技術(shù)編號：11023619
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。已知磁控濺射鍍膜是指利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場的作用下撞向靶材表面從而濺射出靶材，沉積在玻璃基片上形成薄膜。已知現(xiàn)有的平面陰極有利用率較低，往往只能達到20%_30%。為了提高靶材的利用率，旋轉(zhuǎn)靶材逐步被市場使用起來。但旋轉(zhuǎn)靶材鍍膜的均勻性并不好，內(nèi)部的磁棒起到了決定性的作用。已知鍍膜玻璃的均勻性對玻璃的品質(zhì)起到至關(guān)重要的作用。而在生產(chǎn)過程中均勻性的調(diào)節(jié)一直是困饒生產(chǎn)的一大...
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