技術(shù)編號(hào)：11152911
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光刻參數(shù)調(diào)整方法及裝置、掩膜板。背景技術(shù)顯示裝置通常包括對(duì)盒成形的陣列基板和彩膜基板，以及充填在陣列基板和彩膜基板之間的液晶。光刻工藝是陣列基板和/或彩膜基板制備過(guò)程中的關(guān)鍵工藝，其能夠通過(guò)光刻設(shè)備將掩膜板上的圖形(英文：Pattern)轉(zhuǎn)移到陣列基板和/或彩膜基板上。其中，光刻工藝通常包括光刻膠涂覆、曝光和顯影，相應(yīng)的，光刻設(shè)備包括涂覆設(shè)備、曝光設(shè)備和顯影設(shè)備。其中，為了保證光刻工藝的均勻性(例如光刻膠厚度的均勻性、曝光的均勻性等)，通常需要對(duì)光刻工藝的光刻...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。