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      適用于高真空下的團簇沉積樣品襯底座的制作方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號:10189312

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      團簇束流沉積系統(tǒng)采用氣相聚集過程形成團簇(納米粒子),通過氣體動力學噴嘴形成束流,在高真空下以聲速低能或被加速后荷能沉積于基體上,實現(xiàn)低能團簇束流沉積(CBD)或荷能團簇束流沉積(ECI),團簇束流技術(shù)在制備納米結(jié)構(gòu)域、納米組分薄膜具有巨大的應用市場。實用新型內(nèi)容針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,本實用新型目的是,提供一種適用于高真空下的團簇沉積樣品襯底座,可以用于多個樣品應用。本實用新型的技術(shù)方案是適用于高真空下的團簇沉積樣品襯底座,將襯底座設計成一個菱柱結(jié)構(gòu),菱...
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