專利名稱：一種等離子體發(fā)生裝置的制作方法
技術領域：
本實用型涉及一種電弧等離子體發(fā)生設備，特別是非轉移弧等離子體發(fā)生裝置。
目前，等離子體技術已廣泛應用于冶金、焊接等領域，普通的等離子體發(fā)生裝置由陰極頭、噴咀、冷卻水通道和氬氣通道等構成。當冶煉超低碳不銹鋼對，為了降低成本、減少鉻的損失，必須造成極高的溫度或是形成真空才能順利將鋼中的碳脫至目標值，如果將部分氧氣作為等離子載體，形成含高溫氧等離子體的反應區(qū)，可以造成脫碳保銘的條件，但是使用普通的等離子體發(fā)生裝置，如果從氬氣通道吹氧，易發(fā)生燒壞陰極頭和噴咀事故。
本實用新型目的是提供一種等離子體發(fā)生裝置，在冶煉不銹鋼時噴吹氧氣，不損壞陰極頭和噴嘴。
本實用新型技術方案是在具有陰極頭、噴嘴、冷卻水通道和氬氣通道的等離子體發(fā)生裝置上增加氧氣噴吹通道，該通道與陰極頭和噴嘴之間隔有冷卻水通道壁。
采用本實用新型，在冶煉超低碳不銹鋼時，部分噴吹氧氣，由于氧氣噴吹通道與陰極頭和噴嘴之間隔有冷卻水通道壁，所以不會燒壞陰極頭及噴嘴。
本實用新型具有結構合理、方便實用、安全可靠等特點。
附圖
為本實用新型一個實施例結構示意圖。
以下參照附圖，結合實施例對本實用新型作進一步詳述。
等離子體發(fā)生裝置由陰極頭(1)、噴嘴(2)、冷卻水通道(3、4、5、6)和氬氣通道(7)、氧氣噴吹通道(8、9)等構成，在氧氣噴吹通道與陰極頭及噴嘴之間隔有冷卻水通道壁，在冶煉不銹鋼時噴吹氧氣不會燒壞陰極頭和噴嘴。
權利要求一種等離子體發(fā)生裝置，具有陰極頭(1)、噴嘴(2)、冷卻水通道(3、4、5、6)和氬氣通道(7)，其特征在于組成中還有氧氣噴吹通道(8、9)，所說的氧氣噴吹通道與陰極頭和噴嘴之間隔有冷卻水通道壁。
專利摘要本實用新型涉及一種電弧等離子體發(fā)生裝置，特別適用于冶煉超低碳不銹鋼。其組成中有陰極頭(1)、噴嘴(2)、冷卻水通道(3、4、5、6)、氬氣通道(7)和氧氣噴吹通道(8、9)。本實用新型具有結構合理、冶煉不銹鋼噴吹氧氣不燒損陰極頭及噴嘴等特點。
文檔編號H05H1/26GK2164175SQ9322256
公開日1994年5月4日 申請日期1993年8月18日 優(yōu)先權日1993年8月18日
發(fā)明者華抗, 王存, 金炳慶, 潘公平 申請人:唐山鋼鐵(集團)公司, 無錫市鼓風機廠