技術(shù)編號(hào)：11141530
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開內(nèi)容的實(shí)施方式一般地涉及基板處理設(shè)備。背景技術(shù)一些氣體處理系統(tǒng)利用射頻(RF)能量以將在管道內(nèi)的等離子體點(diǎn)燃而至少部分地破壞或分解(breakdown)流動(dòng)經(jīng)過管道的氣體。例如，RF能量可被提供至被設(shè)置在介電管的周圍的導(dǎo)電線圈以促進(jìn)將流動(dòng)經(jīng)過介電管的氣體點(diǎn)燃以形成等離子體而用以處理氣體。然而，介電管的內(nèi)壁不合需要地隨著時(shí)間而變?yōu)槭艿角治g的，并需要被替換。發(fā)明人已經(jīng)觀察到：替換介電管通常需要替換被耦接至介電管的昂貴的部件。因而，發(fā)明人已經(jīng)提供一種用于處理在管道中的氣體的改善的氣體處理系統(tǒng)，所...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。