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      橢偏儀測(cè)量超薄膜層的精度提升方法和裝置與制造工藝技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):11130561

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      本發(fā)明涉及橢偏儀測(cè)量,特別是一種提升橢偏儀測(cè)量超薄膜層精度的裝置和方法。背景技術(shù)光學(xué)薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)將直接影響薄膜的力學(xué)、光學(xué)、電磁學(xué)等性質(zhì)。精確測(cè)定超薄薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),對(duì)于研究其光學(xué)、電磁學(xué)等性質(zhì)尤為重要。因此,精確表征和控制薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)在薄膜的制備、分析和應(yīng)用中起著關(guān)鍵的作用。由于超薄薄膜的厚度很小,超薄薄膜的光學(xué)常數(shù)相對(duì)于體材料存在一定差異,而目前人們對(duì)超薄薄膜的認(rèn)識(shí)還不夠深入,很難對(duì)其進(jìn)行標(biāo)定,這些原因使得超薄薄膜的表征變得非常困難?,F(xiàn)有的光學(xué)薄膜檢測(cè)技術(shù)中,主要是利用...
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