技術(shù)編號(hào):10536746
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。—直以來(lái),已知有用于以在保持片上保持基板的狀態(tài)下進(jìn)行等離子體處理的等離子體處理裝置。在上述的等離子體處理裝置中,將保持基板的載體(搬運(yùn)載體)作為處理對(duì)象而進(jìn)行等離子體處理。搬運(yùn)載體具有在基板的周?chē)渲玫目蚣?、和保持基板以及框架的保持片。因此,等離子體處理裝置具備腔室;配置在腔室內(nèi)且具有搭載搬運(yùn)載體的上表面的工作臺(tái);以及在腔室內(nèi)產(chǎn)生等離子體的等離子體激發(fā)裝置。工作臺(tái)通常具備用于使搬運(yùn)載體緊貼在工作臺(tái)上的靜電吸附機(jī)構(gòu)(專(zhuān)利文獻(xiàn)I)。在先技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1國(guó)際公...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。