技術(shù)編號(hào)：11252588
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及顯示基板制作技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜版、過孔的制作方法及顯示基板的制作方法。背景技術(shù)目前，在顯示基板的制作工藝中，通常需要在某些薄膜中制作過孔。現(xiàn)有技術(shù)中，制作過孔時(shí)，通常在待制作過孔的薄膜上形成光刻膠，然后用掩膜版對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光，然后對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影，光刻膠內(nèi)形成與待制作的過孔對(duì)應(yīng)的孔狀結(jié)構(gòu)，然后對(duì)薄膜與光刻膠內(nèi)孔狀結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)的區(qū)域進(jìn)行刻蝕，形成過孔。采用上述方法制作過孔時(shí)，掩膜版上的透光孔的直徑與過孔的直徑相對(duì)應(yīng)，對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光和顯影后，光刻膠內(nèi)形成的孔狀結(jié)構(gòu)的孔壁相對(duì)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。