技術(shù)編號：11172248
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種基于微尺寸近臨界密度等離子體的伽馬射線源及產(chǎn)生方法，它可以作為高性能伽馬射線源應(yīng)用于高能量密度物理，材料狀態(tài)檢測以及癌癥治療等領(lǐng)域。背景技術(shù)緊聚焦短脈沖高能電子束與高Z金屬材料相互作用可以產(chǎn)生脈沖式伽馬射線源，這種源具有空間尺寸小(約數(shù)十微米)、發(fā)散度小(毫弧度量級)、能量高(光子能量可達(dá)MeV)等優(yōu)點(diǎn)，因而在以下方面有十分巨大的應(yīng)用前景：1)正電子產(chǎn)生；2)高Z元素金屬材料照相，探測高Z材料內(nèi)部特性。這種新型超快緊聚焦脈沖式伽馬射線源研究引起了世界各國科學(xué)家的極大興趣。一般認(rèn)為，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。