技術(shù)編號：10505426
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。半導體真空管道加熱已經(jīng)廣泛應用于許多半導體生產(chǎn)工藝中。由于許多半導體生產(chǎn)工藝中(例如CVD，PECVD，Etch)有大量的可凝生成物的生成，對管道的加熱可以避免此類生成物在管道內(nèi)壁上的沉積，從而，避免了管道的堵塞，以保證半導體生產(chǎn)設(shè)備的正常運行。一個完美加熱的半導體管道可以大大增加設(shè)備的利用率，延長真空栗的壽命，提高成品的良率，并且減少操作工人和有毒氣體的接觸。為了便于真空管道的安裝和維護，在一個真空管道快速接頭。對于管道直徑小于50mm的管道，一般用KF...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路，無完整電路圖，適合研究學習。