疊層膜、及復(fù)合膜的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種疊層膜，其具備由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的基材膜、以及直接設(shè)置于所述基材膜的一面的由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的保護(hù)膜，其中，所述基材膜的與所述保護(hù)膜相接側(cè)的面、或所述保護(hù)膜的與所述基材膜相接側(cè)的面為實(shí)施了活化處理的面。
【專利說(shuō)明】
疊層膜、及復(fù)合膜的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及疊層膜、以及使用該疊層膜制造復(fù)合膜的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 已知在具有有機(jī)電致發(fā)光元件（以下，也稱為"有機(jī)EL元件"）的顯示裝置、液晶顯 示裝置及電子紙等各種顯示裝置;照明用光源裝置等光源裝置；以及太陽(yáng)能電池等裝置中， 出于保護(hù)構(gòu)成裝置的元件的目的，使用具有妨礙水分及氧透過(guò)的阻隔作用的膜。
[0003] 作為這樣的膜，優(yōu)選為透濕性(透過(guò)水分的比例)小的膜。作為這樣的膜，已知有將 基材膜與在該基材膜上形成的由各種無(wú)機(jī)材料形成的無(wú)機(jī)層組合而成的復(fù)合膜(例如專利 文獻(xiàn)1)。
[0004] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005] 專利文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2009-190186號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 發(fā)明要解決的問(wèn)題
[0008] 近年來(lái)，為了實(shí)現(xiàn)裝置的小型化，要求將所述復(fù)合膜的厚度減薄。因此，本發(fā)明人 已嘗試了通過(guò)在厚度薄的基材膜上形成無(wú)機(jī)層而制造厚度薄的復(fù)合膜。但已判明，如果基 材膜的厚度減薄，則難以穩(wěn)定地形成無(wú)機(jī)層。
[0009] 在多數(shù)情況下利用濺射法、CVD(化學(xué)蒸鍍)法等方法形成無(wú)機(jī)層。對(duì)于這樣的無(wú)機(jī) 層的形成方法而言，通常為了提高無(wú)機(jī)層的膜質(zhì)而期望在高輸出的條件下進(jìn)行。但是，對(duì)高 輸出下的無(wú)機(jī)層的形成而言，由于對(duì)成膜有利的原子、分子向基材的入射能量較大，因此基 材受到的破壞、特別是由熱導(dǎo)致的破壞較大。如果基材膜的厚度薄，則基材膜經(jīng)受不了這樣 的由熱導(dǎo)致的破壞，可能引發(fā)褶皺等變形，或產(chǎn)生基材膜從搬運(yùn)基材膜的搬運(yùn)輥的浮起而 導(dǎo)致無(wú)法進(jìn)行基材膜的穩(wěn)定的搬運(yùn)。這里，基材膜從搬運(yùn)輥浮起，是指由于基材膜的一部分 區(qū)域和搬運(yùn)輥之間產(chǎn)生間隙，導(dǎo)致基材膜局部地從搬運(yùn)輥分離的現(xiàn)象。因此，如果基材膜的 厚度薄，則難以在基材膜上穩(wěn)定地形成無(wú)機(jī)層。
[0010] 為了避免上述問(wèn)題，可考慮降低在形成無(wú)機(jī)層時(shí)裝置的輸出。可是，在低輸出下形 成的無(wú)機(jī)層存在密度變低、膜質(zhì)降低的傾向。這樣的膜質(zhì)低的無(wú)機(jī)層的阻隔性及導(dǎo)電性等 性能差。另外，低輸出下形成無(wú)機(jī)層時(shí)，可能引起制造速度降低。
[0011] 本發(fā)明是鑒于上述問(wèn)題而完成的，目的在于提供:可以穩(wěn)定地制造具備基材膜及 無(wú)機(jī)層、可以減薄基材膜的厚度、并且具備在高輸出下形成的無(wú)機(jī)層的復(fù)合膜的疊層膜；以 及，可以制造具備基材膜及無(wú)機(jī)層、可以減薄基材膜的厚度、并且具備在高輸出下形成的無(wú) 機(jī)層的復(fù)合膜的制造方法。
[0012] 解決問(wèn)題的方法
[0013] 本發(fā)明人為了解決上述問(wèn)題而進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn):具備由脂環(huán)式烯烴樹(shù) 脂形成的基材膜以及由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的保護(hù)膜、并且基材膜和保護(hù)膜以實(shí)施了活化 處理的面直接貼合而成的疊層膜，可以減薄基材膜的厚度，并且，在該基材膜上可以以高輸 出容易地形成無(wú)機(jī)層，進(jìn)而完成了本發(fā)明。
[0014] 即，本發(fā)明如下所述。
[0015] [1]-種疊層膜，其具備：由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的基材膜、以及直接設(shè)置于所述 基材膜的一面的由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的保護(hù)膜，
[0016] 所述基材膜的與所述保護(hù)膜相接側(cè)的面、或所述保護(hù)膜的與所述基材膜相接側(cè)的 面為實(shí)施了活化處理的面。
[0017] [2]根據(jù)[1]所述的疊層膜，其中，所述活化處理為選自等離子體處理、電暈處理、 UV臭氧處理及燃燒化學(xué)氣相沉積處理中的至少一種。
[0018] [3]根據(jù)[1]或[2]所述的疊層膜，其中，所述基材膜的與所述保護(hù)膜相反側(cè)的面具 備無(wú)機(jī)層。
[0019] [4]根據(jù)[3]所述的疊層膜，其中，所述無(wú)機(jī)層包含選自金屬氧化物、金屬氮化物及 金屬氮氧化物中的至少一種。
[0020] [5]根據(jù)[3]或[4]所述的疊層膜，其中，所述無(wú)機(jī)層包含阻隔層。
[0021] [6]根據(jù)[3]~[5]中任一項(xiàng)所述的疊層膜，其中，所述無(wú)機(jī)層包含導(dǎo)電膜。
[0022] [7]根據(jù)[1]~[6]中任一項(xiàng)所述的疊層膜，其中，所述實(shí)施了活化處理的面相對(duì)于 純水的接觸角低于80°。
[0023] [8]-種復(fù)合膜的制造方法，其為制造具備基材膜及無(wú)機(jī)層的復(fù)合膜的方法，
[0024]其中，該方法包括：
[0025] 在具備由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的基材膜以及直接設(shè)置于所述基材膜的一面的由 脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的保護(hù)膜的疊層膜的所述基材膜的與所述保護(hù)膜相反側(cè)的面形成無(wú) 機(jī)層的工序、和
[0026] 從所述基材膜剝下所述保護(hù)膜的工序，
[0027] 所述基材膜的與所述保護(hù)膜相接側(cè)的面、或所述保護(hù)膜的與所述基材膜相接側(cè)的 面為實(shí)施了活化處理的面。
[0028]發(fā)明的效果
[0029] 根據(jù)本發(fā)明的疊層膜，可以穩(wěn)定制造具備基材膜及無(wú)機(jī)層、可以減薄基材膜的厚 度、并且具備在高輸出下形成的無(wú)機(jī)層的復(fù)合膜。
[0030] 根據(jù)本發(fā)明的復(fù)合膜的制造方法，可以制造具備基材膜及無(wú)機(jī)層、可以減薄基材 膜的厚度、并且具備在高輸出下形成的無(wú)機(jī)層的復(fù)合膜。
【附圖說(shuō)明】
[0031] [圖1]圖1為剖視圖，示意地示出了本發(fā)明的一例涉及的制造方法中使用的形成無(wú) 機(jī)層之前的疊層膜的層結(jié)構(gòu)的一例。
[0032] [圖2]圖2為剖視圖，示意地示出了本發(fā)明的一例涉及的制造方法中使用的中間品 膜的層結(jié)構(gòu)的一例。
[0033] [圖3]圖3為剖視圖，示出了通過(guò)CVD法形成無(wú)機(jī)層的裝置的一例。
[0034] [圖4]圖4為剖視圖，示意地示出了通過(guò)本發(fā)明的一例涉及的制造方法得到的復(fù)合 膜的層結(jié)構(gòu)的一例。
[0035] 符號(hào)說(shuō)明
[0036] 100支承體膜(形成無(wú)機(jī)層之前的疊層膜）
[0037] 110基材膜
[0038] 110D基材膜的面
[0039] 110U基材膜的面
[0040] 120保護(hù)膜 [0041] 120D保護(hù)膜的面
[0042] 130無(wú)機(jī)層
[0043] 130U無(wú)機(jī)層的面
[0044] 140中間品膜(具備無(wú)機(jī)層的疊層膜）
[0045] 150復(fù)合膜
[0046] 200成膜裝置
[0047] 201多層物質(zhì)的卷體
[0048] 202疊層膜的卷體
[0049] 211導(dǎo)向輥
[0050] 212 筒形輥（canroll)
[0051] 213導(dǎo)向輥
[0052] 221反應(yīng)管
[0053] 222 電極
[0054] 223 電源
[0055] 224氣體導(dǎo)入口
[0056] 230真空排氣裝置
[0057] 290真空槽
【具體實(shí)施方式】
[0058] 以下，示出實(shí)施方式及示例物對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。但是，本發(fā)明并不限于以下 所示的實(shí)施方式及示例物，在不脫離本發(fā)明的權(quán)利要求的范圍及其均等范圍的范圍中，可 任意變形而實(shí)施。
[0059] 在以下的說(shuō)明中，所述"(甲基)丙烯酸"包括丙烯酸及甲基丙烯酸兩者。另外，"(甲 基)丙烯酸酯"包括丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯兩者。
[0060] [1.概略]
[0061] 本發(fā)明的疊層膜為具備基材膜及保護(hù)膜的膜。該本發(fā)明的疊層膜通常用于制造具 備基材膜及無(wú)機(jī)層的復(fù)合膜。
[0062] [2.疊層膜]
[0063] 本發(fā)明的疊層膜具備:基材膜以及直接設(shè)置于所述基材膜的一面的保護(hù)膜。這里， 保護(hù)膜設(shè)置于基材膜的一面的形態(tài)為"直接"，是指在保護(hù)膜和基材膜之間不存在諸如粘接 劑層、粘結(jié)劑層這樣的其它層。
[0064] 另外，基材膜和保護(hù)膜是通過(guò)活化處理而貼合的。即，對(duì)基材膜的與保護(hù)膜相接側(cè) 的面、或保護(hù)膜的與基材膜相接側(cè)的面實(shí)施活化處理，利用這些實(shí)施了活化處理的面使基 材膜和保護(hù)膜貼合。此時(shí)，可以是基材膜的與保護(hù)膜相接側(cè)的面為實(shí)施了活化處理的面，也 可以是保護(hù)膜的與基材膜相接側(cè)的面為實(shí)施了活化處理的面，還可以是基材膜的與保護(hù)膜 相接側(cè)的面及保護(hù)膜的與基材膜相接側(cè)的面這兩者均為實(shí)施了活化處理的面。
[0065] [2.1.基材膜]
[0066] 基材膜由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成。脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂為含有脂環(huán)式烯烴聚合物、并根 據(jù)需要而含有其它任意成分的樹(shù)脂。
[0067] 脂環(huán)式烯烴聚合物為主鏈和/或側(cè)鏈具有脂環(huán)結(jié)構(gòu)的非晶性的熱塑性聚合物。月旨 環(huán)式烯烴聚合物通常具有由脂環(huán)式烯烴通過(guò)聚合而得到的結(jié)構(gòu)。通過(guò)使用由脂環(huán)式烯烴樹(shù) 脂形成的膜作為基材膜，可以得到阻隔性能高的復(fù)合膜。更詳細(xì)而言，由于脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂 的吸濕性低，因此可以發(fā)揮出作為基材膜的機(jī)械強(qiáng)度和高水蒸氣阻隔性能，從而提高復(fù)合 膜的阻隔性能。
[0068] 脂環(huán)式烯烴聚合物中的脂環(huán)結(jié)構(gòu)可以為飽和脂環(huán)烴(環(huán)烷烴)結(jié)構(gòu)，也可以為不飽 和脂環(huán)烴(環(huán)烯烴)結(jié)構(gòu)。從機(jī)械強(qiáng)度、耐熱性等觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為環(huán)烷烴結(jié)構(gòu)。構(gòu)成1個(gè)脂環(huán) 結(jié)構(gòu)的碳原子數(shù)通常為4個(gè)以上，優(yōu)選為5個(gè)以上，通常為30個(gè)以下，優(yōu)選為20個(gè)以下，更優(yōu) 選為15個(gè)以下。在構(gòu)成1個(gè)脂環(huán)結(jié)構(gòu)的碳原子數(shù)為上述范圍時(shí)，機(jī)械強(qiáng)度、耐熱性及膜的成 型性等特性可取得高度均衡，故優(yōu)選。
[0069]在脂環(huán)式烯烴聚合物整體中，具有脂環(huán)結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)單元的比例優(yōu)選為55重量％以 上，更優(yōu)選為70重量％以上，特別優(yōu)選為90重量％以上。從透明性及耐熱性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu) 選脂環(huán)式烯烴聚合物中的具有脂環(huán)式結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)單元的比例為該范圍。
[0070] 作為脂環(huán)式烯烴聚合物，可列舉例如：降冰片烯聚合物、單環(huán)的環(huán)狀烯烴聚合物、 環(huán)狀共輒二烯聚合物、乙烯基脂環(huán)式烴聚合物、及它們的加氫產(chǎn)物等。這些中，由于透明性 和成型性良好，可優(yōu)選使用降冰片烯聚合物。
[0071] 作為降冰片烯聚合物的例子，可列舉具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體的開(kāi)環(huán)聚合物、或 具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體與任意單體的開(kāi)環(huán)共聚物、或它們的加氫產(chǎn)物;具有降冰片烯結(jié) 構(gòu)的單體的加成聚合物、或具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體與任意單體的加成共聚物、或它們的 加氫產(chǎn)物;等。其中，從成型性、耐熱性、低吸濕性、尺寸穩(wěn)定性、輕質(zhì)性等觀點(diǎn)出發(fā)，特別優(yōu) 選具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體的開(kāi)環(huán)(共)聚合物的加氫產(chǎn)物。這里，所述"(共)聚合物"是指 聚合物及共聚物。
[0072]作為具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體，可列舉例如:雙環(huán)[2.2.1]庚-2-烯(慣用名：降冰 片烯）、三環(huán)[4.3.0.12'5]癸-3,7-二烯(慣用名：雙環(huán)戊二烯）、7,8-苯并三環(huán)[4.3.0.1 2'5] 癸-3-烯(慣用名：橋亞甲基四氫芴）、四環(huán)[4.4.0.12, 5.17，1()]十二碳-3-烯(慣用名：四環(huán)十 二碳烯）、及這些化合物的衍生物(例如:環(huán)上具有取代基的衍生物)等。這里，作為取代基， 可列舉例如烷基、亞烷基、極性基團(tuán)等。另外，這些取代基也可以由相同或不同的多個(gè)鍵合 成環(huán)。另外，具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體可以使用單獨(dú)一種，也可以以任意比率組合使用兩種 以上。
[0073]作為極性基團(tuán)的種類，可列舉例如：雜原子或具有雜原子的原子團(tuán)等。作為雜原 子，可列舉例如:氧原子、氮原子、硫原子、硅原子、鹵原子等。作為極性基團(tuán)的具體例，可列 舉:駿基、幾氧基幾基、環(huán)氧基、羥基、氧基、醋基、硅烷醇基、甲娃烷基、氣基、臆基、橫酸基 等。
[0074] 作為能夠與具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體發(fā)生開(kāi)環(huán)共聚的任意單體，可列舉例如:環(huán) 己烯、環(huán)庚烯、環(huán)辛烯等單環(huán)烯烴類及其衍生物;環(huán)己二烯、環(huán)庚二烯等環(huán)狀共輒二烯及其 衍生物;等等。能夠與具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體發(fā)生開(kāi)環(huán)共聚的任意單體可以單獨(dú)使用一 種，也可以以任意比率組合使用兩種以上。
[0075] 具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體的開(kāi)環(huán)聚合物、以及和能夠與具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體 共聚的任意單體的開(kāi)環(huán)共聚物，可以通過(guò)例如在公知的開(kāi)環(huán)聚合催化劑的存在下使單體進(jìn) 行聚合或共聚而制造。
[0076] 作為能夠與具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體發(fā)生加成共聚的任意單體，可列舉例如：乙 烯、丙烯、1-丁烯等碳原子數(shù)2~20的α_烯烴及它們的衍生物;環(huán)丁烯、環(huán)戊烯、環(huán)己烯等環(huán) 烯烴及它們的衍生物；1，4_己二烯、4-甲基-1，4_己二烯、5-甲基-1，4_己二烯等非共輒二 烯;等等。其中，優(yōu)選烯烴，更優(yōu)選乙烯。另外，能夠與具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體發(fā)生加成 共聚的任意單體可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意比率組合使用兩種以上。
[0077] 具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體的加成聚合物、以及和能夠與具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體 共聚的任意單體的加成共聚物，可以通過(guò)例如在公知的加成聚合催化劑的存在下使單體進(jìn) 行聚合或共聚而制造。
[0078] 具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體的開(kāi)環(huán)聚合物、具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體與能夠和其開(kāi) 環(huán)共聚的任意單體的開(kāi)環(huán)共聚物、具有降冰片烯結(jié)構(gòu)的單體的加成聚合物、及具有降冰片 烯結(jié)構(gòu)的單體與能夠和其共聚的任意單體的加成共聚物等聚合物的加氫產(chǎn)物，可利用任意 的制造方法進(jìn)行制造。例如，上述聚合物的加氫產(chǎn)物可以通過(guò)在這些聚合物的溶液中，在包 含鎳、鈀等過(guò)渡金屬的公知的加氫催化劑的存在下將碳-碳不飽和鍵的優(yōu)選90%以上進(jìn)行 加氫來(lái)制造。
[0079]脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂中所含的脂環(huán)式烯烴聚合物的分子量可根據(jù)使用目的而適當(dāng)選 定。脂環(huán)式烯烴聚合物的重均分子量(Mw)通常為10,000以上，優(yōu)選為15,000以上，更優(yōu)選為 20，000以上，通常為100，000以下，優(yōu)選為80，000以下，更優(yōu)選為50，000以下。通過(guò)使重均分 子量在這樣的范圍，得到的基材膜的機(jī)械強(qiáng)度及成型加工性等可取得高度平衡，故優(yōu)選。就 所述脂環(huán)式烯烴聚合物的重均分子量而言，可以通過(guò)使用環(huán)己烷作為溶劑的凝膠滲透色譜 法以聚異戊二烯換算值的形式進(jìn)行測(cè)定。其中，在聚合物不溶于環(huán)己烷的情況下，可以使用 甲苯作為溶劑。進(jìn)而，溶劑為甲苯時(shí)，重均分子量可以以聚苯乙烯換算值的形式測(cè)定。
[0080] 脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂中的脂環(huán)式烯烴聚合物的比例優(yōu)選為67重量％~100重量％，更 優(yōu)選為77重量％~100重量％。
[0081] 脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂中，作為脂環(huán)式烯烴聚合物，可以僅含有這些聚合物之中的單獨(dú) 一種，也可以以任意比率組合含有兩種以上。另外，基材膜也可以包括多層脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂 的層。在基材膜含有多層脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂的層的情況下，構(gòu)成各層的脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂可以 與其它層相同，也可以不同。
[0082] 作為脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂可以含有的任意成分，可列舉例如:抗氧劑、熱穩(wěn)定劑、光穩(wěn) 定劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、分散劑、氯捕獲劑、阻燃劑、結(jié)晶成核劑、強(qiáng)化劑、抗粘連劑、 防霧劑、脫模劑、顏料、有機(jī)或無(wú)機(jī)的填充劑、中和劑、潤(rùn)滑劑、分解劑、金屬鈍化劑、防污染 劑、抗菌劑、任意聚合物、熱塑性彈性體等添加劑。
[0083] 這些添加劑的量可以在不破壞本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)。例如，相對(duì)于脂環(huán)式烯烴 樹(shù)脂中所含的脂環(huán)式烯烴聚合物1〇〇重量份，上述添加劑的量通常為〇~50重量份，優(yōu)選為0 ~30重量份。
[0084] 脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂并不一定限于具有高透明性的樹(shù)脂。但是，從使復(fù)合膜成為能夠 用于在顯示裝置及光源裝置中要求光透過(guò)的部分的有用的復(fù)合膜的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選脂環(huán)式 烯烴樹(shù)脂具有高透明性。例如，優(yōu)選具有如下的透明性:將脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂制成厚度1mm的 試驗(yàn)片而測(cè)定的總透光率通常為70 %以上、優(yōu)選為80 %以上、更優(yōu)選為90 %以上。
[0085] 脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂的熱變形溫度優(yōu)選為100 °C以上，更優(yōu)選為120 °C以上。由此，可以 抑制形成無(wú)機(jī)層時(shí)保護(hù)膜從基材膜的剝離。另外，對(duì)脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂的熱變形溫度的上限 沒(méi)有特別的規(guī)定，但可例如為300°C以下。
[0086]將脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂成型而得到基材膜的方法沒(méi)有特別限定。例如可通過(guò)利用熔融 成型法、溶液流延法等將樹(shù)脂成型為膜狀而制造基材膜?；蛘撸墒褂檬惺鄣闹h(huán)式烯烴樹(shù) 脂的膜。
[0087]另外，基材膜可以是實(shí)施了拉伸處理的拉伸膜，也可以是未實(shí)施拉伸處理的未拉 伸膜。
[0088] 就基材膜的厚度而言，可以根據(jù)復(fù)合膜的用途而設(shè)定，但從實(shí)現(xiàn)復(fù)合膜的薄膜化 的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選較薄?；哪さ暮穸鹊木唧w范圍優(yōu)選為150μηι以下，更優(yōu)選為125μηι以下， 特別優(yōu)選為1〇〇μπι以下。另外，雖然對(duì)下限沒(méi)有特別的限制，但從操縱性的觀點(diǎn)出發(fā)，通常為 ΙΟμπι以上，優(yōu)選為15μηι以上，更優(yōu)選為20μηι以上。
[0089] 基材膜的與保護(hù)膜相接側(cè)的面可以為實(shí)施了活化處理的面。即，可以在與保護(hù)膜 的面貼合前，對(duì)基材膜的與保護(hù)膜相接側(cè)的面實(shí)施活化處理。
[0090] 由于脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂的膜一般粘接性低，因此，僅進(jìn)行壓合難以使脂環(huán)式烯烴樹(shù) 脂的膜彼此間穩(wěn)定地貼合。與此相對(duì)，通過(guò)使基材膜具有如上所述地實(shí)施了的活化處理的 面，可以將基材膜和保護(hù)膜穩(wěn)定地貼合，因此可以抑制在形成無(wú)機(jī)層時(shí)保護(hù)膜從基材膜剝 離。另外，由于未經(jīng)由粘接劑層及粘結(jié)劑層等層而將基材膜和保護(hù)膜貼合，因此可以在無(wú)機(jī) 層形成后從基材膜容易地剝下保護(hù)膜。
[0091] 基材膜的實(shí)施了活化處理的面經(jīng)過(guò)活化，對(duì)于水的潤(rùn)濕性通常比處理前增加?；?化處理的程度可以根據(jù)該潤(rùn)濕性的程度進(jìn)行評(píng)價(jià)。因此，可以例如利用相對(duì)于水的接觸角 表示活化處理的程度。具體而言，基材膜的實(shí)施了活化處理的面相對(duì)于純水的接觸角優(yōu)選 低于80°，更優(yōu)選為50°以下，特別優(yōu)選為40°以下，另外，優(yōu)選為10°以上。通過(guò)使實(shí)施了活化 處理的面相對(duì)于純水的接觸角小于上述范圍的上限值，可以有效地提高基材膜和保護(hù)膜的 密合性。所述接觸角的值可利用例如協(xié)和界面科學(xué)公司制"DropMaster"進(jìn)行測(cè)定。
[0092] 在保護(hù)膜的與基材膜相接側(cè)的面為實(shí)施了活化處理的面的情況下，對(duì)于基材膜的 與保護(hù)膜相接側(cè)的面，并非一定要實(shí)施活化處理。但是，即使在保護(hù)膜的與基材膜相接側(cè)的 面為實(shí)施了活化處理的面的情況下，也優(yōu)選基材膜的與保護(hù)膜相接側(cè)的面為實(shí)施了活化處 理的面。
[0093] 作為活化處理的例子，可列舉:常壓等離子體處理及真空等離子體處理等等離子 體處理、電暈處理、UV臭氧處理、燃燒化學(xué)氣相沉積處理等。在此，燃燒化學(xué)氣相沉積處理表 示導(dǎo)入了有機(jī)硅化合物的火焰處理。從處理時(shí)間短且生產(chǎn)性優(yōu)異方面出發(fā)，特別優(yōu)選等離 子體處理、電暈處理。
[0094]等離子體處理是在大氣壓下或減壓下產(chǎn)生的不活潑氣體及氧氣等氣體氛圍中，通 過(guò)進(jìn)行等離子體放電而使面活化的處理。所述減壓的程度可為例如O.lTorr~ITorr。為了 在使用輥的搬運(yùn)中進(jìn)行效率良好的處理，優(yōu)選大氣壓下的處理、即常壓等離子體處理。 [0095]就等離子體處理而言，由于可根據(jù)上述氣體的種類對(duì)實(shí)施了處理的面進(jìn)行各種改 性，因此優(yōu)選在實(shí)施活化處理時(shí)適當(dāng)選擇氣體的種類。作為氣體的種類，可列舉例如：氮； 氧;氣、気等稀有氣體;丙稀酸;輕烷基;CF4、CHF3、C2F6等氣類化合物;等等。這些氣體可以單 獨(dú)使用一種也可以以任意比率組合使用兩種以上。作為優(yōu)選的氣體，可列舉例如:在氬等不 活潑氣體中混合有10%左右的氧的混合氣體。
[0096] 等離子體處理中的等離子體輸出優(yōu)選在0.2kW~3kW的范圍內(nèi)設(shè)定。另外，實(shí)施等 離子體處理的膜的搬運(yùn)速度優(yōu)選為3m/分~70m/分，更優(yōu)選3m/分~50m/分。頻率的范圍優(yōu) 選為10kHz~100kHz。處理時(shí)間可以為例如3分鐘左右。
[0097] 所述電暈處理，是在與電介質(zhì)絕緣的電極間以高頻施加高電壓而產(chǎn)生電暈，并使 膜在電介質(zhì)和電極之間通過(guò)，從而對(duì)膜的面進(jìn)行處理的方法。一般而言，根據(jù)電極的種類、 電極間隔、電壓、濕度、待處理的膜的種類不同，可賦予實(shí)施了電暈處理的面以粘接性。作為 電極的材質(zhì)，優(yōu)選例如：陶瓷、錯(cuò)等。電極和電介質(zhì)的距離優(yōu)選為1mm~5mm，更優(yōu)選1mm~ 3mm。待實(shí)施電暈處理的膜的搬運(yùn)速度優(yōu)選為3m/分~70m/分，更優(yōu)選3m/分~50m/分。電暈 輸出強(qiáng)度優(yōu)選為〇.2kW以上，更優(yōu)選為0.5kW以上，優(yōu)選為3kW以下，更優(yōu)選為1.5kW以下。通 過(guò)使電暈輸出強(qiáng)度為上述范圍的下限值以上，可以穩(wěn)定地進(jìn)行電暈放電，從而對(duì)已實(shí)施電 暈處理的面賦予穩(wěn)定的粘接力，另外，通過(guò)使其為上限值以下，可以抑制對(duì)實(shí)施電暈處理的 膜的損傷。處理時(shí)間可以為例如2分鐘左右。
[0098] [2.2.保護(hù)膜]
[0099] 保護(hù)膜由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成。作為形成保護(hù)膜的脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂，可以任意使 用作為可用作基材膜的材料的脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂而說(shuō)明的范圍的物質(zhì)。作為保護(hù)膜的脂環(huán)式 烯烴樹(shù)脂，可以使用和基材膜的脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂不同的樹(shù)脂。其中，保護(hù)膜的脂環(huán)式烯烴樹(shù) 脂優(yōu)選使用和基材膜的脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂相同的樹(shù)脂。由此，由于可以使基材膜及保護(hù)膜的 線性膨脹系數(shù)相同，因此可以使本發(fā)明的疊層膜不易發(fā)生翹曲及褶皺等變形。因此，由于可 以使形成無(wú)機(jī)層時(shí)疊層膜的行為穩(wěn)定，因此可以穩(wěn)定地制造膜質(zhì)良好的無(wú)機(jī)層。
[0100] 作為成型脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂而得到保護(hù)膜的方法，沒(méi)有特別限定。例如可使用和成 型脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂而得到基材膜的方法相同的方法。
[0101]另外，保護(hù)膜可以是實(shí)施了拉伸處理的拉伸膜，也可以是未實(shí)施拉伸處理的未拉 伸膜。
[0102]保護(hù)膜的厚度優(yōu)選厚于基材膜的厚度，通常為75μπι以上，優(yōu)選為100μπι以上，更優(yōu) 選為120μηι以上，且通常為300μηι以下，優(yōu)選為250μηι以下，更優(yōu)選為200μηι以下。通過(guò)使保護(hù) 膜的厚度為上述范圍的下限值以上，可以提高本發(fā)明的疊層膜的機(jī)械強(qiáng)度，因此可以防止 形成無(wú)機(jī)層時(shí)疊層膜的變形，可以穩(wěn)定地形成無(wú)機(jī)層。進(jìn)而，可以抑制形成無(wú)機(jī)層時(shí)保護(hù)膜 從基材膜剝離。另外，通過(guò)為上限值以下，可以在形成無(wú)機(jī)層時(shí)容易地搬運(yùn)膜。具體而言，例 如可有效地抑制膜從用以支撐膜的搬運(yùn)的輥發(fā)生浮起。這里，在保護(hù)膜具有包含多層樹(shù)脂 層的多層結(jié)構(gòu)的情況下，優(yōu)選該多個(gè)層的總厚度落入上述范圍。
[0103] 另外，保護(hù)膜的厚度T2和基材膜的厚度ΤΙ的比T2/T1通常為1以上，優(yōu)選為1.1以 上，更優(yōu)選為1.25以上，通常6以下，優(yōu)選為5以下，更優(yōu)選為4以下。通過(guò)使厚度的比Τ2/Τ1為 上述范圍的下限值以上，可提高疊層膜的機(jī)械強(qiáng)度。另外，通過(guò)為上限值以下，可保持能夠 進(jìn)行基于卷對(duì)卷的搬運(yùn)的撓性。
[0104] 保護(hù)膜的與基材膜相接側(cè)的面可為實(shí)施了活化處理的面。即，對(duì)保護(hù)膜的與基材 膜相接側(cè)的面而言，可以在與基材膜的面貼合之前實(shí)施活化處理。通過(guò)使保護(hù)膜具有實(shí)施 了這樣的活化處理的面，可以將基材膜和保護(hù)膜穩(wěn)定地貼合，因此可以在形成無(wú)機(jī)層時(shí)抑 制保護(hù)膜從基材膜剝離。另外，由于將基材膜和保護(hù)膜不隔著粘接劑層及粘結(jié)劑層等層進(jìn) 行貼合，因此可以在無(wú)機(jī)層的形成后，從基材膜容易地剝下保護(hù)膜。
[0105] 保護(hù)膜的實(shí)施了活化處理的面經(jīng)過(guò)活化，相對(duì)于水的潤(rùn)濕性通常比處理前增加。 因此，和基材膜的實(shí)施了活化處理的面同樣地，保護(hù)膜的實(shí)施了活化處理的面的活化處理 程度可以用相對(duì)于水的接觸角表示。保護(hù)膜的實(shí)施了活化處理的面相對(duì)于純水的接觸角優(yōu) 選低于80°，更優(yōu)選為50°以下，特別優(yōu)選為40°以下，另外，優(yōu)選為10°以上?？梢酝ㄟ^(guò)使實(shí)施 了活化處理的面相對(duì)于純水的接觸角小于上述范圍的上限值，從而有效地提高基材膜和保 護(hù)膜的密合性。
[0106] 在基材膜的與保護(hù)膜相接側(cè)的面為實(shí)施了活化處理的面的情況下，對(duì)于保護(hù)膜的 與基材膜相接側(cè)的面，并非一定要實(shí)施活化處理。但是，即使在基材膜的與保護(hù)膜相接側(cè)的 面為實(shí)施了活化處理的面的情況下，也優(yōu)選保護(hù)膜的與基材膜相接側(cè)的面為實(shí)施了活化處 理的面。
[0107] 作為活化處理的例子，可列舉與作為可實(shí)施于基材膜的活化處理的例子中所例示 的相同的活化處理。其中，從處理時(shí)間短且生產(chǎn)性優(yōu)異方面考慮，優(yōu)選常壓等離子體處理、 電暈處理。
[0108] [2·3·任意的層]
[0109] 本發(fā)明的疊層膜可以具備除上述基材膜及保護(hù)膜以外的膜。
[0110] 例如，可以在保護(hù)膜的與基材膜相反側(cè)的面具備易滑層及抗靜電層等，其中優(yōu)選 具備易滑層。
[0111] 作為易滑層，例如可使用包含聚合物及粒子的樹(shù)脂的層。如上所述的包含粒子的 易粘接層的與保護(hù)膜相反側(cè)的面的表面粗糙度大，因此可以提高該表面粗糙度大的面的滑 動(dòng)性。因此，具備這樣的易滑層的疊層膜的操作性良好，可以穩(wěn)定地抑制粘連及褶皺。這里， 所述粘連是指在以卷體形式卷取的膜中，接觸的面彼此附著的現(xiàn)象。
[0112] 作為形成易滑層的樹(shù)脂包含的聚合物，例如可使用聚氨酯。聚氨酯由于可以相對(duì) 于由粘接性低的脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的保護(hù)膜實(shí)現(xiàn)強(qiáng)力的粘接，因此可以有效地抑制形成 無(wú)機(jī)層時(shí)易滑層從保護(hù)膜剝離。
[0113] 作為聚氨酯，可使用例如:使（i)每1分子中含有平均2個(gè)以上活化氫的成分和（ii) 多元異氰酸酯成分進(jìn)行反應(yīng)而得到的聚氨酯。另外，作為聚氨酯，可使用例如:通過(guò)使用擴(kuò) 鏈劑使由上述（i)成分及（ii)成分得到的預(yù)聚物擴(kuò)鏈、并添加水制成分散體而制造的聚氨 酯。上述預(yù)聚物可通過(guò)在異氰酸酯基過(guò)量的條件下使上述（i)成分及（ii)成分進(jìn)行氨基甲 酸酯化反應(yīng)，制造作為含有異氰酸酯基的預(yù)聚物。進(jìn)一步，所述氨基甲酸酯反應(yīng)可在對(duì)反應(yīng) 為非活性且與水的親和性大的有機(jī)溶劑中進(jìn)行。另外，也可以在將預(yù)聚物擴(kuò)鏈之前，對(duì)通過(guò) 氨基甲酸酯化反應(yīng)得到的預(yù)聚物進(jìn)行中和。這些聚氨酯可以包含酸結(jié)構(gòu)。進(jìn)一步，該酸結(jié)構(gòu) 的一部分或全部可以被中和。
[0114] 這樣的聚氨酯已經(jīng)以包含水及分散于該水的聚合物的組合物的形式市售。作為這 樣的市售的聚氨酯，可列舉例如:旭電化工業(yè)公司制的"ADEKABONTIGHTER"系列、三井東壓 化學(xué)公司制的"0LESTER"系列、大日本油墨化學(xué)工業(yè)公司制的"B0NDIC"系列、"HYDRAN"系 列、Bayer公司制的"Imprani 1"系列、日本S0FLAN公司制的"Sof lanate"系列、花王公司制的 "POIZ"系列、三洋化成工業(yè)公司制的"SANPLENE"系列、保土谷化學(xué)工業(yè)公司制的"AIZELAX" 系列、第一工業(yè)制藥公司制的"SUPERFLEX"系列、Zeneca公司制的"NeoRez"系列等。
[0115] 另外，聚合物可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意比率組合使用兩種以上。
[0116] 作為粒子，可以使用無(wú)機(jī)粒子及有機(jī)粒子中的任意粒子。如果舉出無(wú)機(jī)粒子的材 料，可列舉例如:二氧化硅、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯等無(wú)機(jī)氧化物;碳酸鈣、滑石、粘土、煅 燒高嶺土、煅燒硅酸鈣、水合硅酸鈣、硅酸鋁、硅酸鎂、磷酸鈣等。另外，如果舉出有機(jī)粒子的 材料，可列舉例如:有機(jī)硅樹(shù)脂、氟樹(shù)脂、（甲基)丙烯酸類樹(shù)脂等。這些中，優(yōu)選二氧化娃。二 氧化硅的粒子的抑制褶皺發(fā)生的能力及透明性優(yōu)異，并且，在包含聚氨酯的樹(shù)脂中的分散 性及分散穩(wěn)定性良好。另外，在二氧化硅的粒子中，特別優(yōu)選非晶態(tài)膠體二氧化硅粒子。粒 子可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意比率組合使用兩種以上。
[0117] 粒子的平均粒徑通常為lnm以上，優(yōu)選為5nm以上，更優(yōu)選為10nm以上，通常為 500nm以下，優(yōu)選為300nm以下，更優(yōu)選為200nm以下。通過(guò)使平均粒徑為上述范圍的下限值 以上，可以有效地提高易滑層的滑動(dòng)性。另外，通過(guò)為上限值以下，可以抑制粒子從疊層膜 脫落。這里，作為粒子的平均粒徑，采用的是通過(guò)激光衍射法測(cè)定粒徑分布、并將測(cè)得的粒 徑分布中從小粒徑側(cè)起計(jì)算的累計(jì)體積達(dá)到50 %的粒徑。
[0118] 粒子的量相對(duì)于聚合物100重量份通常為0.5重量份以上，優(yōu)選為5重量份以上，更 優(yōu)選為8重量份以上，通常為20重量份以下，優(yōu)選為18重量份以下，更優(yōu)選為15重量份以下。 通過(guò)使粒子的量為上述范圍的下限值以上，可以提高疊層膜的操作性，因此可在卷取疊層 膜的情況下抑制褶皺的發(fā)生。另外，通過(guò)為上限值以下，可以保持疊層膜的沒(méi)有白濁的外 觀。
[0119] 另外，易滑層可包含除聚合物及粒子以外的任意成分。作為任意成分，可列舉例 如:交聯(lián)劑、耐熱穩(wěn)定劑、耐候穩(wěn)定劑、流平劑、表面活性劑、抗氧劑、防靜電劑、增滑劑、抗粘 連劑、防霧劑、潤(rùn)滑劑、染料、顏料、天然油、合成油、蠟等。這些成分可以單獨(dú)使用一種，也可 以以任意比率組合使用兩種以上。
[0120] 易滑層例如可以如下地制造:準(zhǔn)備包含聚合物、粒子及溶劑、以及根據(jù)需要的任意 成分的樹(shù)脂組合物，將該樹(shù)脂組合物涂布于保護(hù)膜的表面而形成所述樹(shù)脂組合物的層，之 后使該樹(shù)脂組合物的層固化。另外，對(duì)于保護(hù)膜的待形成易滑層的面，可以在易滑層形成前 實(shí)施活化處理等表面處理。通常使用水作為所述的樹(shù)脂組合物的溶劑。另外，對(duì)樹(shù)脂組合物 的層的固化而言，例如可以通過(guò)照射紫外線等活性能量射線、加熱等進(jìn)行。易滑層可以在使 保護(hù)膜和基材膜貼合之前形成，也可以在使保護(hù)膜和基材膜貼合之后形成。
[0121] [3.中間品膜(具備無(wú)機(jī)層的疊層膜)]
[0122]在使用如上所述具備基材膜及保護(hù)膜的疊層膜來(lái)制造復(fù)合膜時(shí)，進(jìn)行在該疊層膜 的基材膜的與保護(hù)膜相反側(cè)的面形成無(wú)機(jī)層的工序。利用形成無(wú)機(jī)層的工序得到的膜為依 次具備保護(hù)膜、基材膜及無(wú)機(jī)層的疊層膜。這樣，將在本發(fā)明的疊層膜之中，在基材膜的與 保護(hù)膜相反側(cè)的面具備無(wú)機(jī)層的疊層膜適當(dāng)稱為"中間品膜"。
[0123] [3.1.無(wú)機(jī)層]
[0124] 無(wú)機(jī)層可采用實(shí)質(zhì)上由無(wú)機(jī)材料構(gòu)成的層。在此，實(shí)質(zhì)上由無(wú)機(jī)材料構(gòu)成的層是 指，該層中無(wú)機(jī)材料的比例為60重量％~100重量％的層。特別優(yōu)選無(wú)機(jī)層是僅由無(wú)機(jī)材料 構(gòu)成的層。另外，無(wú)機(jī)層優(yōu)選為包含選自金屬氧化物、金屬氮化物及金屬氮氧化物中的至少 一種的層。在此，金屬是指包括硅等準(zhǔn)金屬的元素。
[0125] 另外，無(wú)機(jī)層可以是由1層構(gòu)成的單層結(jié)構(gòu)的層，也可以是具備2層以上的層的多 層結(jié)構(gòu)的層。
[0126] 作為無(wú)機(jī)層中含有的層，可列舉阻隔層、導(dǎo)電膜等。無(wú)機(jī)層可以僅包含阻隔層，也 可以僅包含導(dǎo)電膜，還可以組合包含阻隔層及導(dǎo)電膜。在無(wú)機(jī)層包含阻隔層及導(dǎo)電膜兩者 的情況下，通常，無(wú)機(jī)層自距離基材膜近的一側(cè)起依次具備阻隔層及導(dǎo)電膜。
[0127] 阻隔層為具有可以阻斷水的作用的層。具體而言，阻隔層為具有通常1.0g/m2 · day以下、優(yōu)選0.2g/m2 · day以下、更優(yōu)選O.lg/m2 · day以下的水蒸氣透過(guò)率的層。通過(guò)具備 包含阻隔層的無(wú)機(jī)層，就復(fù)合膜而言，可以防止設(shè)有該復(fù)合膜的構(gòu)件的由水引起的劣化。
[0128] 作為形成阻隔層的無(wú)機(jī)材料，可列舉例如包含硅或鋁作為金屬元素的金屬氧化 物、金屬氮化物及金屬氮氧化物。其中，特別優(yōu)選包含硅的金屬氧化物、金屬氮化物及金屬 氧氮化物。
[0129] 作為包含硅的金屬氧化物、金屬氮化物及金屬氮氧化物的組成的例子，可列舉 SiOx(l.5〈x〈l.9)、SiNy( 1.2〈y〈l.5)及SiOxNy(l〈x〈2及0〈y〈l)表示的組成。通過(guò)使用具有這 樣的組成的無(wú)機(jī)材料，可得到透明性及阻隔性等特性良好的材料。
[0130] 另外，這些材料可以單獨(dú)使用一種，也可以以任意比率組合使用兩種以上。
[0131] 阻隔層的厚度優(yōu)選為3nm以上，更優(yōu)選為10nm以上，優(yōu)選為2000nm以下，更優(yōu)選為 lOOOnm以下。
[0132] 阻隔層的形成方法可列舉例如:蒸鍍法、濺射法、離子鍍敷法、離子束輔助蒸鍍法、 電弧放電等離子體蒸鍍法、熱CVD法、等離子體CVD法等形成方法。其中，由于如果使用電弧 放電等離子體蒸鍍法，則可以生成具有適度能量的蒸發(fā)粒子而形成高密度的膜，故優(yōu)選。另 外，在形成包含多種成分的阻隔層的情況下，可以將這些成分同時(shí)進(jìn)行蒸鍍或?yàn)R射。
[0133] 導(dǎo)電膜為具有1000 Ω/□以下的表面電阻的膜。通過(guò)具備包含導(dǎo)電膜的無(wú)機(jī)層，可 以為復(fù)合膜賦予作為電極的功能。
[0134] 作為形成導(dǎo)電膜的無(wú)機(jī)材料，可列舉例如：IT0(銦錫氧化物）、IZ0(銦鋅氧化物）、 ZnO(氧化鋅）、IW0(銦鎢氧化物）、ITiO(銦鈦氧化物）、AZ0(鋁鋅氧化物）、GZ0(鎵鋅氧化物）、 ΧΖ0(鋅類特殊氧化物）和IGZ0(銦鎵鋅氧化物）等。另外，這些材料可以單獨(dú)使用一種，也可 以以任意比率組合使用兩種以上。
[0135] 導(dǎo)電膜的厚度優(yōu)選為30nm以上，更優(yōu)選為50nm以上，優(yōu)選為250nm以下，更優(yōu)選為 220nm以下。
[0136] 導(dǎo)電膜的形成方法可列舉例如:濺射法、蒸鍍法等。
[0137] [3.2.中間品膜可以具備的任意層]
[0138] 中間品膜除上述的層以外也可以具備任意層。
[0139]例如，中間品膜可以在無(wú)機(jī)層的與基材膜相反側(cè)的面具備任意層。作為這樣的任 意層的具體例，可列舉防靜電層、硬涂層及抗污染層等。任意層可通過(guò)例如在無(wú)機(jī)層上涂布 任意層的材料并使其固化的方法、利用熱壓合而貼合任意層的方法等方法設(shè)置。
[0140] [4.復(fù)合膜的制造方法]
[0141] 使用上述的疊層膜來(lái)制造復(fù)合膜時(shí)，例如可進(jìn)行包含以下工序的制造方法:在具 備基材膜及保護(hù)膜的疊層膜中的基材膜的與保護(hù)膜相反側(cè)的面形成無(wú)機(jī)層并得到中間品 膜的工序；以及，從該中間品膜的基材膜剝下保護(hù)膜而得到具備基材膜及無(wú)機(jī)層的復(fù)合膜 的工序。
[0142] 無(wú)機(jī)層的形成方法可以利用在對(duì)無(wú)機(jī)層的說(shuō)明的項(xiàng)中例示的方法進(jìn)行。此時(shí)，由 于本發(fā)明的疊層膜不僅具備基材膜還具備保護(hù)膜，因此在以高輸出進(jìn)行如上所述的無(wú)機(jī)層 的形成方法的情況下，可以防止由熱損傷導(dǎo)致的基材膜的劣化、基材膜從搬運(yùn)輥的浮起。另 外，由于基材膜和保護(hù)膜是利用活化處理而貼合的，因此即使是在高輸出下進(jìn)行無(wú)機(jī)層的 制造時(shí)，也可以抑制保護(hù)膜從基材膜剝落。因此，即使使用厚度薄的基材膜也可以穩(wěn)定地進(jìn) 行高輸出下的無(wú)機(jī)層的形成。因此，能夠迅速進(jìn)行具有良好膜質(zhì)的無(wú)機(jī)層的制造。
[0143] 通過(guò)在如前所述地形成了無(wú)機(jī)層之后從基材膜剝離保護(hù)膜，可得到復(fù)合膜?；?膜和保護(hù)膜直接貼合、其間并不夾著粘接劑層及粘結(jié)劑層等層。因此，可以迅速地并且容易 地進(jìn)行從基材膜剝下保護(hù)膜。
[0144] 為了貼合基材膜和保護(hù)膜而進(jìn)行的活化處理通常具有在高濕度環(huán)境中貼合強(qiáng)度 降低、從而可以容易地從基材膜剝下保護(hù)膜的性質(zhì)。因此，從基材膜剝離保護(hù)膜的工序，優(yōu) 選在高濕度環(huán)境中進(jìn)行。
[0145] 進(jìn)一步，在復(fù)合膜的制造方法中也可以進(jìn)行上述以外的任意工序。例如可以進(jìn)行 在無(wú)機(jī)層的與基材膜相反側(cè)的面形成任意層的工序，也可以進(jìn)行在基材膜的與無(wú)機(jī)層相反 側(cè)的面形成任意層的工序。進(jìn)一步，例如也可以進(jìn)行將得到的復(fù)合膜切成期望的形狀的工 序。
[0146] 如上所述地得到的復(fù)合膜具備基材膜及無(wú)機(jī)層。由于可以在該復(fù)合膜中減薄基材 膜的厚度，因此能夠減薄復(fù)合膜本身的厚度。
[0147] 另外，該復(fù)合膜的無(wú)機(jī)層由于是通過(guò)高輸出的膜形成方法形成的，其膜質(zhì)良好，因 此該無(wú)機(jī)層能夠充分發(fā)揮其應(yīng)該發(fā)揮的優(yōu)異的性能。
[0148] 例如，在具備阻隔層作為無(wú)機(jī)層的情況下，可以充分發(fā)揮該阻隔層具有的優(yōu)異的 水蒸氣阻斷能力，因此可以使復(fù)合膜整體上實(shí)現(xiàn)低水蒸氣透過(guò)率。復(fù)合膜整體的具體的水 蒸氣透過(guò)率可為例如1 X l〇-6g/m2 · day~1 X 10-2g/m2 · day。
[0149] 另外，復(fù)合膜通常透明性優(yōu)異。復(fù)合膜的具體的總透光率通常為85%~100%，優(yōu) 選為90%~100%。這里，透光率可以根據(jù)JIS K0115、使用分光光度計(jì)（日本分光公司制，紫 外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)"V-570"）進(jìn)行測(cè)定。
[0150] 對(duì)復(fù)合膜的霧度沒(méi)有特別限定，但在不特別要求使光擴(kuò)散的光學(xué)用途的情況下， 一般優(yōu)選霧度低者。具體而言，優(yōu)選使復(fù)合膜的霧度為3.0 %以下，更優(yōu)選為1.0 %以下。這 里，霧度可根據(jù)JIS K7136-1997進(jìn)行測(cè)定。
[0151]復(fù)合膜能夠以長(zhǎng)條的膜的形式制造。另外，為了制造這樣的長(zhǎng)條的復(fù)合膜，可使用 長(zhǎng)條的膜作為所述基材膜及保護(hù)膜。在此，長(zhǎng)條的膜是指，相對(duì)于其寬度方向的尺寸，具有 通常10倍以上、優(yōu)選50倍以上、更優(yōu)選100倍以上的長(zhǎng)度方向的尺寸的膜。這樣的長(zhǎng)條的膜 可以以卷狀形狀(卷體)的形式進(jìn)行保管及搬運(yùn)。
[0152]由于復(fù)合膜可以通過(guò)卷對(duì)卷進(jìn)行高輸出下的無(wú)機(jī)層的形成，因此可以進(jìn)行有效地 制造。在此，卷對(duì)卷是指，對(duì)從連續(xù)送出卷連續(xù)送出的膜連續(xù)地進(jìn)行處理，并將經(jīng)過(guò)處理的 膜卷取，以產(chǎn)品的卷體的形式進(jìn)行卷取的方式。對(duì)于如上所述地以長(zhǎng)條的膜的形式制造的 復(fù)合膜，可以根據(jù)需要切割成期望的形狀。
[0153] [5.復(fù)合膜的制造方法的具體例]
[0154] 作為本發(fā)明的復(fù)合膜的制造方法的優(yōu)選例，可列舉包含以下工序的方法:對(duì)基材 膜的表面實(shí)施活化處理的工序I、對(duì)保護(hù)膜的表面實(shí)施活化處理的工序II、將基材膜及保護(hù) 膜以使其實(shí)施了活化處理的面相接的方式貼合的工序III、在基材膜的與保護(hù)膜相反側(cè)的 面形成無(wú)機(jī)層的工序IV、以及從基材膜剝下保護(hù)膜的工序V。以下，對(duì)該方法進(jìn)行說(shuō)明。
[0155] 圖1為剖視圖，示意地示出了本發(fā)明的一例涉及的制造方法中使用的形成無(wú)機(jī)層 前的疊層膜的層結(jié)構(gòu)的一例。以下，將形成無(wú)機(jī)層前的疊層膜適當(dāng)稱為"支承體膜"。在此， 以使用了具有圖1所示結(jié)構(gòu)的支承體膜的復(fù)合膜的制造方法為例進(jìn)行說(shuō)明。
[0156] 圖1中，支承體膜100具備基材膜110和直接設(shè)置于基材膜110的一側(cè)的面110D的保 護(hù)膜120。另外，保護(hù)膜120可根據(jù)需要在與基材膜110相反側(cè)的面120D具備易滑層等任意 層。
[0157] 在本例涉及的制造方法中，對(duì)由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的基材膜110的面110D實(shí)施 活化處理(工序I)。另外，對(duì)由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的保護(hù)膜120的面120U實(shí)施活化處理(工 序 II)。
[0158] 然后，將基材膜110及保護(hù)膜120貼合、并使它們實(shí)施了活化處理的面110D及120U 相接(工序III)。該貼合可以通過(guò)將基材膜110及保護(hù)膜120在根據(jù)需要進(jìn)行了加熱的狀態(tài) 下進(jìn)行壓合等方法進(jìn)行。由此，得到圖1所示那樣的支承體膜100。
[0159] 對(duì)于這樣的支承體膜100,優(yōu)選通過(guò)卷對(duì)卷的操作而以長(zhǎng)條產(chǎn)品的形式制造，并可 以在將其制成卷體的狀態(tài)后供給至后續(xù)工序。通過(guò)將支承體膜1〇〇制成卷體的狀態(tài)，可以將 其保持長(zhǎng)條的形狀而容易地供給至后續(xù)的進(jìn)行減壓下的操作的裝置。
[0160] 圖2為剖視圖，示意地示出了本發(fā)明的一例涉及的制造方法中使用的中間品膜的 層結(jié)構(gòu)的一例。
[0161] 在如上所述地使基材膜110和保護(hù)膜120貼合之后，在支承體膜100的基材膜110的 與保護(hù)膜120相反側(cè)的面110U形成無(wú)機(jī)層130(工序IV)。無(wú)機(jī)層130的形成，例如可以通過(guò) CVD等蒸鍍法及濺射等操作進(jìn)行。由此，可如圖2所示地得到依次具備保護(hù)膜120、基材膜110 及無(wú)機(jī)層130的中間品膜140。
[0162] 對(duì)于形成無(wú)機(jī)層130的工序，結(jié)合進(jìn)行該工序的裝置的例子來(lái)對(duì)更具體的例子進(jìn) 行說(shuō)明。圖3為剖視圖，示出了用于通過(guò)CVD法形成無(wú)機(jī)層130的成膜裝置的一例。圖3中，成 膜裝置200為膜卷取式的等離子體CVD裝置，其連續(xù)進(jìn)行下述的一系列操作:在支承體膜100 的從卷體201連續(xù)送出的支承體膜100上，通過(guò)CVD連續(xù)地形成無(wú)機(jī)層130而制成中間品膜 140，并將該中間品膜140以卷體202的形式卷取。
[0163] 成膜裝置200具有導(dǎo)向輥211、筒形輥212及導(dǎo)向輥213,由此，可以將連續(xù)送出的支 承體膜100向箭頭A21所示的朝向引導(dǎo)，并供給至無(wú)機(jī)層130的形成工序。通過(guò)對(duì)導(dǎo)向輥211、 筒形輥212及導(dǎo)向輥213的位置以及由它們賦予支承體膜100的張力進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整，可使支 承體膜100在被筒形輥212引導(dǎo)期間達(dá)到與筒形輥212密合的狀態(tài)。
[0164] 筒形輥212沿箭頭A22所示的方向旋轉(zhuǎn)，其上的支承體膜100以接近于反應(yīng)管221的 狀態(tài)被搬運(yùn)。此時(shí)，由電源223向電極222施加電力，另一方面，利用適當(dāng)?shù)慕拥貥?gòu)件（未圖 示)使筒形輥212接地，且從氣體導(dǎo)入口 224沿箭頭A23的方向?qū)霟o(wú)機(jī)層130的材料的氣體。 由此，可以在支承體膜100的面上連續(xù)地形成無(wú)機(jī)層130。這樣的一系列操作在以真空槽290 包圍的空間內(nèi)進(jìn)行。對(duì)于真空槽290內(nèi)的壓力，可以通過(guò)操縱真空排氣裝置230而進(jìn)行減壓， 從而調(diào)整為適于CVD的壓力。
[0165] 在高輸出下實(shí)施這樣的工序的情況下，在現(xiàn)有技術(shù)中容易發(fā)生基材膜從筒形輥 212的浮起，難以連續(xù)地形成良好的無(wú)機(jī)層。另外，由于高輸出下的無(wú)機(jī)層的形成方法大多 在高溫條件下進(jìn)行，因此在基材膜的厚度薄的情況下存在該基材膜因熱損傷而劣化、難以 穩(wěn)定形成無(wú)機(jī)層的情況。此外，一般而言，光學(xué)性能高的基材膜通常表面平滑，因此易于發(fā) 生粘連。然而，本例涉及的制造方法中，通過(guò)在基材膜110的面設(shè)置給定的保護(hù)膜120,可以 防止支承體膜100的浮起、劣化及粘連。特別是在保護(hù)膜的面設(shè)置有易滑層的情況下，可以 有效地防止粘連。
[0166] 另外，雖然一般而言由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的基材膜及保護(hù)膜等膜的粘接性低， 但由于本例涉及的制造方法中是將基材膜110及保護(hù)膜120以實(shí)施了活化處理的面110D及 120U進(jìn)行貼合，因此即使在高輸出下進(jìn)行無(wú)機(jī)層130的形成的環(huán)境中，也可以抑制基材膜 110及保護(hù)膜120的剝離。
[0167] 因此，本例涉及的制造方法中，可以有效地實(shí)現(xiàn)良好的無(wú)機(jī)層130的連續(xù)形成。
[0168] 圖4為剖視圖，示意地示出了通過(guò)本發(fā)明的一例涉及的制造方法得到的復(fù)合膜150 的層結(jié)構(gòu)的一例。
[0169] 在如前所述地在基材膜110的面110U形成無(wú)機(jī)層130之后，從基材膜110剝下保護(hù) 膜120(工序V)。由此，如圖4所示，可得到具備基材膜110及無(wú)機(jī)層130的復(fù)合膜150。
[0170] 例如在利用粘接劑層及粘結(jié)劑層等將保護(hù)膜貼合于基材膜的情況下，難以從基材 膜順利地剝下保護(hù)膜。但是，在本例涉及的制造方法中，由于是將基材膜110及保護(hù)膜120以 實(shí)施了活化處理的面110D及120U直接貼合，因此可以容易并且順利地進(jìn)行剝離。因此，可以 有效地進(jìn)行復(fù)合膜150的制造。
[0171] 另外，對(duì)于上述例子所示的制造方法，也可以進(jìn)一步變更而實(shí)施。
[0172] 例如可以在形成無(wú)機(jī)層130之后、在從基材膜110剝下保護(hù)膜120之前，在無(wú)機(jī)層 130的與基材膜110相反側(cè)的面130U進(jìn)一步設(shè)置另外的層。作為具體例，可以首先形成作為 無(wú)機(jī)層130的阻隔層，并在該無(wú)機(jī)層130的面130U形成導(dǎo)電膜(未圖示）。
[0173] 另外，也可以例如在從基材膜110剝離保護(hù)膜120之后，進(jìn)一步在得到的復(fù)合膜150 上設(shè)置另外的層。
[0174] [6.用途]
[0175] 就利用上述制造方法制造的復(fù)合膜的用途而言，可用于例如：具有有機(jī)EL元件的 顯示裝置、液晶顯示裝置及電子紙等各種顯示裝置;照明用光源裝置等光源裝置;太陽(yáng)能電 池等裝置。在該情況下，如果是例如具備阻隔層作為無(wú)機(jī)層的復(fù)合膜，則可出于保護(hù)構(gòu)成裝 置的元件等目的而將其用作具有阻礙水分及氧的透過(guò)的阻隔功能的密封膜。另外，如果是 例如具備導(dǎo)電膜作為無(wú)機(jī)層的復(fù)合膜，則可將其用作設(shè)置在裝置中的電極或布線。
[0176] 實(shí)施例
[0177] 以下，示出實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行具體的說(shuō)明。但是，本發(fā)明并不限于下面所示的實(shí) 施例，在不脫離本發(fā)明的權(quán)利要求書(shū)及其均等范圍的范圍中，可任意變形而實(shí)施。
[0178] 以下的說(shuō)明中，表示量的"％"及"份"在沒(méi)有特別說(shuō)明的情況下為重量基準(zhǔn)。另外， 以下操作在沒(méi)有特別說(shuō)明的情況下為在常溫常壓的大氣中進(jìn)行。此外，在以下的說(shuō)明中， "seem"為氣體流量的單位，其以該氣體在25°C、latm的情況下的體積(cm 3)表示每1分鐘流 通的氣體的量。
[0179] [測(cè)定方法]
[0180](阻隔層的水蒸氣透過(guò)率的測(cè)定方法）
[0181] 利用Technolox公司制"DELTAPERM"對(duì)阻隔層的水蒸氣透過(guò)率進(jìn)行了測(cè)定。
[0182] (導(dǎo)電膜的表面電阻的測(cè)定方法）
[0183] 利用Mitsubishi Chemical Analytech公司制"Loresta GP"對(duì)導(dǎo)電膜的表面電阻 進(jìn)行了測(cè)定。
[0184] (樹(shù)脂膜的面相對(duì)于純水的接觸角的測(cè)定方法）
[0185] 使用接觸角計(jì)（協(xié)和界面科學(xué)公司制"Drop Master DM500"），將純水滴加至樹(shù)脂 膜的面，在從滴加起5秒后測(cè)定了接觸角。
[0186] [實(shí)施例1]
[0187] (1-1 .C0P基材的制造）
[0188] 利用溫度240°C的短螺桿擠出機(jī)使脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂（日本瑞翁公司制"ZE0N0R 1430R"，玻璃化轉(zhuǎn)變溫度138°C)的粒料熔融，并于溫度240°C將其從T型模熔融擠出，制造了 長(zhǎng)條的樹(shù)脂膜1(厚度188μπι)和長(zhǎng)條的樹(shù)脂膜2(厚度47μπι)。
[0189] (1-2 ·水性樹(shù)脂組合物的制造）
[0190] 取作為具有極性基團(tuán)的聚合物的聚氨酯的水分散體（第一工業(yè)制藥公司制 "SUPERFLEX 210"，含有羧基的酯類聚氨酯樹(shù)脂），其取用量使得該水分散體中所含的聚氨 酯為100份。向該水分散體中配合環(huán)氧化合物(Nagase ChemteX公司制"DENA⑶L ΕΧ-521"） 20份、癸二酸二酰肼5份、二氧化硅粒子(平均粒徑100nm)8份以及水，得到固體成分5%的液 態(tài)的水性樹(shù)脂組合物1。
[0191] (1-3.易滑層的形成）
[0192] 使用電暈處理裝置(春日電機(jī)公司制），在輸出300W、電極長(zhǎng)240mm、工作電極間距 3.0mm、搬運(yùn)速度4m/min的條件下，對(duì)樹(shù)脂膜1的單面實(shí)施了放電處理。
[0193] 使用輥涂機(jī)將上述水性樹(shù)脂組合物1涂布于樹(shù)脂膜1的實(shí)施了放電處理的面、并使 干燥膜厚為〇. 5μπι。然后，在140 °C經(jīng)40秒對(duì)涂布的水性樹(shù)脂組合物1進(jìn)行干燥，在樹(shù)脂膜1的 表面形成了易滑層。
[0194] (1-4.樹(shù)脂膜的貼合）
[0195] 對(duì)形成了易滑層的樹(shù)脂膜1的與易滑層相反側(cè)的面，實(shí)施了作為活化處理的常壓 等離子體表面處理。另外，對(duì)樹(shù)脂膜2的單面實(shí)施了作為活化處理的常壓等離子體表面處 理。這些常壓等離子體表面處理是使用常壓等離子體表面處理裝置(積水化學(xué)公司制"AP-T03-L"），在輸出1.5kw、頻率25kHz、氮?dú)饬髁?0L/分、照射速度30cm/分的條件下進(jìn)行的。使 用實(shí)施了活化處理的樹(shù)脂膜1及樹(shù)脂膜2的一部分，對(duì)實(shí)施了活化處理的面的接觸角進(jìn)行了 測(cè)定。
[0196]將樹(shù)脂膜1的實(shí)施了活化處理的面和樹(shù)脂膜2的實(shí)施了活化處理的面合在一起，使 用層壓機(jī)(MCK公司制"ML-300T"）進(jìn)行壓合。此時(shí)的層壓的條件為壓力0.4MPa、溫度130°C。 由此，得到了依次具備作為基材膜的樹(shù)脂膜2、作為保護(hù)膜的樹(shù)脂膜1、及易滑層的疊層膜A。 [0197] (1-5 ·阻隔層的形成(CVD法））
[0198] 利用CVD法在疊層膜A的樹(shù)脂膜2側(cè)的面形成了阻隔層。使用圖3所示的成膜裝置 (膜卷取式等離子體CVD裝置)進(jìn)行了形成阻隔層的操作。形成阻隔層時(shí)的條件為四甲基硅 燒(TMS)流量lOsccm、氧(〇2)流量lOOsccm、輸出0.8kW、總壓5Pa、膜搬運(yùn)速度0.5m/min，進(jìn)行 RF等離子體放電，從而進(jìn)行了無(wú)機(jī)層的形成。其結(jié)果，形成了由SiOx形成的厚度300nm的阻 隔層，得到了具有(阻隔層)/(樹(shù)脂膜2)/(樹(shù)脂膜1)/(易滑層）的層結(jié)構(gòu)的疊層膜B。測(cè)定阻 隔層的水蒸氣透過(guò)率的結(jié)果為〇.〇3g/m 2/day以下。將得到的疊層膜B卷取而形成了卷體。
[0199] 觀察在進(jìn)行無(wú)機(jī)層的形成工序時(shí)疊層膜A的狀態(tài)、以及卷取得到的疊層膜B的卷體 的狀態(tài)，依照下述的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)卷對(duì)卷適應(yīng)性(膜有無(wú)從搬運(yùn)輥浮起)及成膜適應(yīng)性(保護(hù) 膜有無(wú)剝離)進(jìn)行了評(píng)價(jià)。
[0200] ?卷對(duì)卷(R2R)適應(yīng)性
[0201]良……既沒(méi)有粘連也沒(méi)有從搬運(yùn)輥浮起。
[0202]不良……發(fā)生了粘連或發(fā)生了從搬運(yùn)輥的浮起而變得難以搬運(yùn)。
[0203] ?成膜適應(yīng)性
[0204]良……即使暴露于CVD時(shí)的高溫下，保護(hù)膜也未發(fā)生剝離。
[0205]不良……在暴露于CVD時(shí)的高溫時(shí)，保護(hù)膜發(fā)生剝離。
[0206] (1-6.導(dǎo)電膜的形成(濺射法））
[0207] 利用濺射法在疊層膜B的阻隔層側(cè)的面上形成了導(dǎo)電膜。使用膜卷取式磁控管濺 射裝置進(jìn)行了形成導(dǎo)電膜的操作。作為濺射的靶，使用了 In2〇3-Sn02陶瓷靶。形成導(dǎo)電膜時(shí) 的其它條件為:氬(Ar)流量15〇 SCCm、氧(02)流量lOsccm、輸出4.0kw、真空度0.3Pa、膜搬運(yùn) 速度0.5m/min。其結(jié)果，形成了由IT0形成的厚度lOOnm的阻隔膜，得到了具有(導(dǎo)電膜)/(阻 隔層)/(樹(shù)脂膜2)/(樹(shù)脂膜1)/(易滑層）的層結(jié)構(gòu)的疊層膜C。對(duì)導(dǎo)電膜的表面電阻進(jìn)行測(cè) 定的結(jié)果為50 Ω/□以下。將得到的疊層膜C卷取而形成了卷體。
[0208] 觀察在進(jìn)行導(dǎo)電膜的形成工序時(shí)疊層膜B的狀態(tài)、以及卷取得到的疊層膜C的卷體 的狀態(tài)，依照下述的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)卷對(duì)卷適應(yīng)性(膜有無(wú)從搬運(yùn)輥浮起)及成膜適應(yīng)性(保護(hù) 膜有無(wú)剝離)進(jìn)行了評(píng)價(jià)。
[0209] ?卷對(duì)卷(R2R)適應(yīng)性
[0210]良……既沒(méi)有粘連也沒(méi)有從搬運(yùn)輥浮起。
[0211]不良……發(fā)生了粘連或發(fā)生了從搬運(yùn)輥的浮起而變得難以搬運(yùn)。
[0212] ?成膜適應(yīng)性
[0213]良……即使暴露于濺射時(shí)的高溫下，保護(hù)膜也未發(fā)生剝離。
[0214]不良……在暴露于濺射時(shí)的高溫時(shí)，保護(hù)膜發(fā)生剝離。
[0215] (1-7.保護(hù)膜的剝離）
[0216] 在高濕環(huán)境中，從疊層膜C的作為基材膜的樹(shù)脂膜2剝離作為保護(hù)膜的樹(shù)脂膜1，得 到了具有（導(dǎo)電膜)/(阻隔層)/(樹(shù)脂膜2)的層結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜。樹(shù)脂膜1的剝離得以順利進(jìn) 行。
[0217][實(shí)施例2]
[0218] 作為上述工序（1-4)中對(duì)樹(shù)脂膜1的與易滑層相反側(cè)的面及對(duì)樹(shù)脂膜2的單面的活 化處理，代替常壓等離子體表面處理而實(shí)施了電暈處理。該電暈處理在輸出〇.6kw、處理速 度5m/min的條件下進(jìn)行。
[0219] 除以上的事項(xiàng)以外，和實(shí)施例1同樣地進(jìn)行了疊層膜B及C以及復(fù)合膜的制造及評(píng) 價(jià)。
[0220] [實(shí)施例3]
[0221] 作為上述工序（1-4)中對(duì)樹(shù)脂膜1的與易滑層相反側(cè)的面及對(duì)樹(shù)脂膜2的單面的活 化處理，代替常壓等離子體表面處理而實(shí)施了 UV臭氧處理。該UV臭氧處理在照射時(shí)間5m/ min、照射距離10mm的條件下進(jìn)行。
[0222] 除以上的事項(xiàng)以外，和實(shí)施例1同樣地進(jìn)行了疊層膜B及C以及復(fù)合膜的制造及評(píng) 價(jià)。
[0223] [實(shí)施例4]
[0224] 作為上述工序（1-4)中對(duì)樹(shù)脂膜1的與易滑層相反側(cè)的面及對(duì)樹(shù)脂膜2的單面的活 化處理，代替常壓等離子體表面處理而實(shí)施了燃燒化學(xué)氣相沉積處理。該燃燒化學(xué)氣相沉 積處理是使用硅氧化焰處理裝置、利用包含作為硅烷化合物的1，2_二氯四甲基硅烷的燃料 氣體的火焰、在處理速度1000mm/秒的條件下進(jìn)行的。
[0225] 除以上的事項(xiàng)以外，和實(shí)施例1同樣地進(jìn)行了疊層膜B及C以及復(fù)合膜的制造及評(píng) 價(jià)。
[0226] [實(shí)施例5]
[0227] 在140°C、膜搬運(yùn)速度20m/min的條件下使用拉幅機(jī)裝置對(duì)上述工序（1-1)中制造 的樹(shù)脂膜2進(jìn)行了拉伸。該拉幅機(jī)裝置具備:能夠把持膜的寬度方向兩端的把持件、和能夠 引導(dǎo)所述把持件的導(dǎo)軌。此時(shí)，在該拉幅機(jī)裝置中，將導(dǎo)軌設(shè)定為使得在拉伸后得到的膜 中，慢軸相對(duì)于流動(dòng)方向傾斜45°。由此，得到了厚度23μπι、慢軸相對(duì)于流動(dòng)方向成45°角度 的拉伸膜。使用這樣得到的拉伸膜代替樹(shù)脂膜2。
[0228] 除以上的事項(xiàng)以外，和實(shí)施例1同樣地進(jìn)行了疊層膜Β及C以及復(fù)合膜的制造及評(píng) 價(jià)。
[0229] [比較例1]
[0230]未進(jìn)行工序（1-4)中對(duì)樹(shù)脂膜1的與易滑層相反側(cè)的面及對(duì)樹(shù)脂膜2的單面的活化 處理。
[0231] 除以上的事項(xiàng)以外，和實(shí)施例1同樣地進(jìn)行了疊層膜Β及C以及復(fù)合膜的制造及評(píng) 價(jià)。但是，由于在工序（1-5)中未得到良好的阻隔層、未能在其上形成導(dǎo)電膜，因此進(jìn)行至工 序(1-5)的評(píng)價(jià)，而沒(méi)有進(jìn)行工序(1-6)及(1-7)。
[0232] [比較例2]
[0233]作為樹(shù)脂膜1，使用了聚碳酸酯樹(shù)脂的膜(帝人公司制"Panlite Sheet PC-2515"， 厚度125μπι)代替脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂的膜。
[0234]除以上的事項(xiàng)以外，和實(shí)施例1同樣地嘗試了疊層膜Β及C以及復(fù)合膜的制造及評(píng) 價(jià)。但是，由于在工序（1-5)中未得到良好的阻隔層、未能在其上形成導(dǎo)電膜，因此進(jìn)行至工 序(1-5)的評(píng)價(jià)，而沒(méi)有進(jìn)行工序(1-6)及(1-7)。
[0235][比較例3]
[0236] 作為樹(shù)脂膜1，使用了聚乙稀樹(shù)脂的膜(Toray Advanced Film公司制"Toretec 7332"，厚度250μπι)代替脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂的膜。
[0237]除以上的事項(xiàng)以外，和實(shí)施例1同樣地進(jìn)行了疊層膜Β及C以及復(fù)合膜的制造及評(píng) 價(jià)。但是，由于在工序（1-5)中未得到良好的阻隔層、未能在其上形成導(dǎo)電膜，因此進(jìn)行至工 序(1-5)的評(píng)價(jià)，而沒(méi)有進(jìn)行工序(1-6)及(1-7)。
[0238][結(jié)果]
[0239] 將所述實(shí)施例及比較例的結(jié)果示于表1及表2。在表1及表2中，接觸角的值顯示的 是進(jìn)行貼合的面相對(duì)于純水的接觸角的值。另外，表1及表2中簡(jiǎn)稱的含義如下所述。
[0240] C0P:脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂
[0241] PC:聚碳酸酯樹(shù)脂
[0242] PE:聚乙烯樹(shù)脂
[0243] [表1]
[0244][表1.實(shí)施例及比較例的結(jié)果]
[0245]
[0246] [表 2]
[0247] [表2.實(shí)施例及比較例的結(jié)果]
[0249] [考察]
[0250] 由表2可知，實(shí)施例中均可以穩(wěn)定地制造良好的無(wú)機(jī)層。由此可以確認(rèn)，根據(jù)本發(fā) 明，可以在厚度薄的基材膜上以高輸出形成無(wú)機(jī)層。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種疊層膜，其具備： 由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的基材膜、以及 直接設(shè)置于所述基材膜的一面的由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成的保護(hù)膜， 所述基材膜的與所述保護(hù)膜相接側(cè)的面、或所述保護(hù)膜的與所述基材膜相接側(cè)的面為 實(shí)施了活化處理的面。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的疊層膜，其中，所述活化處理為選自等離子體處理、電暈處理、 UV臭氧處理及燃燒化學(xué)氣相沉積處理中的至少一種。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的疊層膜，其中，所述基材膜的與所述保護(hù)膜相反側(cè)的面具 備無(wú)機(jī)層。4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的疊層膜，其中，所述無(wú)機(jī)層包含選自金屬氧化物、金屬氮化物 及金屬氮氧化物中的至少一種。5. 根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的疊層膜，其中，所述無(wú)機(jī)層包含阻隔層。6. 根據(jù)權(quán)利要求3~5中任一項(xiàng)所述的疊層膜，其中，所述無(wú)機(jī)層包含導(dǎo)電膜。7. 根據(jù)權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的疊層膜，其中，所述實(shí)施了活化處理的面相對(duì)于 純水的接觸角小于80°。8. -種復(fù)合膜的制造方法，其為制造具備基材膜及無(wú)機(jī)層的復(fù)合膜的方法，其中，該方 法包括： 在具備基材膜及保護(hù)膜的疊層膜的所述基材膜的與所述保護(hù)膜相反側(cè)的面形成無(wú)機(jī) 層的工序，所述基材膜由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成，所述保護(hù)膜直接設(shè)置于所述基材膜的一面 且由脂環(huán)式烯烴樹(shù)脂形成;和 從所述基材膜剝下所述保護(hù)膜的工序， 所述基材膜的與所述保護(hù)膜相接側(cè)的面、或所述保護(hù)膜的與所述基材膜相接側(cè)的面為 實(shí)施了活化處理的面。
【文檔編號(hào)】H01L51/50GK105829099SQ201480068514
【公開(kāi)日】2016年8月3日
【申請(qǐng)日】2014年12月25日
【發(fā)明人】原井謙, 原井謙一
【申請(qǐng)人】日本瑞翁株式會(huì)社