技術(shù)編號(hào)：10517947
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 在半導(dǎo)體工業(yè)內(nèi)，對(duì)高準(zhǔn)確且可靠地制造較小結(jié)構(gòu)存在持續(xù)增長(zhǎng)的期望。光刻是 運(yùn)種制造工藝的關(guān)鍵部分。在無(wú)掩模光刻系統(tǒng)中，帶電粒子細(xì)束(beamlet)可用W將圖案轉(zhuǎn) 印至目標(biāo)上。運(yùn)些細(xì)束可單獨(dú)受控制W獲得所要的圖案。 為在商業(yè)上可行，需要帶電粒子光刻系統(tǒng)能夠滿足對(duì)實(shí)質(zhì)晶圓產(chǎn)出量及嚴(yán)格誤差 容限的具有挑戰(zhàn)性的需求?？赏ㄟ^(guò)使用更多細(xì)束及因此更多電流來(lái)獲得較高產(chǎn)出量 然而，處置較大數(shù)目的細(xì)束導(dǎo)致對(duì)更多控制電路的需要。操作控制電路可引起光 刻系統(tǒng)內(nèi)的加熱。此外，電流...
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