一種彩膜基板的制作方法以及彩膜基板、液晶顯示面板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種彩膜基板的制作方法以及彩膜基板、液晶顯示器。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著移動(dòng)顯示的日益普及，新一代移動(dòng)顯示技術(shù)向高畫質(zhì)、高分辨率、輕薄及低功耗發(fā)展。LTPS(Low Temperature Poly-silicon)技術(shù)以其優(yōu)越的高畫質(zhì)、高分辨率、超輕薄及低功耗等性能備受廣大消費(fèi)者喜愛，LTPS技術(shù)正在逐漸取代傳統(tǒng)a-Si TFT技術(shù)，成為新一代顯示技術(shù)主流。
[0003]傳統(tǒng)LTPSCF(彩膜基板)制作過程中需要在玻璃基板上制作一層平坦層(0C:0verCoat)，將BM(黑矩陣)與RGB(色阻圖案)中間區(qū)域覆蓋，增加CF表面平坦化，減少液晶扭轉(zhuǎn)阻礙。因OC層除平坦化沒有其他作用，使CF整體生產(chǎn)周期增長(zhǎng)，造成產(chǎn)能損失。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種彩膜基板的制作方法以及彩膜基板、液晶顯示面板倒裝芯片及其封裝方法，能夠簡(jiǎn)化制作工藝，增加生產(chǎn)產(chǎn)能。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括:
[0006]提供一基板;在基板形成黑矩陣，黑矩陣用于定義多個(gè)間隔設(shè)置的色阻區(qū)域;在色阻區(qū)域上形成色阻圖案;在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)?，以利用取向?qū)犹钛a(bǔ)色阻圖案之間的溝槽。
[0007]其中，在色阻區(qū)域上形成色阻圖案包括:將色阻圖案設(shè)置成突出于黑矩陣，并且色阻圖案與黑矩陣部分重疊。
[0008]其中，在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)硬襟E之前，還包括:在黑矩陣上形成與色阻圖案間隔設(shè)置的支撐柱；
[0009]在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)拥牟襟E進(jìn)一步包括:
[0010]利用所述取向?qū)痈采w所述支撐柱。
[0011]其中，在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)拥牟襟E包括:
[0012]將取向?qū)釉O(shè)置成與色阻圖案以及黑矩陣直接接觸。
[0013]為了解決上述問題，本發(fā)明還提供了一種彩膜基板，其特征在于，包括:一基板;位于基板上的黑矩陣;位于基板上黑矩陣定義的多個(gè)間隔設(shè)置的色阻區(qū)域的色阻圖案；
[0014]以及位于色阻圖案和黑矩陣上的取向?qū)?，用于填補(bǔ)色阻圖案和黑矩陣之間的溝槽。
[0015]其中，色阻圖案突出于所述黑矩陣并與黑矩陣部分重疊。
[0016]其中，還包括位于黑矩陣上與色阻圖案間隔設(shè)置的支撐柱，用于支撐基板，取向?qū)痈采w支撐柱。
[0017]其中，色阻圖案包括間隔設(shè)置的紅、綠、藍(lán)三色色阻。
[0018]其中，黑矩陣的材料是黑色導(dǎo)電光敏高分子樹脂混合物。
[0019]為了解決上述問題，本發(fā)明還提供了一種液晶顯示面板，包括，上述技術(shù)方案中任一項(xiàng)所述的彩膜基板。
[0020]本發(fā)明的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況，本發(fā)明的彩膜基板的制作方法以及彩膜基板、液晶顯示面板，通過直接在在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)?，以利用取向?qū)犹钛a(bǔ)色阻圖案之間的溝槽，而不需要再制作平坦層，從而減少了一道制程，增加了生產(chǎn)產(chǎn)會(huì)K。
【附圖說明】
[0021 ]圖1是本發(fā)明彩膜基板的制作方法一實(shí)施方式的流程圖；
[0022]圖2是本發(fā)明彩膜基板一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖3是本發(fā)明液晶顯示面板一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0024]在以下描述中闡述了具體的細(xì)節(jié)以便充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以多種不同于在此描述的其他方式來實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似推廣。因此本發(fā)明不受下面公開的【具體實(shí)施方式】的限制。
[0025]針對(duì)【背景技術(shù)】中提到的缺陷，本發(fā)明提供一種彩膜基板的制作方法。下面將結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
[0026]參閱圖1，圖1為本發(fā)明彩膜基板的制作方法一實(shí)施方式的流程圖，本發(fā)明彩膜基板的制作方法一實(shí)施方式中，所述方法具體包括如下步驟:
[0027]SlO提供一基板;該基板可以是玻璃、塑料等材質(zhì)，在這里不做具體限定；
[0028]S20在基板形成黑矩陣，黑矩陣用于定義多個(gè)間隔設(shè)置的色阻區(qū)域；
[0029]S30在色阻區(qū)域上形成色阻圖案；
[0030]黑矩陣是沉積在色阻圖案之間的不透光部分，它的主要作用是防止背景光泄漏，提高顯示對(duì)比度，防止混色和增加顏色的純度。由于黑矩陣的光密度要求在3以上，因此采用在基片玻璃上濺射鉻層，然后光刻出所需圖案的方法，也可以采用采用含有黑色染料的樹脂光刻膠。
[0031]S40在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)樱岳萌∠驅(qū)犹钛a(bǔ)色阻圖案之間的溝槽。
[0032]優(yōu)選的，S30在色阻區(qū)域上形成色阻圖案包括:將色阻圖案設(shè)置成突出于黑矩陣，并且色阻圖案與黑矩陣部分重疊，以避免背景光泄露。
[0033]優(yōu)選的，S40在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)硬襟E之前，還包括:在黑矩陣上形成與色阻圖案間隔設(shè)置的支撐柱;利用取向?qū)痈采w支撐柱。
[0034]優(yōu)選的，S40在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)拥牟襟E包括:將取向?qū)釉O(shè)置成與色阻圖案以及黑矩陣直接接觸。
[0035]上述本發(fā)明彩膜基板的制作方法實(shí)施方式中，通過直接在在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)?，以利用取向?qū)犹钛a(bǔ)色阻圖案之間的溝槽，而不需要再制作平坦層，從而減少了一道制程，增加了生產(chǎn)產(chǎn)能。
[0036]參閱圖2，圖2為本發(fā)明的彩膜基板一實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖，本發(fā)明彩膜基板一實(shí)施方式中，包括:
[0037]基板10，該基板可以是玻璃或者塑料等材質(zhì)；
[0038]位于基板10上的黑矩陣20，黑矩陣20是沉積在色阻圖案之間的不透光部分，它的主要作用是防止背景光泄漏，提高顯示對(duì)比度，防止混色和增加顏色的純度。由于黑矩陣20的光密度要求在3以上，因此采用在基片玻璃上濺射鉻層，然后光刻出所需圖案的方法，也可以采用采用含有黑色染料的樹脂光刻膠；
[0039]其中，優(yōu)選的，黑矩陣20的材料是黑色導(dǎo)電光敏高分子樹脂混合物；
[0040]位于基板10上黑矩陣20定義的多個(gè)間隔設(shè)置的色阻區(qū)域的色阻圖案30，其中，色阻圖案30突出于黑矩陣20并與黑矩陣部分重疊，以避免背景光泄露；
[0041]其中，優(yōu)選的，色阻圖案30包括間隔設(shè)置的紅、綠、藍(lán)三色色阻。
[0042]以及位于色阻圖案30和黑矩陣20上的取向?qū)?0，用于填補(bǔ)色阻圖案30和黑矩陣20之間的溝槽，其中，取向?qū)?0和色阻圖案30以及黑矩陣20直接接觸，而不再設(shè)置平坦層。
[0043]本發(fā)明彩膜基板一優(yōu)選實(shí)施方式中，繼續(xù)參照?qǐng)D2，還包括位于黑矩陣20上與色阻圖案30間隔設(shè)置的支撐柱50，用于支撐基板10，取向?qū)?0覆蓋支撐柱50。
[0044]本發(fā)明彩膜基板實(shí)施方式中，通過直接在在色阻圖案30以及黑矩陣20上形成取向?qū)?0，以利用取向?qū)?0填補(bǔ)色阻圖案30之間的溝槽，而不需要再設(shè)置平坦層，從而簡(jiǎn)化了彩膜基板的結(jié)構(gòu)，減少了一道制程，增加了生產(chǎn)產(chǎn)能。
[0045]參照?qǐng)D3，本發(fā)明還提供了一種液晶顯示面板，包括陣列基板41、彩膜基板42以及設(shè)置在陣列基板和彩膜基板之間的液晶層43。
[0046]其中，彩膜基板42的具體結(jié)構(gòu)以及制造方法與上述的彩膜基板的實(shí)施方式類似，具體請(qǐng)參見上述彩膜基板的實(shí)施方式以及優(yōu)選實(shí)施方式中的相關(guān)描述。
[0047]本發(fā)明液晶顯示面板實(shí)施方式中，彩膜基板42通過直接在在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)?，以利用取向?qū)犹钛a(bǔ)色阻圖案之間的溝槽，而不需要再設(shè)置平坦層，從而簡(jiǎn)化了彩膜基板的結(jié)構(gòu)，減少了一道制程，增加了生產(chǎn)產(chǎn)能。
[0048]以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施方式，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括: 提供一基板； 在所述基板形成黑矩陣，所述黑矩陣用于定義多個(gè)間隔設(shè)置的色阻區(qū)域； 在所述色阻區(qū)域上形成色阻圖案； 在所述色阻圖案以及所述黑矩陣上形成取向?qū)樱岳盟鋈∠驅(qū)犹钛a(bǔ)所述色阻圖案之間的溝槽。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述色阻區(qū)域上形成色阻圖案包括: 將所述色阻圖案設(shè)置成突出于所述黑矩陣，并且所述色阻圖案與所述黑矩陣部分重置。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述色阻圖案以及所述黑矩陣上形成取向?qū)硬襟E之前，還包括:在所述黑矩陣上形成與所述色阻圖案間隔設(shè)置的支撐柱； 在所述色阻圖案以及所述黑矩陣上形成取向?qū)拥牟襟E進(jìn)一步包括: 利用所述取向?qū)痈采w所述支撐柱。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述色阻圖案以及所述黑矩陣上形成取向?qū)拥牟襟E包括: 將所述取向?qū)釉O(shè)置成與所述色阻圖案以及所述黑矩陣直接接觸。5.一種彩膜基板，其特征在于，包括: 一基板； 位于所述基板上的黑矩陣； 位于所述基板上所述黑矩陣定義的多個(gè)間隔設(shè)置的色阻區(qū)域的色阻圖案； 以及位于所述色阻圖案和所述黑矩陣上的取向?qū)?，用于填補(bǔ)所述色阻圖案和所述黑矩陣之間的溝槽。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻圖案突出于所述黑矩陣并與所述黑矩陣部分重疊。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，還包括位于所述黑矩陣上與所述色阻圖案間隔設(shè)置的支撐柱，用于支撐所述基板，所述取向?qū)痈采w所述支撐柱。8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻圖案包括間隔設(shè)置的紅、綠、藍(lán)三色色阻。9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩陣的材料是黑色導(dǎo)電光敏高分子樹脂混合物。10.—種液晶顯示面板，其特征在于，包括，如權(quán)利要求5?9中任一項(xiàng)所述的彩膜基板。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種彩膜基板的制作方法以及彩膜基板、液晶顯示面板，其制作方法包括：提供一基板；在基板形成黑矩陣，黑矩陣用于定義多個(gè)間隔設(shè)置的色阻區(qū)域；在色阻區(qū)域上形成色阻圖案；在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)?，以利用取向?qū)犹钛a(bǔ)色阻圖案之間的溝槽。本發(fā)明通過直接在色阻圖案以及黑矩陣上形成取向?qū)?，以利用取向?qū)犹钛a(bǔ)色阻圖案之間的溝槽，而不需要再制作平坦層，從而減少了一道制程，增加了生產(chǎn)產(chǎn)能。
【IPC分類】G02F1/1335
【公開號(hào)】CN105607337
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610148191
【發(fā)明人】楊紅, 石巖昌
【申請(qǐng)人】武漢華星光電技術(shù)有限公司
【公開日】2016年5月25日
【申請(qǐng)日】2016年3月15日