技術(shù)編號：10791593
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。磁控濺射是一種廣泛使用濺射靶材進行大規(guī)模Low-E玻璃鍍膜，太陽能電池鍍膜，平板顯示屏觸摸屏鍍膜，光通信和磁儲存鍍膜及裝飾鍍膜的鍍膜技術(shù)。濺射靶材通常有兩類平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材。近年來，隨著鍍膜技術(shù)的高速發(fā)展，對靶材的利用率要求越來越高，但是平面靶材利用率只有20-30%，只能用冷等靜壓加燒結(jié)或熱等靜壓方法生產(chǎn)出一節(jié)節(jié)靶管，然后通過綁定到背管上形成大尺寸靶材?，F(xiàn)在最常用的綁定方法有用銦從垂直方向綁定，銦不僅價格昂貴，而且熔點低，靶材使用時會產(chǎn)生脫靶現(xiàn)象，另一...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。