技術(shù)編號(hào)：11249933
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種浸液限制機(jī)構(gòu)及溫度補(bǔ)償方法。背景技術(shù)現(xiàn)代光刻設(shè)備以光學(xué)光刻為基礎(chǔ)，它利用光學(xué)系統(tǒng)把掩模板上的圖形精確地投影曝光到涂過(guò)光刻膠的襯底(如基底)上。浸沒(méi)式光刻是指在曝光鏡頭與基底之間充滿水(或更高折射的浸沒(méi)液體)以取代傳統(tǒng)干式光刻技術(shù)中對(duì)應(yīng)的空氣。由于水的折射率比空氣大，可以使透鏡組的數(shù)值孔徑增大，進(jìn)而可獲得更加小的特征線寬?，F(xiàn)有浸沒(méi)式光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)如圖1所示，在該裝置中，主框架1’支撐一照明系統(tǒng)2’、一投影物鏡4’和一基底臺(tái)8’，基底臺(tái)8’上放置一涂有感光光刻膠的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。