技術(shù)編號：10573648
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 面向作為存儲設(shè)備的閃存的大容量化、移動電話、智能手機的高分辨率照相機的 圖像傳感器等的市場的擴大，因此，對于半導(dǎo)體器件有進一步微細化的強烈要求。在運樣的 各種電子設(shè)備制造中，廣泛利用光刻法。光刻通過使光源短波長化來推進微細化。作為光 源，使用KrF準分子激光W后的短波長光源時，通常使用化學增幅型抗蝕劑，為其組成一般 包含主劑的功能性樹脂和光致產(chǎn)酸劑、進而包含多種添加劑的溶液。其中，對于作為主劑的 功能性樹脂，重要的是均衡性良好地具備蝕刻耐性、基板密合性、...
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