技術編號：11229803
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及熱處理裝置，具體地說是一種熱處理用真空爐分區(qū)溫度控制系統(tǒng)。背景技術真空爐被作為熱處理行業(yè)設備更新?lián)Q代的裝備之一,其重要原因是真空爐處理的產(chǎn)品零件表面光亮、少無氧化、性能好、精度高,真空爐生產(chǎn)運行中易實現(xiàn)節(jié)能、降耗、減污,屬于清潔生產(chǎn)裝備,符合當今環(huán)保的要求。真空中氣體分子極少，分子的自由程變大，因此可以生產(chǎn)出常壓下無法得到的輕稀有金屬、難熔金屬、稀有金屬及其它特種合金材料等?，F(xiàn)有技術中，加熱爐的內(nèi)溫度控制方法包括單區(qū)溫度控制及多區(qū)溫度控制兩種。如圖1所示，其示出了一種現(xiàn)有的熱處理用真空...
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