一種rf射頻功率源的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種RF射頻功率源，廣泛地應(yīng)用于科研、半導(dǎo)體工藝、真空鍍膜、工業(yè)材料加工設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]射頻功率源又稱射頻電源，是可以產(chǎn)生固定頻率(13.56MHz，27.12MHz等頻點(diǎn))的正弦波、具有一定功率的電源。已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝設(shè)備;LED與太陽能光伏產(chǎn)業(yè);科學(xué)實(shí)驗中的等離子體發(fā)生器;射頻感應(yīng)加熱;醫(yī)療美容;常壓等離子體消毒清洗等。
[0003]目前，已有的射頻功率源，其射頻放大器采用功率模塊和大功率場效應(yīng)管放大器，體積大、功率低。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型主要的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提出了一種RF射頻功率源，采用單片機(jī)技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了多項智能控制，提高了效率，縮小了體積。
[0005]—種RF射頻功率源包括:機(jī)體、單片機(jī)、匹配器與射頻源，所述機(jī)體側(cè)面設(shè)有液晶顯示屏，所述液晶顯示屏旁設(shè)有參數(shù)設(shè)定按鈕，所述單片機(jī)通過匹配器與射頻源連接設(shè)于機(jī)體內(nèi)部，所述射頻源包括:有源石英晶體穩(wěn)頻、它激機(jī)與金屬陶瓷四極管，所述金屬陶瓷四極管為末級，所述有源石英晶體穩(wěn)頻、它激機(jī)均由單片機(jī)控制。
[0006]其中，所述匹配器與射頻源功效溶為一體。
[0007]其中，輸出功率大于500W，且由0-500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
[0008]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型提出一種RF射頻功率源，效率高，工作穩(wěn)定可靠，匹配器與射頻源功效溶為一體，提高了效率，縮小了體積，增加了美感。采用液晶顯示屏與單片機(jī)應(yīng)用控制，使本機(jī)提高了檔次，是目前國內(nèi)電子管射頻源最先進(jìn)的機(jī)型。
[0009]為了能更進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本實(shí)用新型的詳細(xì)說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本實(shí)用新型加以限制。
【附圖說明】
[0010]下面結(jié)合附圖，通過對本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】詳細(xì)描述，將使本實(shí)用新型的技術(shù)方案及其它有益效果顯而易見。
[0011 ]圖1，是本實(shí)用新型一種RF射頻功率源的結(jié)構(gòu)示意圖；
【具體實(shí)施方式】
[0012]為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0013]請參閱圖1，一種RF射頻功率源包括:機(jī)體1、單片機(jī)、匹配器與射頻源，所述機(jī)體I側(cè)面設(shè)有液晶顯示屏3，所述液晶顯示屏3旁設(shè)有參數(shù)設(shè)定按鈕2，所述單片機(jī)通過匹配器與射頻源連接設(shè)于機(jī)體內(nèi)部，所述射頻源包括:有源石英晶體穩(wěn)頻、它激機(jī)與金屬陶瓷四極管，所述金屬陶瓷四極管為末級，所述有源石英晶體穩(wěn)頻、它激機(jī)均由單片機(jī)控制。
[0014]進(jìn)一步，所述匹配器與射頻源功效溶為一體。
[0015]進(jìn)一步，輸出功率大于500W，且由0-500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
[0016]本實(shí)用新型在大功率長時間工作，主變壓器濕度超過70°C時會報警，文字提示，并停止功率輸出。當(dāng)風(fēng)機(jī)出現(xiàn)故障時會峰嗚器報警并文字提示。開機(jī)4分鐘后本機(jī)在自檢中，如有負(fù)載未接或接觸不良會有文字提示。當(dāng)Ua調(diào)節(jié)輸出功率到你所設(shè)定功率時，兩秒后峰嗚聲鎖定所設(shè)功率并恒功率輸出。本實(shí)用新型可連續(xù)工作時間24小時。
[0017]以上所述，僅為本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項】
1.一種RF射頻功率源，其特征在于:包括:機(jī)體、單片機(jī)、匹配器與射頻源，所述機(jī)體側(cè)面設(shè)有液晶顯示屏，所述液晶顯示屏旁設(shè)有參數(shù)設(shè)定按鈕，所述單片機(jī)通過匹配器與射頻源連接設(shè)于機(jī)體內(nèi)部，所述射頻源包括:有源石英晶體穩(wěn)頻、它激機(jī)與金屬陶瓷四極管，所述金屬陶瓷四極管為末級，所述有源石英晶體穩(wěn)頻、它激機(jī)均由單片機(jī)控制。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種RF射頻功率源，其特征在于:所述匹配器與射頻源功效溶為一體。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種RF射頻功率源，其特征在于:輸出功率大于500W，且由O-500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種RF射頻功率源，廣泛地應(yīng)用于科研、半導(dǎo)體工藝、真空鍍膜、工業(yè)材料加工設(shè)備。本實(shí)用新型包括：機(jī)體、單片機(jī)、匹配器與射頻源，所述機(jī)體側(cè)面設(shè)有液晶顯示屏，所述液晶顯示屏旁設(shè)有參數(shù)設(shè)定按鈕，所述單片機(jī)通過匹配器與射頻源連接設(shè)于機(jī)體內(nèi)部，所述射頻源包括：有源石英晶體穩(wěn)頻、它激機(jī)與金屬陶瓷四極管，所述金屬陶瓷四極管為末級，所述有源石英晶體穩(wěn)頻、它激機(jī)均由單片機(jī)控制。本實(shí)用新型提出一種RF射頻功率源，效率高，工作穩(wěn)定可靠，匹配器與射頻源功效溶為一體，提高了效率，縮小了體積，增加了美感。采用液晶顯示屏與單片機(jī)應(yīng)用控制，使本機(jī)提高了檔次，是目前國內(nèi)電子管射頻源最先進(jìn)的機(jī)型。
【IPC分類】H05H1/46
【公開號】CN205196065
【申請?zhí)枴緾N201521034476
【發(fā)明人】李璐
【申請人】沈陽科誠真空技術(shù)有限公司
【公開日】2016年4月27日
【申請日】2015年12月15日