技術(shù)編號：11528686
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。苛性水性烷基糖苷剝離劑組分相關(guān)申請的交叉引用本申請要求2014年8月19日提交的美國臨時專利申請No.62/039,228的優(yōu)先權(quán)，在此該申請的全部內(nèi)容通過引用并入本申請中。背景技術(shù)聚合物底物，例如在循環(huán)過程中形成的塑料再研磨料，可能包括不合需要的涂層。例如，涂層可能包括油墨、標簽、粘合劑、金屬薄膜，等。在進一步使用這些底物例如用于塑料制品制造的再生原料之前，需要處理這些聚合底物以移除不合需要的涂層?，F(xiàn)有工藝使用極苛性溶液、高溫和/或高壓，或者高成本試劑清除涂層。本申請理解從聚合物底物清除涂層可...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。