技術(shù)編號(hào)：10697335
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 在光刻技術(shù)中，例如實(shí)施W下工序在基板上形成由抗蝕劑材料形成的抗蝕劑膜， 隔著形成了規(guī)定圖案的掩模，用光、電子束等放射線對(duì)該抗蝕劑膜進(jìn)行選擇性的曝光，實(shí)施 顯影處理，由此，在上述抗蝕劑膜上形成規(guī)定形狀的抗蝕劑圖案。 將曝光的部分轉(zhuǎn)變成溶解于顯影液的特性的抗蝕劑材料稱為正型，將曝光的部分 轉(zhuǎn)變成不溶于顯影液的特性的抗蝕劑材料稱為負(fù)型。 近年來(lái)，在半導(dǎo)體元件、液晶顯示元件的制造中，由于光刻（lithography)技術(shù)的 進(jìn)步，圖案的微細(xì)化發(fā)展迅速。 作為微細(xì)...
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