專利名稱：X射線裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種X射線裝置，它具有一個裝配體，一個安裝在該裝配體上的X射線源以及一個安裝在裝配體上的X射線探測器，其中，為了使該X射線裝置能正常運行，必須在一個總公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源與X射線探測器的相對位置。
這類X射線裝置例如已由US 5 020 089、US 5 473 657、US 4 187 429和1991年日本專利JP 3-46 797A專利摘要所公知。在此，在裝配好各部件之后，有必要校正X射線源和X射線探測器的相對位置，即相對移動各部件。這種校正既可以手動也可以自動進行。
這種校正費時費錢又麻煩。此外，這種校正只能由專業(yè)人員來操作。X射線也可能照射到操作人員。
本發(fā)明的目的在于創(chuàng)制一種X射線裝置，使之避免現(xiàn)有技術(shù)的缺點。
本發(fā)明的目的是通過這樣一種X射線裝置來實現(xiàn)的，該裝置具有一個裝配體；一個安裝在該裝配體上的X射線源支架，其內(nèi)安裝一個X射線源；以及一個X射線探測器支架，其內(nèi)安裝一個X射線探測器，其中，為了使該X射線裝置能正常運行，必須在一個總公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源與X射線探測器的相對位置，-其中，所述X射線源和X射線源支架具有共同起作用的射線源校正工具，它們在組裝所述X射線源支架時強制性地在一個射線源公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源與X射線源支架的相對位置；-其中，所述X射線探測器和X射線探測器支架具有共同起作用的探測器校正工具，它們在組裝所述X射線探測器支架時強制性地在一個探測器公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線探測器與X射線探測器支架的相對位置；-其中，所述X射線源支架和裝配體具有共同起作用的射線源支架校正工具，它們在將所述X射線源支架裝配在該裝配體上時強制性地在一個射線源支架公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源支架與裝配體的相對位置；-其中，所述X射線探測器支架和裝配體具有共同起作用的探測器支架校正工具，它們在將所述X射線探測器支架裝配在該裝配體上時強制性地在一個探測器支架公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線探測器支架與裝配體的相對位置；-其中，射線源公差、探測器公差、射線源支架公差和探測器支架公差之和最大才與總公差一樣大。
十分明顯，在本發(fā)明中必須強制性地確保總公差，從而無需相對移動各部件來進行校正。
為了檢測所述校正必需進行試樣測量。在此，測量試樣必須安裝在射線行程中的確定位置。所述X射線裝置優(yōu)選這樣來構(gòu)造-所述裝配體和一個安裝在該裝配體上的試樣支架具有共同起作用的試樣支架校正工具，它們在將所述試樣支架裝配在該裝配體上時強制性地在一個試樣支架公差范圍內(nèi)精確地校正所述試樣支架與裝配體的相對位置；-所述試樣支架和一個安裝在該試樣支架上的測量試樣具有共同起作用的試樣校正工具，它們在將所述測量試樣裝配在該試樣支架上時強制性地在一個試樣公差范圍內(nèi)精確地校正所述測量試樣與試樣支架的相對位置；所述共同起作用的校正工具可被構(gòu)造成例如止動元件、校正孔和校正銷或校正平面。當(dāng)采用校正孔和校正銷結(jié)構(gòu)時，校正銷優(yōu)選至少在一個局部段被構(gòu)造成錐形。
下面借助附圖所示實施例對本發(fā)明的其他優(yōu)點和細(xì)節(jié)作進一步詳細(xì)說明，附圖均為示意圖，附圖中

圖1示出一計算機層析X射線攝影機的橫斷面；圖2示出一裝配體側(cè)剖面；圖3示出一X射線源支架；圖4示出一X射線探測器支架；圖5示出另一計算機層析X射線攝影機的橫斷面；圖6示出另一裝配體側(cè)剖面；圖7示出一安裝了各X射線部件的裝配體。
如圖1所示，作為一X射線裝置的一計算機層析X射線攝影機具有一裝配體1，它例如可借助于一部電動機2和一傳動皮帶3而轉(zhuǎn)動。該裝配體1也可例如由一環(huán)形電動機或一摩擦輪驅(qū)動。該裝配體具有射線源支架校正工具4和探測器支架校正工具5。
如圖2所示，所述裝配體1的射線源支架校正工具4和探測器支架校正工具5被構(gòu)造成圓柱形校正銷4、5。所述校正銷4、5(至少在前部段)也可以被構(gòu)造成錐形。也可以選擇將所述裝配體1的射線源支架校正工具4和/或探測器支架校正工具5構(gòu)造成止動元件或校正平面。
圖3所示的X射線源支架6同樣具有射線源支架校正工具7，它們在圖示實施例情況下被構(gòu)造成校正孔7。所述X射線源支架6的射線源支架校正工具7與所述裝配體1的射線源支架校正工具4共同起作用。通過射線源支架校正工具4、7的共同作用，在將所述X射線源支架6裝配在該裝配體1上時強制性地在一個射線源支架公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源支架6與裝配體1的相對位置。
圖4所示的X射線探測器支架8同樣具有探測器支架校正工具9，它們在本實施例中同樣被構(gòu)造成校正孔9。所述X射線探測器支架8的探測器支架校正工具9與所述裝配體1的探測器支架校正工具5共同起作用。由此，在將所述X射線探測器支架8裝配在該裝配體1上時強制性地在一個射線探測器支架公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線探測器支架8與裝配體1的相對位置。
在所述X射線源支架6內(nèi)安裝一X射線源10。不僅該X射線源10而且該X射線源支架6具有共同起作用的射線源校正工具，這些工具被構(gòu)造成和射線源支架校正工具4、7或探測器支架校正工具5、9相類似。通過射線源校正工具的共同作用，在組裝所述X射線源支架6時強制性地在一個射線源公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源10與X射線源支架6的相對位置。為圖示清晰起見而未示出的光闌等部件可有選擇性地與所述X射線源支架6或X射線源10配置。當(dāng)然，在組裝所述X射線源支架6時強制性地同步校正它們。
同樣在所述X射線探測器支架8內(nèi)安裝一X射線探測器11。該X射線探測器11和X射線探測器支架8具有共同起作用的探測器校正工具。通過探測器校正工具的共同作用，在組裝所述X射線探測器支架8時強制性地在一個探測器公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線探測器11與X射線探測器支架8的相對位置。在此，X射線源支架6的光闌的總體情形同樣適合于為清晰起見而未示出的光闌等部件。
為了使該計算機層析X射線攝影機能正常運行，必須在一個總公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源10與X射線探測器11的相對位置。通過適當(dāng)選擇射線源公差、探測器公差、射線源支架公差和探測器支架公差，可以達(dá)到這些公差之和最大才與總公差一樣大。從而通過X射線源支架6和X射線探測器支架8的簡單組裝以及隨后將X射線源支架6和X射線探測器支架8裝配在裝配體1上，即可達(dá)到強制性地在一個總公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源10與X射線探測器11的相對位置。不再需要精密校正。
圖5示出另一計算機層析X射線攝影機，其中，所述X射線源支架6與X射線探測器支架8已被固定在所述裝配體1上。該裝配體另有一試樣支架校正工具12。該試樣支架校正工具12如圖6所示被構(gòu)造成止動元件。因為在該種條件下一種單向校正就已足夠，因此該試樣支架校正工具12也可被構(gòu)造成校正平面。
由圖7清晰示出的安裝在裝配體1上的試樣支架13具有與所述試樣支架校正工具12共同起作用的試樣支架校正工具。通過這些工具，在將該試樣支架裝配在裝配體1時可強制性地在一個試樣支架公差范圍內(nèi)精確地校正所述試樣支架13與裝配體1的相對位置。
同樣所述試樣支架13和一安裝在該試樣支架13上的測量試樣14具有共同起作用的試樣校正工具。通過這些校正工具，在將該測量試樣14裝配在試樣支架13時可強制性地在一個試樣公差范圍內(nèi)精確地校正所述測量試樣與試樣支架13的相對位置。在此，射線源公差、探測器公差、射線源支架公差、探測器支架公差、試樣支架公差和試樣公差之和同樣優(yōu)選小于總公差。
附圖標(biāo)記清單1裝配體2電動機3傳動皮帶4、7射線源支架校正工具5、9探測器支架校正工具6 X射線源支架8 X射線探測器支架10 X射線源11 X射線探測器12 試樣支架校正工具13 試樣支架14 測量試樣
權(quán)利要求
1.一種X射線裝置，它具有一個裝配體(1)；一個安裝在該裝配體(1)上的X射線源支架(6)，其內(nèi)安裝一個X射線源(10)；以及一個X射線探測器支架(8)，其內(nèi)安裝一個X射線探測器(11)，其中，為了使該X射線裝置能正常運行，必須在一個總公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源(10)與X.射線探測器(11)的相對位置，-其中，所述X射線源(10)和X射線源支架(6)具有共同起作用的射線源校正工具，該工具在組裝所述X射線源支架(6)時強制性地在一個射線源公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源(10)與X射線源支架(6)的相對位置，-其中，所述X射線探測器(11)和X射線探測器支架(8)具有共同起作用的探測器校正工具，該工具在組裝所述X射線探測器支架(8)時強制性地在一個探測器公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線探測器(11)與X射線探測器支架(8)的相對位置，-其中，所述X射線源支架(6)和裝配體(1)具有共同起作用的射線源支架校正工具(4、7)，它們在將所述X射線源支架(6)裝配在該裝配體(1)上時強制性地在一個射線源支架公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源支架(6)與裝配體(1)的相對位置，-其中，所述X射線探測器支架(8)和裝配體(1)具有共同起作用的探測器支架校正工具(5、9)，它們在將所述X射線探測器支架(8)安裝在該裝配體(1)上時強制性地在一個探測器支架公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線探測器支架(6)與裝配體(1)的相對位置，-其中，射線源公差、探測器公差、射線源支架公差和探測器支架公差之和最大才與總公差一樣大。
2.按照權(quán)利要求1所述的X射線裝置，-其中，所述裝配體(1)和一個安裝在該裝配體(1)上的試樣支架(13)具有共同起作用的試樣支架校正工具(12)，它們在將所述試樣支架(13)裝配在該裝配體(1)上時強制性地在一個試樣支架公差范圍內(nèi)精確地校正所述試樣支架(13)與裝配體(1)的相對位置，-其中，所述試樣支架(13)和一個安裝在該試樣支架(13)上的測量試樣(14)具有共同起作用的試樣校正工具，它們在將所述測量試樣(14)裝配在該試樣支架(13)上時強制性地在一個試樣公差范圍內(nèi)精確地校正所述測量試樣(14)與試樣支架(13)的相對位置。
3.按權(quán)利要求1或2所述的X射線裝置，其中，所述共同起作用的校正工具(4、5、7、9、12)被構(gòu)造成止動元件(12)。
4.按權(quán)利要求1或2所述的X射線裝置，其中，所述共同起作用的校正工具(4、5、7、9、12)被構(gòu)造成校正平面(12)。
5.按權(quán)利要求1或2所述的X射線裝置，其中，所述共同起作用的校正工具(4、5、7、9、12)被構(gòu)造成校正孔(7、9)和校正銷(4、5)。
6.按權(quán)利要求5所述的X射線裝置，其中，所述校正銷(4、5)至少在一個局部段被構(gòu)造成錐形。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種X射線裝置,它具有一個裝配體(1);一個安裝在該裝置配體(1)上的X射線源支架(6),其內(nèi)安裝一個X射線源(10);以及一個X射線探測器支架(8),其內(nèi)安裝一個X射線探測器(11),其中,為了使該X射線裝置能正常運行,必須在一個總公差范圍內(nèi)精確地校正所述X射線源(10)與X射線探測器(11)的相對位置。按照本發(fā)明設(shè)定了一個射線源公差、一個探測器公差、一個射線源支架公差和一個探測器支架公差;其中這樣來選擇它們,即,使所有結(jié)構(gòu)組件公差之和最大才與總公差一樣大。
文檔編號H05G1/00GK1247447SQ99110339
公開日2000年3月15日 申請日期1999年7月13日 優(yōu)先權(quán)日1998年7月30日
發(fā)明者弗里茨·彼得 申請人:西門子公司