技術(shù)編號(hào):10517953
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。以往,碳化硅(以下稱為SiC)半導(dǎo)體在熱、化學(xué)、機(jī)械方面較為穩(wěn)定,作為發(fā)光元件或高頻器件、電力用半導(dǎo)體裝置(功率器件),期待被應(yīng)用于各種產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。特別是使用了SiC半導(dǎo)體的高耐壓M0SFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor絕緣柵型場效應(yīng)晶體管)與使用了硅(Si)半導(dǎo)體的高耐壓MOSFET相比,具有導(dǎo)通電阻低的優(yōu)點(diǎn)。另外,已報(bào)導(dǎo)了使用SiC半導(dǎo)體的肖特基二極管與使用硅半導(dǎo)體的肖特基二極管相比...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。