技術(shù)編號(hào)：10593128
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。光刻是半導(dǎo)體制造的重要流程之一，具體是利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。由于光刻要在整個(gè)晶圓(wafer)上進(jìn)行，而一個(gè)晶圓包括多個(gè)晶粒(die)，所以光刻技術(shù)要重復(fù)多次，保證在每個(gè)晶粒上都刻蝕了所需要的圖案。如何進(jìn)行此種重復(fù)過(guò)程，在現(xiàn)有技術(shù)中，一般有兩種方法，一是光刻鏡頭固定，移動(dòng)放置晶圓的工作臺(tái)，依次刻蝕每個(gè)晶粒，二是移動(dòng)光刻鏡頭，而放置晶圓的工作臺(tái)固定。此兩種方法的缺...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。