技術(shù)編號：11152937
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于印刷電路板行業(yè)無掩模光刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于無掩模掃描光刻的大面積曝光方法。背景技術(shù)數(shù)字微鏡器件（如TI公司的DMD）是一個由許多微鏡鏡面構(gòu)成的長方形陣列，無掩模光刻系統(tǒng)采用特定頻率的激光照射DMD，通過控制小微鏡的旋轉(zhuǎn)角度，可以將特定的圖像投影在光刻膠上。無掩膜光刻采用上述微鏡直接將圖像反射在光刻膠上，省去了掩膜板，不僅降低了成本，而且提高了曝光的靈活性和工業(yè)生產(chǎn)效率。掃描光刻是DMD在運(yùn)動的過程中，保持DMD中圖像的反向移動，從而在平臺上形成穩(wěn)定的投影。由于光刻膠需要一定的曝...
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