技術(shù)編號:10494536
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。以往,對于使用了碳化娃(SiC)的M0SFET(MetalOxide Semiconductor Field-Effect Transistor金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管),進(jìn)行高溫柵偏壓(HTGB HighTemperature Gate Bias)試驗。在高溫柵偏壓試驗中,在高溫環(huán)境下對柵極和源極之間長時間地施加電壓。已知在該高溫柵偏壓試驗中,柵極和源極之間的閾值電壓(Vth)降低。閾值電壓的降低是由來自外部的雜質(zhì)的擴散而引起的。作為抑制閾值電壓的降...
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