技術(shù)編號(hào):10727478
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。以往,已知有一種互補(bǔ)光刻法,利用使用電子束等帶電粒子束的曝光技術(shù)對(duì)線寬為數(shù)十納米左右的利用光學(xué)曝光技術(shù)而形成的單純的線圖案進(jìn)行加工,由此形成微細(xì)的配線圖案(例如,參照專利文獻(xiàn)I及2)。另外,也已知有一種使用多個(gè)帶電粒子束的多射束曝光技術(shù)(例如,參照專利文獻(xiàn)3及4)。專利文獻(xiàn)I日本專利特開2013-16744號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本專利特開2013-157547號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3美國(guó)專利第7276714號(hào)說明書專利文獻(xiàn)4日本專利特開2013-93566號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。