技術(shù)編號：10680526
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 物理氣相沉積(Physical化por D邱osition，PVD)鍛膜工藝，與溶膠-凝膠法W及 化學(xué)氣相沉積(化6111；1，00))相比，具有優(yōu)異的可控性^及長時間的 工藝穩(wěn)定性，與脈沖激光沉積(Pulsed Laser D邱osition，PLD)等相比，在大面積連續(xù)鍛膜 的領(lǐng)域具有很大的優(yōu)勢。 然而在鍛膜過程中，也存在很多對薄膜性能影響的因素，例如儀器設(shè)備的穩(wěn)定狀 況，各種工藝參數(shù)鍛膜腔體的真空度、薄膜的沉積速率、基片溫度、退火過程，等等。因而，...
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