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      離子注入裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)方法及清洗方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):10513824

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      在氣態(tài)離子源離子注入裝置中,如果長(zhǎng)時(shí)間維持從離子源引出離子束的運(yùn)轉(zhuǎn),則在離子源內(nèi)部和離子束引出電極上堆積附著物,如果置之不理,過(guò)多堆積的附著物容易在所述電極系統(tǒng)中引起電極之間的異常放電。異常放電會(huì)使得引出束流不穩(wěn)定,過(guò)多的異常放電會(huì)使注入無(wú)法達(dá)到預(yù)定效果,甚至無(wú)法維持離子源的正常運(yùn)轉(zhuǎn)。在離子注入裝置中,對(duì)多片基板進(jìn)行的離子注入是以分片多次注入的方式進(jìn)行的。在各片離子注入之間,為進(jìn)行已處理和未處理的基板的交換,需要暫停離子的注入,所以可以考慮利用這樣的基板交...
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