專利名稱:制造二維準(zhǔn)直器元件的方法以及二維準(zhǔn)直器元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種制造用于輻射探測器的二維準(zhǔn)直器元件的方法以及一種二維準(zhǔn) 直器元件(Kollimatorelement)。
背景技術(shù)：
例如，在利用X射線設(shè)備、諸如用于檢查患者的計算機(jī)斷層造影設(shè)備的成像中采 用準(zhǔn)直器。計算機(jī)斷層造影設(shè)備具有在機(jī)架上設(shè)置的X射線系統(tǒng)，該X射線系統(tǒng)帶有X射 線源和X射線探測器。通常，X射線探測器由線性地或二維地互相排列的多個探測器模塊 構(gòu)造。X射線探測器的每個探測器模塊例如包括互相對齊的閃爍晶體陣列和光電二極管陣 列。閃爍晶體陣列和光電二極管陣列的互相對齊的元件形成探測器模塊的探測器元件。在 閃爍晶體陣列上入射的X射線被轉(zhuǎn)換成光，其由光電二極管陣列轉(zhuǎn)換成電信號。這些電信 號構(gòu)成了重建利用計算機(jī)斷層造影設(shè)備所檢查的對象或患者的圖像的出發(fā)點(diǎn)。
從X射線源出發(fā)的X射線在對象中散射，從而除了 X射線源的初級輻射，在X射線 探測器上還出現(xiàn)雜散輻射，即，所謂的二次輻射。該雜散輻射造成X圖像的噪聲并且由此減 小X圖像中的對比度區(qū)別的可識別性。為了降低雜散輻射影響通常為每個閃爍晶體陣列設(shè) 置一個吸收X射線的準(zhǔn)直器，其使得只有特定空間方向上的X射線到達(dá)閃爍晶體陣列上。以 這種方式可以降低圖像偽影并且在給定的對比度噪聲比的情況下顯著降低對患者應(yīng)用的X 射線劑量。
迄今為止在計算機(jī)斷層造影設(shè)備中主要使用所謂的一維準(zhǔn)直器，其由多個在φ方 向上依次設(shè)置的準(zhǔn)直器片(Kollimatorblechen)構(gòu)造。在此，這些準(zhǔn)直器片對齊X射線焦 點(diǎn)并且使得可以抑制在Φ方向上、即在機(jī)架的旋轉(zhuǎn)方向上的雜散輻射。這些準(zhǔn)直器片由鎢制 造并且為了機(jī)械穩(wěn)定性必須粘在支撐機(jī)構(gòu)中。
在擴(kuò)大在ζ方向上、即在患者軸的方向上的X射線探測器的情況下，并且在雙源系 統(tǒng)(Dual-Source-Systemen)(在該系統(tǒng)中同時運(yùn)行兩個在一個測量平面上圍繞一個固定 的角度在Φ方向上偏移地設(shè)置的用于采集投影的拍攝系統(tǒng))中，還需要在ζ方向上的附加準(zhǔn) 直。這樣的二維準(zhǔn)直器、簡稱2D準(zhǔn)直器，例如在US7362894B2中或者在DE102005044650A1 中進(jìn)行了描述。在此，隨著探測器的寬度增加，越來越難以以足夠的精度和強(qiáng)度來制造格 柵類的支撐機(jī)構(gòu)，以便將片保持在位置上。為了實(shí)現(xiàn)2D準(zhǔn)直器的高的精度和強(qiáng)度，此外還 公知一種制造方法，在該制造方法中為了硬化而進(jìn)行與以格柵類的二維形式的金屬成分的 高分子復(fù)合(Polymer-Verbindimg)。然而在此有如下缺點(diǎn)由于與金屬復(fù)合的有限填充度 (該填充度典型地為50%)，顯著降低了所構(gòu)造的隔片(Stege)的準(zhǔn)直作用。

發(fā)明內(nèi)容
由此出發(fā)，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是，這樣構(gòu)造一種制造2D準(zhǔn)直器元件的方 法，使得制成的2D準(zhǔn)直器元件具有高的精度和強(qiáng)度，并且滿足用于極大減少雜散輻射的前 提條件。此外本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是，這樣構(gòu)造一種2D準(zhǔn)直器元件，使得其具有所提
4到的特征。
按照本發(fā)明，通過一種制造用于輻射探測器的二維準(zhǔn)直器元件的方法以及通過一 種二維準(zhǔn)直器元件解決了上述技術(shù)問題。
在按照本發(fā)明制造用于輻射探測器的二維準(zhǔn)直器元件的方法中，借助快速制造技 術(shù)(Rapid Manufacturing Technik)逐層地由吸收射線的材料形成交叉的隔片，后者沿著φ 方向和ζ方向?qū)R并且形成具有至少在2D準(zhǔn)直器元件的內(nèi)部區(qū)域中側(cè)面地包圍的輻射通 道的網(wǎng)格形結(jié)構(gòu)(zellenf6rmige Struktur)。
所謂的快速制造技術(shù)是一種快速制造方法，在該方法中逐層地由粉末狀的材料在 使用物理和/或化學(xué)效應(yīng)的條件下構(gòu)造組件。在每個制造步驟中可以選擇性地將新的層非 常精確地并且薄地涂覆在現(xiàn)有的結(jié)構(gòu)上，使得可以按照其寬度、高度和位置以非常高的精 度制造2D準(zhǔn)直器元件的隔片。在此，該制造可以基于直接地由可以如在CAD系統(tǒng)中呈現(xiàn)的 3D表面數(shù)據(jù)以簡單的方式所產(chǎn)生的層數(shù)據(jù)進(jìn)行。在此，以這種方式制造的2D準(zhǔn)直器元件是 一體的組件而不是由多個單個的片組成。因此其具有特別高的強(qiáng)度。
作為吸收輻射的材料采用沒有附加粘合劑的金屬粉末，從而以金屬填充隔片的填 充度幾乎為100%并且可實(shí)現(xiàn)非常有效的準(zhǔn)直。
作為快速制造技術(shù)優(yōu)選采用選擇性的激光熔化(Selective Laser Melting, SLM)。在該技術(shù)中按照層構(gòu)造原理通過利用激光，例如利用具有大約100至1000瓦特的 激光功率的纖維激光(Faserlaser)，照射(belichten)各個層，來三維地構(gòu)造2D準(zhǔn)直器元 件。通過激光射線的好的可聚焦性，可以將激光燒結(jié)處理(Lasersinterprozess)限制到小 的面積，從而也可以制造在50至300 μ m、優(yōu)選80 μ m范圍的非常精細(xì)的隔片。通過激光射 線的快速偏轉(zhuǎn)的可能性，可以比硬化高分子復(fù)合的公知的制造方法極大減少制造時間。
作為吸收輻射的材料，在第一優(yōu)選實(shí)施方式中采用鉬或含鉬的合金。鉬具有原子 序數(shù)42并且由此很好地適合于雜散輻射的吸收。然而，特別的優(yōu)點(diǎn)是，與其它適合于構(gòu)造 準(zhǔn)直器的材料相比，在大約2600°C時鉬具有明顯更低的熔點(diǎn)。由此簡化了制造開銷。例如 在激光熔化處理中由于低的處理溫度需要更小的激光功率。利用相對成本低的激光可以實(shí) 現(xiàn)這種功率。
另一個優(yōu)點(diǎn)在于，鉬具有與其它材料相比小的139W/(m · k)的導(dǎo)熱性。由此可以 制造2D準(zhǔn)直器元件的特別薄的壁結(jié)構(gòu)，因?yàn)橥ㄟ^激光帶來的熱不能如此快地擴(kuò)展到側(cè)面。 由此可以有針對地以高的精度構(gòu)造準(zhǔn)直器元件的結(jié)構(gòu)。
此夕卜，由于10. 28g/cm3的相對小的密度，在相同的結(jié)構(gòu)大小的情況下以相應(yīng)的方 式還減少了組件重量。如果在計算機(jī)斷層造影設(shè)備中采用用于構(gòu)造輻射探測器的這樣的2D 準(zhǔn)直器元件，則這點(diǎn)是特別具有優(yōu)勢的。也就是，由此降低了在機(jī)架旋轉(zhuǎn)時最大出現(xiàn)的離心 力，該離心力必須由相應(yīng)的對于準(zhǔn)直器而設(shè)置的支撐或保持結(jié)構(gòu)來承受。由此，簡化了用于 制造在準(zhǔn)直器和輻射探測器之間的機(jī)械連接的開銷。
此外，鉬是相對價格低的并且容易獲得，從而通過采用鉬降低了用于準(zhǔn)直器的成 本開銷。
如果作為吸收輻射的材料采用含鉬的合金，則同樣得到上面提到的優(yōu)點(diǎn)。通過附 加的合金元件特別可以將機(jī)械特征和物理特征(例如相對于X射線的吸收特征)有針對地 最佳匹配到所出現(xiàn)的情況。
5[0017]作為吸收輻射的材料此外優(yōu)選還采用鎢、鉭或者具有成分鎢和/或鉭的合金。這 些金屬同樣如鉬那樣在不采用附加的粘合劑的條件下在激光熔化時可以被采用，從而以金 屬填充的填充度幾乎為100%并且由此產(chǎn)生非常有效的準(zhǔn)直。
在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式中，從上部出發(fā)在2D準(zhǔn)直器元件的底部的方向上越來 越寬地構(gòu)造具有φ和/或ζ對齊的隔片的寬度，從而提高網(wǎng)格形結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。該寬度特別 地可以相應(yīng)于局部地在2D準(zhǔn)直器元件中預(yù)計的最大離心力來選擇，該最大離心力是在計 算機(jī)斷層造影設(shè)備中采用2D準(zhǔn)直器元件的情況下在旋轉(zhuǎn)運(yùn)行時會出現(xiàn)的。
此外，從中心在2D準(zhǔn)直器元件的側(cè)面的方向上關(guān)于其基面越來越傾斜地構(gòu)造具 有φ和/或ζ對齊的隔片。在此，特別地這樣選擇具有φ和/或ζ對齊的隔片關(guān)于準(zhǔn)直器元 件的基面的傾斜角，使得處于裝配(verbautem)狀態(tài)的隔片在X射線源的焦點(diǎn)的方向上對 齊。這意味著，隔片被垂直地設(shè)置在2D準(zhǔn)直器元件的中心區(qū)域中，使得其分別平行于輻射 面的擴(kuò)展方向延伸。隨著與中心的距離愈來愈遠(yuǎn)，其越來越強(qiáng)地向內(nèi)傾斜于2D準(zhǔn)直器元件 的中心。這點(diǎn)具有如下結(jié)果在2D準(zhǔn)直器元件的邊沿區(qū)域中在2D準(zhǔn)直器元件的上部的兩 個相鄰的隔片之間的距離小于在其底部上的距離。
優(yōu)選地，將多個在φ方向上的2D準(zhǔn)直器元件組合成一個準(zhǔn)直器裝置，特別是用于 計算機(jī)斷層造影設(shè)備的X射線探測器。由此可以制造任意大的準(zhǔn)直器裝置，其滿足既在φ方 向又在Z方向上覆蓋整個X射線探測器的要求。視2D準(zhǔn)直器元件的配置不同，在每個方向 上僅一個邊沿區(qū)域配備有隔片，使得開口地構(gòu)造在2D準(zhǔn)直器的邊沿區(qū)域上的輻射通道。只 有在組合的準(zhǔn)直器裝置中才通過相鄰的2D準(zhǔn)直器元件的隔片封閉開口的輻射通道，從而X 射線探測器的每個單個像素通過準(zhǔn)直器裝置的隔片從四個側(cè)面限制。然而還可能的是，特 別地在ζ方向上的兩個或多個像素，在其它實(shí)施例中還根據(jù)ζ位置，位于兩個相對設(shè)置的隔 片之間。也就是，在該情況下多于僅一個像素由輻射通道包圍。
在本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施方式中，至少在ζ方向上材料結(jié)合地 (stoff-schlussig)互相連接所述多個2D準(zhǔn)直器元件，特別是互相粘結(jié)。在2D準(zhǔn)直器元 件的附著方向上的隔片末端(Stegenden)和另一個與之垂直的2D準(zhǔn)直器元件的隔片壁 (Stegwand)之間形成該材料結(jié)合的連接。在兩側(cè)地構(gòu)造的其隔片的2D準(zhǔn)直器元件情況下， 將兩個鄰接的2D準(zhǔn)直器元件的互相對齊的隔片互相粘結(jié)。
在本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施方式中構(gòu)造用于保持或調(diào)整所述2D準(zhǔn)直器元件的保持 和/或調(diào)整元件，從而不需要用于安裝這樣的元件的附加的制造過程。
以這種方式優(yōu)選可以至少在兩個方向中的一個方向上以簡單的方式形面結(jié)合地 (formschlussig)互相連接所述2D準(zhǔn)直器元件。
此外，按照本發(fā)明還通過一種按照上述方法的實(shí)施方式制造的2D準(zhǔn)直器元件來 解決所述技術(shù)問題。


本發(fā)明的實(shí)施例以及本發(fā)明的其它優(yōu)選實(shí)施方式在以下的示意性附圖中示出。附 圖中，
圖1示出了計算機(jī)斷層造影設(shè)備的示意圖，
圖2示出了 2D準(zhǔn)直器元件的透視性側(cè)視圖，[0028]圖3示出了 2D準(zhǔn)直器元件的一個片段的前視圖，并且
圖4示出了 2D準(zhǔn)直器元件的制造方法的流程圖。
在附圖中起相同作用的部件具有相同的附圖標(biāo)記。
具體實(shí)施方式
圖1示出了計算機(jī)斷層造影設(shè)備12，其包括以X射線管7形式的輻射源，從該輻射 源的焦點(diǎn)發(fā)出扇形X射線13。扇形X射線13穿透待檢查的對象14或患者并且出現(xiàn)在輻射 探測器上，此處是X射線探測器2。
X射線管7和X射線探測器2彼此相對地設(shè)置在(此處未示出的)計算機(jī)斷層造 影設(shè)備12的機(jī)架上，該機(jī)架圍繞計算機(jī)斷層造影設(shè)備2的系統(tǒng)軸Z (=患者軸)在φ方向上 可旋轉(zhuǎn)。S卩，φ方向表示機(jī)架的周向(Umfangsrichtung)并且ζ軸表示待檢查的對象14的 縱軸。
在計算機(jī)斷層造影設(shè)備2的運(yùn)行中在機(jī)架上設(shè)置的X射線管7和X射線探測器2 圍繞對象14旋轉(zhuǎn)，其中從不同的投影方向獲得對象14的X射線圖。對于每個X射線投影， 穿透對象14并且由此衰減的X射線擊中在X射線探測器2上。在此，X射線探測器2產(chǎn)生 信號，這些信號相應(yīng)于擊中的X射線的強(qiáng)度。然后分析單元15以本身公知的方式從利用X 射線探測器2所采集的信號中計算對象14的一個或多個二維或三維圖像，這些圖像可以在 顯示單元16上顯示。
X射線探測器2具有多個(在本例中是四個)探測器模塊17，其在φ方向上并排設(shè) 置并且僅其中的一個用附圖標(biāo)記表示。每個探測器模塊17包括在ζ方向上排列為行并且 在φ方向上排列為列的探測器元件18，用于將X射線轉(zhuǎn)換為信號，同樣由于清楚性原因用一 個附圖標(biāo)記表示其中的僅一個。該轉(zhuǎn)換例如借助與閃爍晶體19光學(xué)耦合的光電二極管20 或者借助直接轉(zhuǎn)換的半導(dǎo)體來進(jìn)行。探測器元件18在該實(shí)施例中被按照閃爍晶體探測器 的類型構(gòu)造。
從X射線管7的焦點(diǎn)6發(fā)出的初級輻射在對象14中在不同的空間方向上散射。該 所謂的二次輻射在探測器元件18中產(chǎn)生不能區(qū)別于對于圖像重建所需的初級輻射信號的 信號。由此該二次輻射在沒有其它措施的情況下會導(dǎo)致對所探測的輻射的錯誤解釋并且由 此導(dǎo)致借助計算機(jī)斷層造影設(shè)備2獲得的圖像的顯著變差。為了限制二次輻射的影響，借 助準(zhǔn)直器裝置8將基本上僅從焦點(diǎn)6出發(fā)的X射線部分，也就是初級輻射部分，不受阻礙地 放行到X射線探測器2，而二次輻射在理想情況下完全被吸收。
相應(yīng)于探測器模塊17的劃分(Gliederimg)，準(zhǔn)直器裝置8包括多個(在該實(shí)施例 中是四個)在φ方向上相繼設(shè)置的2D準(zhǔn)直器元件1，其中，在圖2中按照透射性側(cè)視圖示出 一個2D準(zhǔn)直器元件1。2D準(zhǔn)直器元件1由沿著φ方向和ζ方向?qū)R的由吸收輻射的材料構(gòu) 成的隔片3、4 一體地構(gòu)成。由此隔片3、4形成具有側(cè)面圍繞的輻射通道5的網(wǎng)格形結(jié)構(gòu)， 其中僅一個輻射通道用附圖標(biāo)記表示。只有在2D準(zhǔn)直器元件1的前面的邊沿區(qū)域中沒有 在ζ方向上對齊的隔片4，從而在那里出現(xiàn)的通道21在側(cè)面是開口的。在裝配狀態(tài)中，通道 21在該邊沿區(qū)域中由與之相鄰交界的2D準(zhǔn)直器元件1的在ζ方向上延伸的隔片4封閉。 由此，即使在兩個2D準(zhǔn)直器元件1的交界區(qū)域中也能形成輻射通道5，其在邊界區(qū)域中具有 一個具帶有單個的隔片寬度的隔片4。
7[0037]隔片3、4由吸收輻射的材料鎢制造。但是同樣可以考慮，采用鉭、具有成分鎢和/ 或鉭的合金或其它金屬，來替代鎢。
為了使得基本上僅從焦點(diǎn)6發(fā)出的初級輻射擊中探測器元件，在裝配狀態(tài)中所有 的隔片4始終對齊X射線管7的焦點(diǎn)6。這些隔片相應(yīng)地在2D準(zhǔn)直器元件1的中心11垂 直設(shè)置。隨著與中心11的距離增加，如在圖3中按照2D準(zhǔn)直器元件1的前視圖示出的那 樣，其關(guān)于垂直方向越來越多地向內(nèi)傾斜于2D準(zhǔn)直器元件的中心11。在圖2示出的實(shí)施例 中，只有在φ方向上對齊的隔片4具有傾斜。為了 X射線的有效準(zhǔn)直，同樣隨著與中心11的 距離增加而傾斜地實(shí)施具有ζ對齊的隔片3。這點(diǎn)具有如下結(jié)果在2D準(zhǔn)直器元件1的邊 沿區(qū)域中在2D準(zhǔn)直器元件的上部23上的兩個相鄰的隔片之間的間隔Z1小于在其底面22 上的間隔Z2。
通過將多個2D準(zhǔn)直器元件1在φ方向上并排設(shè)置并且互相固定地連接，特別是互 相粘結(jié)，來制造圖1的準(zhǔn)直器裝置8。為了提高準(zhǔn)直器裝置8的高度，也可以相疊地設(shè)置多 個2D準(zhǔn)直器元件1。如果2D準(zhǔn)直器元件1在ζ方向上的寬度不等于X射線探測器2的寬 度，則也可以將具有合適地選擇的寬度的兩個或多個2D準(zhǔn)直器元件1在ζ方向上前后設(shè) 置，使得探測器平面在ζ方向上完全地由準(zhǔn)直器裝置8覆蓋。為了 2D準(zhǔn)直器元件1的相對 地對齊，在φ方向上延伸的隔片在隔片前邊沿24上具有一個以槽的形式的調(diào)整元件10'并 且在隔片后邊沿25上具有一個與該槽匹配的銷10，從而可以形面結(jié)合地連接2D準(zhǔn)直器元 件1。此外兩個外部的隔片3具有可以利用相應(yīng)的槽來形面結(jié)合地連接在閃爍晶體19上的 銷。這些銷實(shí)現(xiàn)用于將2D準(zhǔn)直器元件1支撐在閃爍晶體19上的保持元件10的功能。
借助快速制造技術(shù)，在該實(shí)施例中借助激光熔化(選擇性激光熔化，SLM)來制造 2D準(zhǔn)直器元件1。按照層構(gòu)造原理通過利用激光、例如利用具有大約100至200瓦特的激 光功率的纖維激光，三維地構(gòu)造2D準(zhǔn)直器元件1。通過激光輻射的良好的可聚焦性，可以選 擇性地?zé)Y(jié)小的面積或者制造在幾百μ m的范圍內(nèi)的非常精細(xì)的隔片3，4。
該制造方法在此包括在圖4中示出的步驟
a) (26)首先，將以粉末形式出現(xiàn)的金屬或者說鉬、鎢或鉭的薄層利用刮板 (Rakel)或軋輥(Walze)表面覆蓋地涂覆在結(jié)構(gòu)面(Bauplattform)上。
b) (27)然后，將該層相應(yīng)于出現(xiàn)的層數(shù)據(jù)在隔片3、4的位置上在φ和ζ方向上利 用激光輻射照射。在此，由激光供給的能量由粉末吸收并且導(dǎo)致在總表面積減少的條件下 顆粒的局部限制的燒結(jié)或熔化。
c) (28)在照射過程之后，將結(jié)構(gòu)面稍微下沉(abgesenkt)并且按照步驟a)拉開 (aufgezogen) 一個新的層。
一直進(jìn)行該過程，直到形成具有為了有效準(zhǔn)直所必需的傾斜度和高度的交叉的隔 片 3，4。
然而，該制造方法和2D準(zhǔn)直器元件1的采用不僅限于X射線診斷技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng) 域，而是可以應(yīng)用于采用伽馬射線或其它波長范圍的輻射的成像系統(tǒng)。
在此，要明確指出的是，在相應(yīng)的尺寸的情況下，2D準(zhǔn)直器元件可以覆蓋輻射探測 器的整個有效面積。換言之，這意味著，2D準(zhǔn)直器元件不必是準(zhǔn)直器的片段，而是在相應(yīng)的 尺寸的情況下可以形成準(zhǔn)直器本身。
總之，本發(fā)明涉及一種制造用于輻射探測器2的二維準(zhǔn)直器元件1的方法，在該方
8法中借助快速制造技術(shù)逐層地由吸收射線的材料形成交叉的隔片3，4，后者沿著φ方向和ζ 方向?qū)R并且形成具有至少在2D準(zhǔn)直器元件1的內(nèi)部區(qū)域中側(cè)面地包圍的輻射通道5的 網(wǎng)格形結(jié)構(gòu)。本發(fā)明還涉及一種具有這樣的層結(jié)構(gòu)的、用于輻射探測器2的二維準(zhǔn)直器元 件1。以這種方式可以在相同高的準(zhǔn)直效果的情況下提供一種具有高的精度和強(qiáng)度的準(zhǔn)直 器裝置8。
權(quán)利要求
一種制造用于輻射探測器(2)的2D準(zhǔn)直器元件(1)的方法，在該方法中借助快速制造技術(shù)逐層地由吸收射線的材料形成交叉的隔片(3，4)，這些隔片沿著方向和z方向?qū)R并且形成具有至少在2D準(zhǔn)直器元件(1)的內(nèi)部區(qū)域中側(cè)面地包圍的輻射通道(5)的網(wǎng)格形結(jié)構(gòu)。FSA00000204935900011.tif
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的方法，其中，作為快速制造技術(shù)采用選擇性的激光熔化。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1或2所述的方法，其中，作為吸收輻射的材料，采用鉬或含鉬的合金。
4.根據(jù)權(quán)利要求
1或2所述的方法，其中，作為吸收輻射的材料采用鎢、鉭或包括合金 元件鎢和/或鉭的合金。
5.根據(jù)權(quán)利要求
1至4中任一項(xiàng)所述的方法，其中，從中心(11)在所述2D準(zhǔn)直器元 件(1)的側(cè)面的方向上關(guān)于其基面(22)越來越傾斜地構(gòu)造具有φ和/或ζ對齊的隔片(3， 4)。
6.根據(jù)權(quán)利要求
5所述的方法，其中，這樣選擇所述具有φ和/或ζ對齊的隔片關(guān)于所 述2D準(zhǔn)直器元件(1)的基面(22)的傾斜角，使得處于裝配狀態(tài)的隔片(3，4)在X射線源 (7)的焦點(diǎn)(6)的方向上對齊。
7.根據(jù)權(quán)利要求
1至6中任一項(xiàng)所述的方法，其中，從上部出發(fā)在2D準(zhǔn)直器元件(1) 的底部的方向上越來越寬地構(gòu)造具有φ和/或Z方向?qū)R的隔片(3，4)的寬度。
8.根據(jù)權(quán)利要求
1至7中任一項(xiàng)所述的方法，其中，制造多個2D準(zhǔn)直器元件(1)并且 在φ方向和/或Z方向上組合成用于所述輻射探測器(2)的準(zhǔn)直器裝置(8)。
9.根據(jù)權(quán)利要求
8所述的方法，其中，至少在ζ方向上材料結(jié)合地互相連接所述多個 2D準(zhǔn)直器元件(I)0
10.根據(jù)權(quán)利要求
8所述的方法，其中，至少在兩個方向上的一個上形面結(jié)合地互相連 接所述多個2D準(zhǔn)直器元件(1)。
11.根據(jù)權(quán)利要求
1至10中任一項(xiàng)所述的方法，其中，除了所述隔片(3，4)還附加地構(gòu) 造用于保持或調(diào)節(jié)所述2D準(zhǔn)直器元件(1)的保持和/或調(diào)節(jié)元件(9，10，10')。
12.一種用于輻射探測器(2)的2D準(zhǔn)直器元件，其具有交叉的隔片(3，4)，所述隔片作 為按照快速制造技術(shù)的制造方法的結(jié)果由吸收輻射的材料制成，其被一體地構(gòu)造并且具有 帶有側(cè)面被包圍的輻射通道(5)的網(wǎng)格形結(jié)構(gòu)，其中，所述隔片(3，4)由材料逐層地沿著φ 和ζ方向構(gòu)造。
13.根據(jù)權(quán)利要求
11所述的2D準(zhǔn)直器元件，其中，所述快速制造計算是選擇性的激光熔化。
14.根據(jù)權(quán)利要求
12或13所述的2D準(zhǔn)直器元件，其中，所述吸收輻射的材料是鉬或含 鉬的合金。
15.根據(jù)權(quán)利要求
12或13所述的2D準(zhǔn)直器元件，其中，所述吸收輻射的材料包括鎢、 鉭或包括合金元件鎢和/或鉭的合金。
16.根據(jù)權(quán)利要求
12至15中任一項(xiàng)所述的2D準(zhǔn)直器元件，其中，從中心(11)在2D準(zhǔn) 直器元件(1)的側(cè)面的方向上關(guān)于其基面(22)越來越傾斜地構(gòu)造具有φ和/或ζ對齊的隔 片(3,4) 0
17.根據(jù)權(quán)利要求
16所述的2D準(zhǔn)直器元件，其中，這樣選擇所述具有φ和/或ζ對齊 的隔片(3，4)關(guān)于準(zhǔn)直器元件(1)的基面(22)的傾斜角，使得處于裝配狀態(tài)的隔片(3，4)在X射線源(7)的焦點(diǎn)(6)的方向上對齊。
18.根據(jù)權(quán)利要求
12至17中任一項(xiàng)所述的2D準(zhǔn)直器元件，其中，從上部出發(fā)在2D準(zhǔn) 直器元件(1)的底部的方向上越來越寬地構(gòu)造具有φ和/或ζ方向?qū)R的隔片(3，4)的寬度。
19.根據(jù)權(quán)利要求
12至18中任一項(xiàng)所述的2D準(zhǔn)直器元件，其中，將多個2D準(zhǔn)直器元 件(1)在φ方向和/或Z方向上組合成用于輻射探測器(2)的準(zhǔn)直器裝置(8)。
20.根據(jù)權(quán)利要求
19所述的2D準(zhǔn)直器元件，其中，至少在ζ方向上材料結(jié)合地互相連 接所述多個2D準(zhǔn)直器元件(1)。
21.根據(jù)權(quán)利要求
19所述的2D準(zhǔn)直器元件，其中，至少在兩個方向上的一個上形面結(jié) 合地互相連接所述多個2D準(zhǔn)直器元件(1)。
22.根據(jù)權(quán)利要求
12至21中任一項(xiàng)所述的2D準(zhǔn)直器元件，其中，除了所述隔片(3， 4)還附加地具有用于保持或調(diào)節(jié)所述2D準(zhǔn)直器元件(1)的保持和/或調(diào)節(jié)元件(9，10， 10')。
專利摘要
本發(fā)明涉及一種制造用于輻射探測器(2)的2D準(zhǔn)直器元件(1)的方法，在該方法中借助快速制造技術(shù)逐層地由吸收射線的材料形成交叉的隔片(3，4)，后者沿著方向和z方向?qū)R并且形成具有至少在2D準(zhǔn)直器元件(1)的內(nèi)部區(qū)域中側(cè)面地包圍的輻射通道(5)的網(wǎng)格形結(jié)構(gòu)。本發(fā)明還涉及一種具有這樣的層結(jié)構(gòu)的、用于輻射探測器(2)的二維準(zhǔn)直器元件(1)。以這種方式可以在相同高的準(zhǔn)直效果的情況下提供一種具有高的精度和強(qiáng)度的準(zhǔn)直器裝置(8)。
文檔編號G21K1/02GKCN101964217SQ201010235369
公開日2011年2月2日 申請日期2010年7月22日
發(fā)明者丹尼爾·尼德洛納, 斯蒂芬·沃思, 邁克爾·梅斯, 馬里奧·艾肯希爾 申請人:西門子公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan