技術編號：11284385
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種新型的納米薄膜厚度的檢測技術，具體地說是一種基于超聲輔助原子力顯微鏡(AFM)技術的新型納米薄膜檢測模式-相位檢測模式的檢測裝置和方法。主要用于需要納米薄膜厚度檢測的領域，包括材料、生命科學等各個領域。背景技術納米薄膜對納米技術的發(fā)展十分重要。在新型材料領域，以二維材料為代表的納米薄膜有望取代硅基材料成為新的電子基礎材料。然而，大部分的二維納米材料需要在特定厚度的狀態(tài)下才能發(fā)揮出其優(yōu)異的電學、磁學、光學或者力學性能。比如單層的石墨烯是最薄、強度最大、導電導熱性能最強的一種新型納米材...
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