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      半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的清洗方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號:10625644

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      NAND閃存是一種比硬盤驅(qū)動器更好的存儲方案,這在不超過4GB的低容量應(yīng)用中表現(xiàn)的尤為明顯。由于人們持續(xù)追求功耗更低、重量更輕和性能更佳的產(chǎn)品,NAND的優(yōu)勢逐漸顯現(xiàn),對追求極致的業(yè)內(nèi)人士有著非凡的吸引力。在美好的市場前景的驅(qū)使下,行業(yè)中對NAND結(jié)構(gòu)進行了不懈的探索,開發(fā)出了一層為存儲單元、另一層為隔離層的電容結(jié)構(gòu)。而電容的深孔結(jié)構(gòu)由氧化硅構(gòu)成,隔離層則是由氮化硅構(gòu)成。但是,這種簡單的NAND結(jié)構(gòu)已經(jīng)不足以滿足用戶的需求,人們苛刻地要求存儲結(jié)構(gòu)的尺寸需要...
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