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      溝槽型雙層柵mos的工藝方法技術資料下載

      技術編號:10490638

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      溝槽型雙層柵M0S,作為一種功率器件,具有擊穿電壓高,導通電阻低,開關速度快的特點。圖1所示為一種常見的溝槽型雙層柵MOS器件的剖面圖,圖中的溝槽分為上下兩層,其中位于下層的多晶硅源極2,位于溝槽上部的為多晶硅柵極4,多晶硅源極2和多晶硅柵極4之間具有隔離氧化層3,溝槽內壁具有介質膜以隔離多晶硅與硅襯底。溝槽上部區(qū)域的襯底中具有多晶硅源極2的接觸6。圖2是多晶硅源極2的接觸6的局部放大圖,由于現(xiàn)在在工藝上器件的尺寸逐漸縮小,導致源極的接觸6的光刻套準變得對...
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