技術編號:10490638
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。溝槽型雙層柵M0S,作為一種功率器件,具有擊穿電壓高,導通電阻低,開關速度快的特點。圖1所示為一種常見的溝槽型雙層柵MOS器件的剖面圖,圖中的溝槽分為上下兩層,其中位于下層的多晶硅源極2,位于溝槽上部的為多晶硅柵極4,多晶硅源極2和多晶硅柵極4之間具有隔離氧化層3,溝槽內壁具有介質膜以隔離多晶硅與硅襯底。溝槽上部區(qū)域的襯底中具有多晶硅源極2的接觸6。圖2是多晶硅源極2的接觸6的局部放大圖,由于現(xiàn)在在工藝上器件的尺寸逐漸縮小,導致源極的接觸6的光刻套準變得對...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。