吸合力，減少了操作時(shí)間，又可據(jù)現(xiàn)場(chǎng)需求可調(diào)節(jié)高度和角度的，從而便于 打開(kāi)抽取藥液，從而降低醫(yī)生的輻射量，達(dá)到了外照射防護(hù)的盡量縮短受照 射的時(shí)間和在人和輻射源之間設(shè)置屏蔽物的條件。
權(quán)利要求
1、一種帶有固定支架的醫(yī)用同位素屏蔽罐，主要是由罐體和罐蓋組成，罐體上設(shè)有固定環(huán)，其特征在于罐體的固定環(huán)連有一固定支架。
專利摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種帶有固定支架的醫(yī)用同位素屏蔽罐，主要是由罐體和罐蓋組成，罐體上設(shè)有固定環(huán)，其特征在于罐體的固定環(huán)連有一固定支架。本發(fā)明結(jié)構(gòu)合理，構(gòu)思巧妙，既利用磁性材料的吸合力，減少了操作時(shí)間，又可據(jù)現(xiàn)場(chǎng)需求可調(diào)節(jié)高度和角度的，從而便于打開(kāi)抽取藥液，從而降低醫(yī)生的輻射量，達(dá)到了外照射防護(hù)的盡量縮短受照射的時(shí)間和在人和輻射源之間設(shè)置屏蔽物的條件，體現(xiàn)了以人為本的精神，極具推廣價(jià)值。
文檔編號(hào)G21F5/00GKCN101615441SQ200810039537
公開(kāi)日2009年12月30日 申請(qǐng)日期2008年6月25日
發(fā)明者強(qiáng) 劉, 沈姚力, 趙立友 申請(qǐng)人:上海同普放射防護(hù)設(shè)備有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan