技術(shù)編號：10694234
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本文中公開的實施方式包括消除系統(tǒng)，所述消除系統(tǒng)用于消除在半導(dǎo)體工藝中產(chǎn)生的化合物。消除系統(tǒng)包括等離子體源，所述等離子體源具有第一板件及平行于第一板件的第二板件。電極安置于第一板件與第二板件之間，且外壁安置于第一板件與第二板件之間，所述外壁圍繞所述電極。等離子體源具有安置于第一板件上的第一多個磁體，及安置于第二板件上的第二多個磁體。由第一多個磁體及第二多個磁體產(chǎn)生的磁場大體上垂直于在電極與外壁之間產(chǎn)生的電場。在此配置中，產(chǎn)生密集等離子體。專利說明霍爾效應(yīng)増強...
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