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      一種提高光利用率的導(dǎo)光板的制作方法

      文檔序號(hào):9027225閱讀:608來源:國(guó)知局
      一種提高光利用率的導(dǎo)光板的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及液晶顯示器&TV背光源導(dǎo)光板加工領(lǐng)域,尤其是一種提高光利用率的導(dǎo)光板。
      【背景技術(shù)】
      [0002]目前,在液晶顯示器&TV背光源導(dǎo)光板加工領(lǐng)域,為節(jié)省背光源中LED的使用數(shù)量成本,大多數(shù)公司將LED的使用數(shù)量降低,因LED使用數(shù)量的降低,則LED之間會(huì)形成暗區(qū),故傳統(tǒng)的方法,是采用設(shè)計(jì)網(wǎng)點(diǎn)的方案來解決LED入光處的明暗相間問題.采用此傳統(tǒng)的方法,設(shè)計(jì)時(shí)困難度很大,且需要多次設(shè)計(jì)修改才能達(dá)到效果.并且依此方案設(shè)計(jì)的產(chǎn)品,在產(chǎn)品加工過程(印刷)需要很精確的對(duì)位,才可以避免入光處的燈影問題;生產(chǎn)加工過程非常困難,且因印刷偏位而導(dǎo)致良率很低。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0003]現(xiàn)有技術(shù)難以滿足人們的生產(chǎn)生活需要,針對(duì)上述問題,本實(shí)用新型旨在提供一種提高光利用率的導(dǎo)光板。
      [0004]為實(shí)現(xiàn)該技術(shù)目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種提高光利用率的導(dǎo)光板,包括導(dǎo)光板本體,所述導(dǎo)光板本體的入光側(cè)設(shè)置有V-CUT結(jié)構(gòu),即在入光側(cè)分布有V型溝槽,所述V型溝槽等間距分布于所述入光側(cè),所述V型溝槽的角度為60°?90°。
      [0005]作為本實(shí)用新型的優(yōu)選技術(shù)方案:所述V型溝槽的角度由入光側(cè)、出光側(cè)至中間逐漸增大。
      [0006]作為本實(shí)用新型的優(yōu)選技術(shù)方案:背景光源通過所述導(dǎo)光板本體在出光側(cè)的發(fā)光角度增加至140°?160°。
      [0007]作為本實(shí)用新型的優(yōu)選技術(shù)方案:所述V型溝槽的深度為導(dǎo)光板厚的三分之一。
      [0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:一種提高光利用率的導(dǎo)光板,采用入光側(cè)做V-CUT處理的方法,使光線經(jīng)過表面為V型溝槽的V-Cut結(jié)構(gòu)時(shí),一部分光線發(fā)生折射,增加了導(dǎo)光板出光面視向方向的光線,提高了光能利用率,另一部分被反射回導(dǎo)光板內(nèi),減少了光能的損失。本實(shí)用新型可以解決導(dǎo)光板印刷時(shí)產(chǎn)生燈影的問題,解決背景光源造成燈影的造成的印刷偏位,從而大大提升導(dǎo)光板印刷生產(chǎn)加工良率。
      【附圖說明】
      [0009]圖1為本實(shí)用新型導(dǎo)光板上入光側(cè)俯視示意圖;
      [0010]圖2為本實(shí)用新型V型溝槽角度結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0011]圖3為未經(jīng)處理導(dǎo)光板與本實(shí)用新型導(dǎo)光板光線結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0012]其中:導(dǎo)光板的入光側(cè)I ;V型溝槽2 ;背景光源3 ;未經(jīng)處理導(dǎo)光板結(jié)構(gòu)4。
      【具體實(shí)施方式】
      [0013]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
      [0014]請(qǐng)參閱說明書附圖1?3,本實(shí)用新型實(shí)施例中,一種提高光利用率的導(dǎo)光板,包括導(dǎo)光板本體,導(dǎo)光板本體的入光側(cè)I設(shè)置有V-CUT結(jié)構(gòu),即在入光側(cè)I分布有V型溝槽2,V型溝槽2等間距分布于所述入光側(cè)1,所述V型溝槽2的角度為60°?90°。
      [0015]V型溝槽2的角度由入光側(cè)、出光側(cè)至中間逐漸增大。這樣,可以使背光源的光滲透的更遠(yuǎn),有利于解決導(dǎo)光板產(chǎn)生的亮度不夠的問題。背景光源3通過設(shè)有V型溝槽2的導(dǎo)光板本體的發(fā)光角度增加至140°?160°。
      [0016]此外,優(yōu)選的,V型溝槽的深度為導(dǎo)光板厚的三分之一。
      [0017]本實(shí)用新型中,在背景光源入光側(cè)的導(dǎo)光板邊采用V-⑶T結(jié)構(gòu),使光線經(jīng)過表面為V型溝槽的V-CUT結(jié)構(gòu)時(shí),一部分光線發(fā)生折射,增加了導(dǎo)光板出光面視向方向的光線,提高了光能利用率,另一部分被反射回導(dǎo)光板內(nèi),減少了光能的損失;此外,還可以使背景光源的經(jīng)導(dǎo)光板后的發(fā)光角度增大,如發(fā)光角度由原先為120°,增加到140° -160°,大大提升背景光源間的光線均勻度。本實(shí)用新型可以解決導(dǎo)光板印刷時(shí)產(chǎn)生燈影的問題,解決背景光源造成燈影的造成的印刷偏位,從而大大提升導(dǎo)光板印刷生產(chǎn)加工良率。
      [0018]對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言,然而本實(shí)用新型不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié),而且在不背離本實(shí)用新型的精神或基本特征的情況下,能夠以其它的具體形式實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。因此,無論從哪一點(diǎn)來看,均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定,因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實(shí)用新型內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
      [0019]以上所述,僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例,并不用以限制本實(shí)用新型,凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何細(xì)微修改、等同替換和改進(jìn),均應(yīng)包含在本實(shí)用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍之內(nèi)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種提高光利用率的導(dǎo)光板,包括導(dǎo)光板本體,其特征在于:所述導(dǎo)光板本體的入光側(cè)設(shè)置有V-⑶T結(jié)構(gòu),即在入光側(cè)分布有V型溝槽,所述V型溝槽等間距分布于所述入光偵牝所述V型溝槽的角度為60°?90°。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高光利用率的導(dǎo)光板,其特征在于:所述V型溝槽的角度由入光側(cè)、出光側(cè)至中間逐漸增大。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高光利用率的導(dǎo)光板,其特征在于:背景光源通過所述導(dǎo)光板本體在出光側(cè)的發(fā)光角度增加至140°?160°。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高光利用率的導(dǎo)光板,其特征在于:所述V型溝槽的深度為導(dǎo)光板厚的三分之一。
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種提高光利用率的導(dǎo)光板,包括導(dǎo)光板本體,所述導(dǎo)光板本體的入光側(cè)設(shè)置有V-CUT結(jié)構(gòu),即在入光側(cè)分布有V型溝槽,所述V型溝槽等間距分布于所述入光側(cè)。本實(shí)用新型采用對(duì)導(dǎo)光板的入光側(cè)做V-CUT處理,解決背景光源造成燈影的造成的印刷偏位,從而大大提升導(dǎo)光板印刷生產(chǎn)加工良率。
      【IPC分類】G02B6/00, F21V8/00, G02F1/13357
      【公開號(hào)】CN204679672
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520230252
      【發(fā)明人】李飛
      【申請(qǐng)人】深圳泰一光學(xué)科技有限公司
      【公開日】2015年9月30日
      【申請(qǐng)日】2015年4月7日
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