技術(shù)編號：10920890
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。在TFT-LCD行業(yè)涂膠顯影制程工藝中，由于曝光設(shè)備的造價非常高，因此在曝光設(shè)備前設(shè)置緩存裝置放置基板來避免曝光設(shè)備的閑置，緩存裝置的兩側(cè)都需要機械手進行來進行取放基板，緩存裝置長時間使用會存在異物，異物附著在基板上會影響后續(xù)基板的曝光，為避免緩存裝置對基板的曝光造成影響，需要定期維護保養(yǎng)緩存裝置。目前緩存裝置的設(shè)計均是采用將多層固定支架全部采用螺絲固定在4個豎直的立柱上，每層固定支架上方設(shè)有多個支撐柱，基板放置在支撐柱上，這樣在進行設(shè)備保養(yǎng)維護時就必須花...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。