技術(shù)編號：10266630
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。厚度均勻性是硅外延生產(chǎn)的主要控制參數(shù)，隨著外延產(chǎn)品的質(zhì)量要求不斷提高，設(shè)備的精確度要求也變得越來越苛刻?，F(xiàn)有技術(shù)中的平板基座支撐裝置，譬如，意大利LPE(Liquid Phase Epitaxial，液相外延)公司的PE3061D外延爐的平板基座支撐裝置，支撐體與連接頭分離，由于裝配間隙的存在，支撐體與連接頭在軸向上的旋轉(zhuǎn)自由度未固定，導(dǎo)致基座在慣性下不能精確定位，從而引起硅片搭邊或貼邊，進(jìn)而影響硅片的厚度均勻性。在水平方向上，支撐體上表面與連接頭下表面存...
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