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技術(shù)編號(hào)：11401075

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本發(fā)明屬于液晶顯示器領(lǐng)域，尤其涉及一種化學(xué)氣相沉積工藝腔室及其清洗終點(diǎn)監(jiān)測(cè)方法。背景技術(shù)在目前的液晶顯示面板的陣列基板制造過程中，成膜機(jī)臺(tái)主要有2中，分別為PVD(PhysicalVaporDeposition物理氣相沉積)機(jī)臺(tái)和CVD(ChemicalVaporDeposition化學(xué)氣相沉積)機(jī)臺(tái)，其中PVD通過物理濺射沉積(也稱為物理氣相沉積)方法沉積Mo、Al、Ti、Cu等金屬膜和ITO(IndiumTinOxide氧化銦錫)、IGZO(IndiumGalliumZincOxide銦鎵鋅...
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