技術(shù)編號：10645751
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。在物理氣相沉積制備薄膜的過程中，高能離子束流轟擊固體表面，從而使固體表面的原子由于物理濺射作用離開固體，然后沉積在基底表面形成薄膜，被轟擊的固體是為薄膜的生長提供原材料的濺射源，稱為濺射靶材，其組成材料主要包括各種純金屬、合金以及無機非金屬材料(陶瓷)，常見的幾何形態(tài)為圓片狀和長方體板狀。濺射靶材通過物理氣相沉積制備的薄膜主要應(yīng)用在半導體、電子、信息產(chǎn)業(yè)，玻璃鍍膜領(lǐng)域，高檔裝飾用品行業(yè)，以及提高材料耐磨、耐腐蝕的場合等等，其中在半導體、電子、信息產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)...
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