技術(shù)編號：10341416
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。目前，常規(guī)的選擇性催化還原脫硝裝置中噴氨格柵的噴嘴方向均采用向上設(shè)置，使噴氨格柵噴出的氨氣與煙氣的流動方向相同，然后經(jīng)煙氣混合器后充分混合，這種設(shè)置方式的主要目的是防止煙氣攜帶的飛灰進入噴嘴內(nèi)部，造成噴嘴的堵塞，但這種方式不僅使得煙氣與氨氣混合不充分，影響氨氣在煙道內(nèi)流場分布均勻性，導致脫硝出口部分區(qū)域氨逃逸或出口氮氧化物濃度較高，影響脫硝效果。針對上述問題，中國專利CN202506301公布了《一種用于SCR脫硝裝置的逆流噴氨裝置》，其煙道內(nèi)由煙氣進入方...
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