技術(shù)編號(hào):10625878
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。自從早年德州儀器的Jack Kilby博士發(fā)明了集成電路之時(shí)起,科學(xué)家和工程師已經(jīng)在半導(dǎo)體器件和工藝方面作出了眾多發(fā)明和改進(jìn)。近50年來(lái)半導(dǎo)體尺寸已經(jīng)有了明顯的降低,這導(dǎo)致了不斷增長(zhǎng)的處理速度和不斷降低的功耗。迄今為止,半導(dǎo)體的發(fā)展大致遵循著摩爾定律,摩爾定律大意是指密集集成電路中晶體管的數(shù)量約每?jī)赡攴丁,F(xiàn)在,半導(dǎo)體工藝正在朝著20nm以下發(fā)展,其中一些公司正在著手14nm工藝。這里提供一個(gè)參考,硅原子約為0.2nm,這意味著通過(guò)20nm工藝制造出的兩個(gè)...
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