技術(shù)編號：10241679
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。擴散爐是半導體生產(chǎn)線前工序的重要工藝設備之一，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業(yè)的擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝。擴散爐與其內(nèi)的石英管相配合，常用于半導體硅片的高溫擴散，進而生產(chǎn)得到芯片。目前在擴散工藝中，擴散源主要分為氣態(tài)源、液態(tài)源和紙源，紙源涂覆擴散目前已經(jīng)成為主流技術(shù)手段。在紙源擴散工藝中，擴散爐用石英管設置在擴散爐的腔體內(nèi)，并通過加熱擴散爐來升溫，其中石英管的一端設置有多個分別用于通入多種高純氣體的進氣口，石英管的...
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