技術(shù)編號:10517169
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 各種薄層沉積技術(shù)是當(dāng)前可用的。然而,這些技術(shù)中的大多數(shù)技術(shù)被設(shè)計成用以 將涂覆材料沉積于平坦表面上而非粗糙表面、彎曲表面或具有延伸遠(yuǎn)離表面的平面的各種 突出部及其它特征的表面上。常規(guī)薄層沉積技術(shù)的常見實例包含旋涂及輥涂。當(dāng)在并不平 坦的表面上使用這些技術(shù)時,經(jīng)涂覆層通常不均勻或至少不保形。一些表面(例如延伸遠(yuǎn)離 主表面的平面的小特征的表面)甚至可在沉積操作完成之后保持完全不含涂覆材料。其它 常規(guī)沉積技術(shù)(例如等離子體沉積及濺射)遭受視線(line-of-...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。