技術編號：10889787
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。離子鍍在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法)、多弧離子鍍(陰極電弧離子鍍)等。目前現(xiàn)有的等離子鍍膜機操控不方便，造成不能有效地控制沉積過程，不能改善鍍層的物理性質，結構安裝拆卸不方便。實用新型內容本實用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術的不足，提供一種調控方便，有效地控制沉積過程，改善了鍍層的物理...
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