技術(shù)編號(hào)：11180469
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種硅片清洗裝置。背景技術(shù)隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，硅片的應(yīng)用越來越廣，在各種領(lǐng)域中都得到了應(yīng)用，半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗，微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無機(jī)物，這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面，有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維，無機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電；顆...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。