技術(shù)編號(hào)：11229507
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種陣列基板、液晶面板、顯示設(shè)備及陣列基板的制作方法。背景技術(shù)在液晶面板的制作過程中，為保證陣列側(cè)像素電極氧化銦錫導(dǎo)電膜層(Indiumtinoxide，ITO)的蝕刻均勻，在外圍的扇形走線區(qū)域通常會(huì)放置一些無用的ITO圖案，稱之為外圍ITO層。外圍扇形走線區(qū)的線距一般為4-8um左右，這種間距對(duì)于制程要求較為苛刻，一些灰塵、微粒等雜質(zhì)極易導(dǎo)致不同導(dǎo)線間連通，發(fā)生短路。通常金屬走線發(fā)生短路后會(huì)影響產(chǎn)品的功能，在后端的制程中可以通過一系列的方法檢測(cè)出來并進(jìn)行修補(bǔ)，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。